[發明專利]晶片拋光系統

有效

• 申請號: 201710208706.0
• 申請日: 2017-03-31
• 公開（公告）號: CN108262691B
• 公開（公告）日: 2021-07-09
• 發明（設計）人: 白承元;李哉瞟
• 申請（專利權）人: 愛思開矽得榮株式會社
• 主分類號: B24B57/02
• 分類號: B24B57/02;B24B37/04;B24B53/017
• 代理公司: 上海專利商標事務所有限公司 31100
• 代理人: 茅翊忞

1.一種晶片拋光系統包括：

拋光單元；

漿料分配單元，所述漿料分配單元安裝在所述拋光單元上并分配漿料流入所述拋光單元內用于晶片拋光；

漿料儲罐，所述漿料儲罐連接到所述漿料分配單元并儲存漿料；

漿料泵，所述漿料泵連接到所述拋光單元和所述漿料儲罐，以將漿料從所述漿料儲罐傳輸到所述拋光單元；

第一循環管線，所述第一循環管線的一側連接到所述漿料儲罐；

第二循環管線，所述第二循環管線的一側連接到所述第一循環管線的另一側，而所述第二循環管線的另一側連接到所述漿料分配單元；

連接到所述第二循環管線的清潔液體供應單元，用來供應流過所述第二循環管線的清潔液體；

第三循環管線，所述第三循環管線連接所述拋光單元和所述漿料儲罐；

設置在所述第三循環管線內的排放裝置；

供應管線；

連接到排放裝置的第一排放管線；以及

連接到第一循環管線以排放殘存在第二循環管線內的清潔液體的第二排放管線，

其中，在拋光過程期間，關閉第二排放管線并且排放裝置使用第三循環管線以提供從拋光單元進入漿料儲罐的漿料，并且

其中，在清潔過程期間，打開第二排放管線并且排放裝置將從拋光單元流出的清潔液體排出到打開的第二排放管線，

其中，在排放殘存在第二循環管線內的清潔液體的過程中，第一手動閥和第一自動閥被關閉以堵塞清潔液體流入第二循環管線，并且第三自動閥被打開以將殘存在第二循環管線內的清潔液體通過第三排放管線排放到外界，

其中，漿料通過補給管線補充到漿料儲罐，

其中，所述供應管線包括止回閥，

其中，進一步包括：

流動控制閥和流量計；

控制器，所述控制器電氣地連接到所述流動控制閥和所述流量計；以及

報警器，所述報警器電氣地連接到所述控制器，

其中，當流過第二循環管線的漿料流量超出預定的范圍時，所述控制器將操作信號傳輸到所述報警器，并且

其中，當所述漿料流動時以及當所述清潔液體流動時，流量范圍被不同地設置。

2.如權利要求1所述的晶片拋光系統，其特征在于，進一步包括連接到所述第二循環管線的第三排放管線。

3.如權利要求2所述的晶片拋光系統，其特征在于，所述第三排放管線排放殘存在第二循環管線內的清潔液體。

4.如權利要求2所述的晶片拋光系統，其特征在于，所述流動控制閥和流量計設置在所述漿料分配單元和所述第三排放管線之間，并設置在所述第二循環管線內。

5.如權利要求2所述的晶片拋光系統，其特征在于，進一步包括設置在所述第三排放管線內的第三自動閥。

6.如權利要求1所述的晶片拋光系統，其特征在于，所述供應管線的一側連接到所述第二循環管線，而另一側連接到所述清潔液體供應單元，且所述供應管線中設置了止回閥、第一手動閥和第一自動閥。

7.如權利要求6所述的晶片拋光系統，其特征在于，進一步包括第二自動閥，所述第二自動閥設置在所述第一循環管線和所述供應管線之間，并設置在所述第二循環管線內。

8.如權利要求7所述的晶片拋光系統，其特征在于，進一步包括設置在所述漿料泵和所述第二自動閥之間的第一旁路管線，所述第一旁路管線的一側連接到所述第一循環管線，而另一側連接到所述漿料儲罐。

9.如權利要求8所述的晶片拋光系統，其特征在于，進一步包括設置在所述第一旁路管線內的第二手動閥。

10.如權利要求8所述的晶片拋光系統，其特征在于，進一步包括第二旁路管線，所述第二旁路管線設置在所述第一旁路管線從所述第一循環管線分支出來的分支點與所述第二自動閥之間，所述第二旁路管線的一側連接到所述第一循環管線，而另一側連接到所述漿料儲罐。

11.如權利要求10所述的晶片拋光系統，其特征在于，進一步包括設置在第二旁路管線內的第四自動閥。