[發(fā)明專利]一種衛(wèi)星的構(gòu)型設(shè)計(jì)方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201710213773.1
• 申請(qǐng)日: 2017-04-01
• 公開（公告）號(hào): CN107451316B
• 公開（公告）日: 2019-06-18
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 秦遠(yuǎn)田;楊宇曉;康國華;陳衛(wèi)東;廖文和;王彩云;茍永杰;康志宇;肖余之
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 南京航空航天大學(xué)
• 主分類號(hào): G06F17/50
• 分類號(hào): G06F17/50
• 代理公司: 江蘇圣典律師事務(wù)所 32237
• 代理人: 賀翔

本發(fā)明實(shí)施例公開了一種衛(wèi)星的構(gòu)型設(shè)計(jì)方法，涉及衛(wèi)星設(shè)計(jì)領(lǐng)域，緩減隱身與其他分系統(tǒng)的平衡設(shè)計(jì)問題。本發(fā)明包括：所述橄欖體的兩個(gè)正軸向投影為半徑800mm的圓弧，其中一個(gè)圓弧的圓弧中心距離中心軸距離為250mm，另一個(gè)圓弧的圓弧中心距離中心軸距離為150mm，所述正軸向投影的圓弧都外凸；橫截面投影由四個(gè)圓弧段組成，為半徑100mm的圓弧，且所述三個(gè)圓弧段的圓弧中心距離所述中心軸線距離130mm，所述四個(gè)圓弧段的圓弧都外凸。本發(fā)明適用于衛(wèi)星隱身設(shè)計(jì)。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及衛(wèi)星設(shè)計(jì)領(lǐng)域，尤其涉及衛(wèi)星的構(gòu)型設(shè)計(jì)方法。

背景技術(shù)

衛(wèi)星的RCS(Radar Cross-Section，雷達(dá)散射截面積)主要與衛(wèi)星的構(gòu)型、表面材料的導(dǎo)電性和介質(zhì)特性等因素有關(guān)。其中，構(gòu)型因素在實(shí)際的隱身效果中的貢獻(xiàn)率可達(dá)70％左右。

不同于大氣層內(nèi)航空器的隱身設(shè)計(jì)的方式，衛(wèi)星的構(gòu)型設(shè)計(jì)需要在保證衛(wèi)星總體技術(shù)性能指標(biāo)的前提下，將所有散射集中在少數(shù)幾個(gè)低威脅度方向上。但是，現(xiàn)在各國的衛(wèi)星構(gòu)型設(shè)計(jì)流程，通常是首先圍繞衛(wèi)星主任務(wù)(如通信、遙感等)及相應(yīng)的主載荷(天線、相機(jī)等)開展總體設(shè)計(jì)，在此基礎(chǔ)上，繼而對(duì)各個(gè)分系統(tǒng)提出設(shè)計(jì)要求。至于隱身設(shè)計(jì)，則是低于衛(wèi)星總體設(shè)計(jì)的。

在實(shí)際操作中，不論是當(dāng)前采用的設(shè)計(jì)工具，還是各類用于衛(wèi)星設(shè)計(jì)的仿真程序，在重點(diǎn)考慮衛(wèi)星主任務(wù)和主載荷的需求后，再對(duì)隱身分系統(tǒng)進(jìn)行設(shè)計(jì)時(shí)，往往已經(jīng)不具備實(shí)現(xiàn)最優(yōu)隱身性能的條件。

因此目前各國使用的幾種主要的衛(wèi)星平臺(tái)，都難以實(shí)現(xiàn)衛(wèi)星隱身與總體平臺(tái)的綜合優(yōu)化設(shè)計(jì)，都出現(xiàn)隱身性能低下的問題。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的實(shí)施例提供一種衛(wèi)星的構(gòu)型設(shè)計(jì)方法，提高了衛(wèi)星平臺(tái)的隱身性能。

為達(dá)到上述目的，本發(fā)明的實(shí)施例采用如下技術(shù)方案：

所述橄欖體的兩個(gè)正軸向投影為半徑800mm的圓弧，其中一個(gè)圓弧的圓弧中心距離中心軸距離為250mm，另一個(gè)圓弧的圓弧中心距離中心軸距離為150mm，所述正軸向投影的圓弧都外凸；

橫截面投影由四個(gè)圓弧段組成，為半徑100mm的圓弧，且所述三個(gè)圓弧段的圓弧中心距離所述中心軸線距離130mm，所述四個(gè)圓弧段的圓弧都外凸。

或者，所述構(gòu)型為一種三面仿生體：

兩個(gè)正軸向投影為半徑800mm的圓弧，所述正軸向投影的圓弧中心分別距離中心軸距離為880mm，所述正軸向投影的圓弧都外凸；

橫截面投影由三個(gè)圓弧段組成，為半徑100mm的圓弧，且所述三個(gè)圓弧段的圓弧中心距離所述中心軸線距離130mm，所述三個(gè)圓弧段的圓弧都內(nèi)凹。

或者，所述構(gòu)型為一種四面仿生體：

兩個(gè)正軸向投影為半徑800mm的圓弧，所述正軸向投影的圓弧中心分別距離中心軸距離為880mm，所述正軸向投影的圓弧都外凸；

橫截面投影由四個(gè)圓弧段組成，為半徑100mm的圓弧，且所述四個(gè)圓弧段的圓弧中心距離所述中心軸線距離130mm，所述四個(gè)圓弧段的圓弧都內(nèi)凹。

本發(fā)明實(shí)施例提供的衛(wèi)星的構(gòu)型設(shè)計(jì)方法，在設(shè)計(jì)過程中，實(shí)現(xiàn)衛(wèi)星隱身與總體平臺(tái)的綜合優(yōu)化設(shè)計(jì)，將衛(wèi)星的隱身設(shè)計(jì)提高至與總體設(shè)計(jì)相同的技術(shù)層級(jí)，在設(shè)計(jì)開始即考慮衛(wèi)星隱身與衛(wèi)星平臺(tái)的融合設(shè)計(jì)，提高了衛(wèi)星平臺(tái)的隱身性能。

附圖說明

為了更清楚地說明本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施例中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實(shí)施例，對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其它的附圖。

圖1a為本發(fā)明實(shí)施例提供的三面仿生體構(gòu)型的結(jié)構(gòu)示意圖；