[發(fā)明專利]快時(shí)間響應(yīng)半導(dǎo)體輻射探測(cè)器及其制作方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201710214218.0 | 申請(qǐng)日: | 2017-04-01 |
| 公開(公告)號(hào): | CN107153214B | 公開(公告)日: | 2019-06-07 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 韓和同;陳翔;傅錄祥;宋朝暉;管興胤;張子川;劉君紅;李剛;盧毅 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 西北核技術(shù)研究所 |
| 主分類號(hào): | G01T1/24 | 分類號(hào): | G01T1/24 |
| 代理公司: | 西安智邦專利商標(biāo)代理有限公司 61211 | 代理人: | 汪海艷 |
| 地址: | 710024 陜*** | 國省代碼: | 陜西;61 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 短波光源 半導(dǎo)體晶體 探測(cè)器 半導(dǎo)體輻射探測(cè)器 時(shí)間響應(yīng)特性 探測(cè)器本體 時(shí)間響應(yīng) 前蓋 輻射探測(cè)裝置 空間區(qū)域 脈沖輻射 中心波長 短波光 內(nèi)側(cè)壁 波長 禁帶 制作 指向 測(cè)量 發(fā)射 覆蓋 | ||
本發(fā)明涉及一種輻射探測(cè)裝置,具體涉及一種基于短波光注入的快時(shí)間響應(yīng)半導(dǎo)體輻射探測(cè)器及其制作方法,包括探測(cè)器本體,所述探測(cè)器本體包括探測(cè)器前蓋及半導(dǎo)體晶體,還包括短波光源,所述短波光源設(shè)置于探測(cè)器前蓋內(nèi)側(cè)壁上,短波光源指向半導(dǎo)體晶體中心,短波光源的發(fā)射角度覆蓋整個(gè)半導(dǎo)體晶體空間區(qū)域,短波光源的中心波長低于半導(dǎo)體晶體禁帶寬度對(duì)應(yīng)的波長。解決了晶體質(zhì)量對(duì)探測(cè)器時(shí)間響應(yīng)特性的影響,為脈沖輻射場(chǎng)測(cè)量提供具有快時(shí)間響應(yīng)特性的新型CZT探測(cè)器。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種輻射探測(cè)裝置,具體涉及一種基于短波光注入的快時(shí)間響應(yīng)半導(dǎo)體輻射探測(cè)器。
背景技術(shù)
碲鋅鎘(CdZnTe,簡稱CZT)是一種新型室溫化合物半導(dǎo)體材料,具有較高的平均原子序數(shù)、較高的密度、較高的電阻率以及較寬的禁帶寬度等綜合優(yōu)勢(shì)。
高的平均原子序數(shù),使CZT探測(cè)器對(duì)中高能X/γ射線具有較高的探測(cè)效率;高密度,使CZT探測(cè)器體積小,在群探測(cè)中具有較強(qiáng)的兼容性,在空間探測(cè)中具有極大的優(yōu)勢(shì);高電阻率和寬禁帶寬度,使CZT探測(cè)器在室溫下具有較低的暗電流,解決了常用的Si、Ge半導(dǎo)體輻射探測(cè)器的低溫應(yīng)用限制,有效降低了探測(cè)系統(tǒng)的復(fù)雜程度。
基于CZT的輻射探測(cè)技術(shù)研究,已為空間探測(cè)、醫(yī)療診斷以及工業(yè)探傷等領(lǐng)域提供了新的探測(cè)技術(shù)途徑。目前,得益于CZT材料的綜合優(yōu)勢(shì),CZT探測(cè)器在能譜測(cè)量方面已獲得了廣泛應(yīng)用,在脈沖輻射探測(cè)方面,有望提供一種具有快時(shí)間響應(yīng)(ns量級(jí))、高信噪比的室溫半導(dǎo)體輻射探測(cè)器,具有極大的研究價(jià)值和應(yīng)用前景。
