[發明專利]用于真空斷路器的真空斷流器

有效

• 申請號: 201710217129.1
• 申請日: 2017-04-05
• 公開（公告）號: CN107275148B
• 公開（公告）日: 2020-06-16
• 發明（設計）人: 柳在燮
• 申請（專利權）人: LS產電株式會社
• 主分類號: H01H33/662
• 分類號: H01H33/662
• 代理公司: 隆天知識產權代理有限公司 72003
• 代理人: 崔炳哲

1.一種用于真空斷路器的真空斷流器，其安裝在真空斷路器中并且構造為阻斷負載電流或事故電流的引入，其特征在于，所述真空斷流器包括：

上絕緣殼體；

布置在所述上絕緣殼體下方的下絕緣殼體；

固定電極部分，其安裝為固定到所述上絕緣殼體的內部；

致動電極部分，其安裝在所述下絕緣殼體的內部以面向所述固定電極部分并且與所述固定電極部分接觸或分開；以及

中間屏蔽件，其布置在所述上絕緣殼體與所述下絕緣殼體之間，以收容所述固定電極部分以及所述致動電極部分，所述中間屏蔽件使得在電流開斷過程中產生的金屬蒸汽不沉積在所述上絕緣殼體和所述下絕緣殼體的內壁，

一固定電極形成在所述固定電極部分的一端處，與所述固定電極接觸或分開的致動電極形成在所述致動電極部分的一端處，

所述中間屏蔽件的內徑形成為大于所述固定電極與所述致動電極之間的距離和所述固定電極的外徑的總和，或者所述中間屏蔽件的內徑形成為大于所述固定電極與所述致動電極之間的距離和所述致動電極的外徑的總和。

2.根據權利要求1所述的用于真空斷路器的真空斷流器，還包括設置在所述上絕緣殼體與所述下絕緣殼體內部的第一輔助屏蔽件。

3.根據權利要求2所述的用于真空斷路器的真空斷流器，其特征在于，所述第一輔助屏蔽件設有固定部分，所述上絕緣殼體包括第一上殼體以及布置在所述第一上殼體下方的第二上殼體，以允許所述固定部分適配在所述第一上殼體與所述第二上殼體之間，并且所述下絕緣殼體包括第一下殼體以及布置在所述第一下殼體下方的第二下殼體，以允許所述固定部分適配在所述第一下殼體與所述第二下殼體之間。

4.根據權利要求3所述的用于真空斷路器的真空斷流器，其特征在于，所述第一上殼體的上部長度與所述第二下殼體的下部長度相同，所述第二上殼體的上部長度與所述第一下殼體的下部長度相同。

5.根據權利要求1所述的用于真空斷路器的真空斷流器，其特征在于，

一第二輔助屏蔽件相應地形成在所述上絕緣殼體與所述中間屏蔽件之間以及形成在所述下絕緣殼體與所述中間屏蔽件之間，

所述第二輔助屏蔽件設有形成為向外地突出的突出部，

所述突出部具有形成為以圓形形狀或彎曲形狀向內彎曲的一端。

6.根據權利要求5所述的用于真空斷路器的真空斷流器，其特征在于，所述突出部和所述第二輔助屏蔽件形成為單個本體或通過焊接與所述第二輔助屏蔽件連接。

7.根據權利要求1所述的用于真空斷路器的真空斷流器，其特征在于，

所述中間屏蔽件具有等于或大于所述上絕緣殼體與所述下絕緣殼體中的每個的內徑的外徑。

8.根據權利要求1所述的用于真空斷路器的真空斷流器，其特征在于，

所述中間屏蔽件的直徑形成為小于所述上絕緣殼體與所述下絕緣殼體中每個的外徑。