[發(fā)明專利]一種判別不同素面鐳射母版微觀結(jié)構(gòu)的方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201710230382.0 | 申請日: | 2017-04-10 |
| 公開(公告)號: | CN106950182B | 公開(公告)日: | 2019-06-25 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 黃敏;石冰潔;何瑞麗;李修;何曉輝;羅長輝 | 申請(專利權(quán))人: | 北京印刷學(xué)院 |
| 主分類號: | G01N21/25 | 分類號: | G01N21/25 |
| 代理公司: | 北京市廣友專利事務(wù)所有限責(zé)任公司 11237 | 代理人: | 耿小強(qiáng) |
| 地址: | 102600 北*** | 國省代碼: | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 判別 不同 鐳射 母版 微觀 結(jié)構(gòu) 方法 | ||
1.一種判別不同素面鐳射母版微觀結(jié)構(gòu)的方法,包括如下步驟:
(1)固定素面鐳射母版,選取素面鐳射母版上任一處位置,保證顏色測量儀器測量孔徑與測量點(diǎn)相對位置不變,改變顏色測量儀器與鐳射母版的夾角,顏色測量儀器的探測角度設(shè)定為45°,依次測量夾角分別為0°、5°、10°、15°、20°、25°、30°、35°、40°和45°時的色度值L*值;對需要判別微觀結(jié)構(gòu)的不同素面鐳射母版,分別進(jìn)行上述測量;
(2)標(biāo)記步驟(1)中測量得到的各素面鐳射母版10組L*值中最大值出現(xiàn)的夾角位置;
(3)選取其中一塊素面鐳射母版作為標(biāo)準(zhǔn)母版,將其L*值最大值出現(xiàn)的夾角位置定義為初始測量角度位置;
(4)將各待比較素面鐳射母版L*值最大值出現(xiàn)的位置與標(biāo)準(zhǔn)母版L*值最大值出現(xiàn)的位置對齊,調(diào)整、校正各待比較素面鐳射母版的初始測量角度位置;比較不同素面鐳射母版L*值最大值出現(xiàn)的位置,將各素面鐳射母版L*值最大值出現(xiàn)的位置定義為初始測量角度位置;當(dāng)待比較素面鐳射母版的L*值最大值對應(yīng)角度比標(biāo)準(zhǔn)母版L*值最大值對應(yīng)角度大時,則將待比較素面鐳射母版逆時針旋轉(zhuǎn)兩個測量角度間的差值,此差值為標(biāo)準(zhǔn)母版所在角度-待比較素面鐳射母版角度;反之,則將待比較素面鐳射母版順時針旋轉(zhuǎn)兩個測量角度間的差值;
(5)用顏色測量儀器采集標(biāo)準(zhǔn)母版和待比較素面鐳射母版上任一處位置的光譜信息;在保證顏色測量儀器測量孔徑與測量位置不變的情況下,旋轉(zhuǎn)顏色測量儀器,從初始位置開始,依次采集0°,45°夾角位置的光譜信息,并繪制顏色測量儀器在該夾角位置處,25°和45°探測角度接收并測量到的光譜能量分布曲線;
(6)根據(jù)繪制的光譜能量分布曲線形狀和峰值波長出現(xiàn)位置,結(jié)合光柵方程,比較、分析不同待測試素面鐳射母版與標(biāo)樣鐳射母版的微觀結(jié)構(gòu)差異。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的判別不同素面鐳射母版微觀結(jié)構(gòu)的方法,其特征在于:所述的素面鐳射母版上任一處位置或者標(biāo)準(zhǔn)母版和待比較素面鐳射母版上任一處位置,為素面鐳射母版上無明顯劃痕、蹭臟的平整區(qū)域。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的判別不同素面鐳射母版微觀結(jié)構(gòu)的方法,其特征在于:所述的顏色測量儀器為多角度分光光度計(jì),其測量條件為D65照明光源,10°視場,測量光譜范圍為400nm-700nm,間隔為10nm。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的判別不同素面鐳射母版微觀結(jié)構(gòu)的方法,其特征在于:所述的多角度分光光度計(jì)光源入射角為45°,光電探測器件接收角度分別為15°,25°,45°,75°和110°。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的判別不同素面鐳射母版微觀結(jié)構(gòu)的方法,其特征在于:所述的標(biāo)準(zhǔn)母版的初始測量角度位置定義為0°。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的判別不同素面鐳射母版微觀結(jié)構(gòu)的方法,其特征在于:將校正后各待比較素面鐳射母版的初始測量角度位置定義為0°。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的判別不同素面鐳射母版微觀結(jié)構(gòu)的方法,其特征在于:光柵方程為d(sini+sinj)=mλ;其中,d為光柵周期,i為入射角,j為衍射角,λ為入射光波長,m為衍射光級次,m=±1,2,3……。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于北京印刷學(xué)院,未經(jīng)北京印刷學(xué)院許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201710230382.0/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 上一篇:一種石斛苗床
- 下一篇:擠膏用夾緊及卸料裝置
- 同類專利
- 專利分類
G01N 借助于測定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來測試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段,即利用紅外光、可見光或紫外光來測試或分析材料
G01N21-01 .便于進(jìn)行光學(xué)測試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測試的材料在其中被激發(fā),因之引起材料發(fā)光或入射光的波長發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng),測試反應(yīng)的進(jìn)行或結(jié)果
G01N21-84 .專用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)





