[發(fā)明專利]強化玻璃基板及其制造方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201710220780.4 | 申請日： | 2014-03-10 |
| 公開（公告）號： | CN106977092B | 公開（公告）日： | 2020-04-24 |
| 發(fā)明（設計）人： | 村田隆;川本浩佑 | 申請（專利權）人： | 日本電氣硝子株式會社 |
| 主分類號： | C03C3/091 | 分類號： | C03C3/091;C03C3/097;C03C21/00 |
| 代理公司： | 中科專利商標代理有限責任公司 11021 | 代理人： | 蔣亭 |
| 地址： | 日本國*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 強化 玻璃 及其 制造 方法 | ||
1.一種強化玻璃基板的制造方法，其具有以下工序：
(1)將玻璃原料調(diào)制而得到玻璃母料的工序；
(2)將玻璃母料熔融，并將所得到的熔融玻璃成形為1.5mm以下的玻璃基板的工序；
(3)在玻璃基板的表面和背面形成膜的工序；
(4)將在表面和背面具有膜的玻璃基板進行離子交換處理，在玻璃基板的表面、背面及端面形成壓縮應力層，得到端面的應力深度大于主表面的應力深度的強化玻璃基板的工序；
(5)除去強化玻璃基板的表面和背面的膜的工序，
所述膜的厚度為5nm～1000nm，所述強化玻璃基板的主表面的應力深度DT/端面的應力深度DH的值為0.1～0.99。
2.根據(jù)權利要求1所述的強化玻璃基板的制造方法，其中，玻璃基板的表面和背面為未研磨。
3.根據(jù)權利要求1所述的強化玻璃基板的制造方法，其中，膜的厚度為5nm～300nm。
4.根據(jù)權利要求1所述的強化玻璃基板的制造方法，其中，包含SiO2作為膜的成分。
5.根據(jù)權利要求1所述的強化玻璃基板的制造方法，其中，強化玻璃基板的內(nèi)部拉伸應力值為200MPa以下。
6.根據(jù)權利要求1所述的強化玻璃基板的制造方法，其中，作為玻璃組成，強化玻璃基板以質量％計含有SiO2 45％～75％、Al2O3 1％～30％、Na2O 0％～20％、K2O 0％～20％。
7.根據(jù)權利要求1所述的強化玻璃基板的制造方法，其中，通過蝕刻除去強化玻璃基板的表面與背面的膜。
8.根據(jù)權利要求1所述的強化玻璃基板的制造方法，其中，將強化玻璃基板的表面與背面的膜完全除去。
9.根據(jù)權利要求1所述的強化玻璃基板的制造方法，其中，通過濺射法在玻璃基板的表面與背面形成膜。
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