[發(fā)明專利]線材卷繞鍍膜機(jī)有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201710209133.3 | 申請日: | 2017-03-31 |
| 公開(公告)號(hào): | CN106835051B | 公開(公告)日: | 2023-07-11 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 陳自新;朱海鋒;鄭立冬;李偉 | 申請(專利權(quán))人: | 無錫光潤真空科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | C23C14/35 | 分類號(hào): | C23C14/35;C23C14/56;B05B13/02 |
| 代理公司: | 無錫華源專利商標(biāo)事務(wù)所(普通合伙) 32228 | 代理人: | 聶啟新 |
| 地址: | 214000 江蘇省無錫市*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 線材 卷繞 鍍膜 | ||
1.線材卷繞鍍膜機(jī),其特征在于:包括真空腔室(1),于所述真空腔室(1)的內(nèi)部設(shè)置帶有線材的卷繞系統(tǒng)、用于在線材表面鍍膜的鍍膜系統(tǒng)、用于冷卻的水冷銅板(23)及用于噴涂硅油的噴硅油裝置(18),在所述真空腔室(1)的一側(cè)還設(shè)置用于保持真空腔室(1)內(nèi)高真空環(huán)境的抽真空系統(tǒng);
所述抽真空系統(tǒng)的具體結(jié)構(gòu)如下:
包括帶有主閥閥門(3)的主閥(2),所述主閥(2)的入口與真空腔室(1)連通,所述主閥(2)的出口通過第一真空管(4)連接粗抽閥門(5),所述粗抽閥門(5)通過第二真空管道(6)分別連接精抽閥門(7)及前級泵(8),所述精抽閥門(7)還與擴(kuò)散泵(9)連接;
所述卷繞系統(tǒng)的具體結(jié)構(gòu)如下:
包括放輥(13)及收輥(21),所述放輥(13)與放輥電機(jī)(11)的輸出端連接,所述收輥(21)與收輥電機(jī)(12)的輸出端連接,所述放輥(13)與收輥(21)之間通過需要鍍膜的同一組線材順序連接第一導(dǎo)向輥(14)、第二導(dǎo)向輥(15)、第三導(dǎo)向輥(17)及第四導(dǎo)向輥(19);所述線材按序經(jīng)過第一導(dǎo)向輥(14)、第二導(dǎo)向輥(15)、并沿第三導(dǎo)向輥(17)表面一次卷繞折返至第二導(dǎo)向輥(15),然后沿第二導(dǎo)向輥(15)表面二次卷繞后按序經(jīng)過第三導(dǎo)向輥(17)及第四導(dǎo)向輥(19);
所述鍍膜系統(tǒng)的具體結(jié)構(gòu)如下:
包括設(shè)置鍍膜室(16),于所述鍍膜室(16)內(nèi)分別設(shè)置上平面靶(22)及下平面靶(25),于所述上平面靶(22)及下平面靶(25)之間、在所述鍍膜室(16)的一側(cè)還設(shè)置充氣管(24);于收輥(21)及第四導(dǎo)向輥(19)之間、在所述真空腔室(1)內(nèi)還設(shè)置用于使線材卷纏繞均勻的撥線裝置(20);待真空腔室(1)內(nèi)真空抽至3*10-3Pa以下時(shí),充氣管(24)內(nèi)充入工作氣體,上平面靶(22)與下平面靶(24)加電壓進(jìn)行輝光放電,待輝光放電過程穩(wěn)定后,啟動(dòng)放輥電機(jī)(11)及收輥電機(jī)(12),線材由第一導(dǎo)向輥(14)傳遞并進(jìn)入鍍膜室(16)內(nèi)部,在經(jīng)過第二導(dǎo)向輥(15)、第三導(dǎo)向輥(17)時(shí)由上平面靶(22)與下平面靶(25)進(jìn)行磁控濺射鍍膜材料到線材上,在工作過程中由水冷銅板(23)實(shí)現(xiàn)工作溫度的降低,防止累積升溫,同時(shí)在鍍膜過程中還可以由噴硅油裝置(18)在線材表面噴硅油后再成卷。
2.如權(quán)利要求1所述的線材卷繞鍍膜機(jī),其特征在于:于所述真空腔室(1)的入口段還設(shè)置用于控制真空腔室(1)內(nèi)氣壓范圍的節(jié)流閥(10)。
3.如權(quán)利要求1所述的線材卷繞鍍膜機(jī),其特征在于:所述鍍膜室(16)設(shè)置于第二導(dǎo)向輥(15)、第三導(dǎo)向輥(17)的外圍。
4.如權(quán)利要求1所述的線材卷繞鍍膜機(jī),其特征在于:所述水冷銅板(23)與下平面靶(25)均固定于鍍膜室(16)的底板上。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





