[發明專利]計算型視覺成像光線調制裝置和方法有效
| 申請號: | 201710218540.0 | 申請日: | 2017-04-05 |
| 公開(公告)號: | CN107085296B | 公開(公告)日: | 2023-06-16 |
| 發明(設計)人: | 趙首博;趙羽晴 | 申請(專利權)人: | 哈爾濱理工大學 |
| 主分類號: | G02B26/08 | 分類號: | G02B26/08 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 150080 黑龍*** | 國省代碼: | 黑龍江;23 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 計算 視覺 成像 光線 調制 裝置 方法 | ||
1.一種計算型視覺成像光線調制方法,其中,所采用的計算型視覺成像光線調制裝置包括物鏡(1)、DMD(2)、壓電位移器(3)、中繼透鏡(4)和CCD(5);所述的物鏡(1)、物方工作面和DMD(2)基準面三者符合斜置場面成像條件,即物鏡(1)主面、物方工作面和DMD(2)基準面相交于一線,物方工作面和DMD(2)基準面互為共軛;所述的DMD(2)通過控制時間占空比調制投射其上的光線強度;所述的壓電位移器(3)帶動DMD(2)沿中繼透鏡(4)光軸前后運動,與DMD(2)基準面構成正、負位移差;所述的中繼透鏡(4)將經DMD(2)調制的光線成像到CCD(5)上;所述的CCD(5)分別對DMD(2)在正、負兩種位移差狀態下的調制光線感光成像,其特征在于,包括以下步驟:
設置DMD(2)圖案為二維點陣,調整壓電位移器(3)帶動DMD(2)沿中繼透鏡(4)光軸前后運動,觀察CCD(5)上彌散斑從大變小再變大,記錄下彌散斑尺寸相等的DMD(2)兩個位置P1和P2,分別與DMD(2)基準面構成正、負位移差±Δ;
Δ=(P2-?P1)/2????????????(1)
設中繼透鏡(4)的通光孔徑為2a,CCD(5)相對DMD(2)基準面的垂軸放大率β=l/l’,l是中繼透鏡(4)到CCD(5)的距離,l’是中繼透鏡(4)到DMD(2)基準面的距離,則彌散斑的半徑值r為:
r=aΔl/l'2???????????????(2)
通過CCD(5)記錄的彌散斑尺寸可以求得中繼透鏡(4)的通光孔徑參數2a;
對于CCD(5)坐標(x,y)的光強由DMD(2)一個圓斑區域上指向(x,y)的成像光線貢獻;
DMD(2)在負位移差-Δ狀態下,這個圓斑區域Su-,v-以aΔ/l’為半徑的區域,以(u0-,v0-)為圓心:
DMD(2)在正位移差Δ狀態下,這個圓斑區域Su+,v+以aΔ/l’為半徑的區域,以(u0+,v0+)為圓心:
與CCD(5)坐標(x,y)共軛的DMD(2)基準面上點(u0,v0):
可得DMD(2)在負位移差-Δ狀態下CCD(5)坐標(x,y)的光強為:
也可得DMD(2)在正位移差Δ狀態下CCD(5)坐標(x,y)的光強為:
k為成像常數,與系統靈敏度、像元感光面積相關;Ed0(u0,v0)為目標物(6)在DMD(2)基準面上的光強分布,反應目標物(6)真實成像特性;M-(u,v)為DMD(2)在負位移差Δ狀態下的調制函數;M+(u,v)為DMD(2)在正位移差Δ狀態下的調制函數;M-(u,v)和M+(u,v)是已知的可控量;
應用公式(6)或公式(7),在CCD(5)與DMD(2)所在面不共軛的條件下,可以實現DMD(2)對成像光線的調制。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于哈爾濱理工大學,未經哈爾濱理工大學許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201710218540.0/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:一種用于計算機領域的平板電腦固持裝置
- 下一篇:一種流域管理決策支持系統





