[發明專利]化合物氟硼酸鉀和氟硼酸鉀非線性光學晶體及制備方法和用途

有效

• 申請號: 201710215349.0
• 申請日: 2017-04-03
• 公開（公告）號: CN106948003B
• 公開（公告）日: 2019-08-06
• 發明（設計）人: 潘世烈;張方方
• 申請（專利權）人: 中國科學院新疆理化技術研究所
• 主分類號: C30B29/10
• 分類號: C30B29/10;C30B15/00;C30B11/00;C30B17/00;C01B35/06
• 代理公司: 烏魯木齊中科新興專利事務所(普通合伙) 65106
• 代理人: 張莉

1.一種化合物氟硼酸鉀的制備方法，其特征在于該化合物的化學式為KB₄O₆F，分子量為197.34，采用固相合成法或真空封裝法制備，具體操作按下列步驟進行：

所述固相合成法制備化合物氟硼酸鉀：

將含K化合物、含B化合物和含F化合物按摩爾比K∶B∶F＝1∶4∶1混合均勻，裝入鉑金坩堝，置于馬弗爐中升溫至550-700℃，恒溫24-120小時，即得到化合物KB₄O₆F，所述含K化合物為KF、KOH、K₂CO₃、KNO₃、KHCO₃或KBF₄；含F化合物為KF或KBF₄；含B化合物為H₃BO₃、B₂O₃、KBF₄；

所述真空封裝法制備化合物氟硼酸鉀：

將含K化合物、含B化合物和含F化合物按摩爾比K∶B∶F＝1∶4∶1混合均勻，裝入石英管中，將石英管抽真空，真空度達到1 × 10^?3 Pa，高溫密封后置于馬弗爐中，以溫度5-10℃/h的速率升溫至550-700℃，恒溫24-120小時，即得到化合物KB₄O₆F，所述含K化合物為KF、KOH、K₂CO₃、KNO₃、KHCO₃或KBF₄；含F化合物為KF或KBF₄；含B化合物為H₃BO₃、B₂O₃、KBF₄。

2.一種氟硼酸鉀非線性光學晶體，其特征在于該晶體的化學式為KB₄O₆F，分子量為197.34，屬于正交晶系，空間群為Pna2₁，晶胞參數為a = 7.4638 ?，b = 11.2913 ?，c =6.5089 ?，α= β= γ= 90°，單胞體積為548.54 ?³。