現(xiàn)有的CZT探測(cè)器如圖1、圖2及圖3所示,包括外殼及CZT半導(dǎo)體組件,CZT半導(dǎo)體組件包括基板5、設(shè)置在基板5上的CZT單晶7、分別設(shè)置在CZT單晶7前后兩個(gè)端面的高壓電極層8和收集電極層9;CZT單晶7與高壓電極層8和收集電極層9之間均為歐姆接觸;基板5與探測(cè)器端面由銅柱4連接;信號(hào)輸出電路12附在基板5上,高壓電源13與CZT晶體7的高壓電極層8之間串接有10kΩ的電阻15,電阻與CZT晶體的高壓電極層之間通過100nF電容16接地。
然而,受到現(xiàn)有晶體生長技術(shù)限制,CZT晶體內(nèi)不可避免的存在缺陷,該缺陷在大多數(shù)類型的半導(dǎo)體輻射探測(cè)器晶體生長過程中都會(huì)被引入,這類缺陷對(duì)信號(hào)載流子的俘獲和去俘獲效應(yīng)嚴(yán)重影響探測(cè)器輻射探測(cè)性能,尤其影響CZT探測(cè)器時(shí)間響應(yīng)特性。信號(hào)載流子被陷阱俘獲后,需以某種方式(加熱、加電壓等)向其提供足夠的能量才能被陷阱釋放。信號(hào)載流子發(fā)生俘獲和去俘獲過程的時(shí)間間隔,就是信號(hào)載流子對(duì)探測(cè)器輸出信號(hào)的貢獻(xiàn)被延遲的時(shí)間。在高強(qiáng)度脈沖射線入射條件下,晶體內(nèi)產(chǎn)生了大量信號(hào)載流子,其在輸運(yùn)過程中受CZT晶體內(nèi)大量的載流子陷阱的俘獲和去俘獲作用,被陷阱俘獲的信號(hào)載流子輸運(yùn)時(shí)間被延長,在CZT探測(cè)器時(shí)間響應(yīng)曲線上表現(xiàn)為下降沿的拖尾現(xiàn)象,造成難以從探測(cè)器時(shí)間響應(yīng)曲線中獲取脈沖射線源的時(shí)間信息。
由于晶體內(nèi)缺陷對(duì)信號(hào)載流子俘獲和去俘獲效應(yīng),晶體質(zhì)量的不確定性使不同單晶CZT探測(cè)器時(shí)間響應(yīng)性能存在較大差異性,一方面使CZT探測(cè)器時(shí)間響應(yīng)曲線存在不同程度后沿拖尾問題,另一方面也增大構(gòu)建CZT探測(cè)器理論模型的困難,所構(gòu)建的模型與實(shí)際CZT探測(cè)器時(shí)間響應(yīng)特性存在差異。因此,亟需探索可行技術(shù)途徑,削弱甚至克服晶體質(zhì)量對(duì)CZT探測(cè)器時(shí)間響應(yīng)特性的影響,深化對(duì)CZT探測(cè)器輻射探測(cè)機(jī)理的認(rèn)識(shí),并進(jìn)一步擴(kuò)展探測(cè)器的適用范圍。
發(fā)明內(nèi)容
為了克服晶體質(zhì)量對(duì)探測(cè)器時(shí)間響應(yīng)特性的影響,本發(fā)明提供了一種基于短波光注入的快時(shí)間響應(yīng)半導(dǎo)體輻射探測(cè)器,其利用持續(xù)照射的短波光(光波長低于晶體禁帶寬度對(duì)應(yīng)的波長)注入方法在半導(dǎo)體晶體內(nèi)實(shí)現(xiàn)光載流子注入,使晶體內(nèi)陷阱一直處于充滿的狀態(tài),削弱缺陷對(duì)信號(hào)載流子的俘獲和去俘獲作用,實(shí)現(xiàn)改善探測(cè)器時(shí)間響應(yīng)曲線后沿拖尾問題。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于西北核技術(shù)研究所,未經(jīng)西北核技術(shù)研究所許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
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