[發明專利]基于多重分形維數的輻射源指紋特征提取方法

在審

• 申請號: 201710204722.2
• 申請日: 2017-03-30
• 公開（公告）號: CN106991393A
• 公開（公告）日: 2017-07-28
• 發明（設計）人: 李靖超;應雨龍;董春蕾;陳志敏;蘇科源;畢東媛
• 申請（專利權）人: 上海電機學院
• 主分類號: G06K9/00
• 分類號: G06K9/00
• 代理公司: 上海申匯專利代理有限公司31001
• 代理人: 翁若瑩,柏子雵

1.一種基于多重分形維數的輻射源指紋特征提取方法，其特征在于，包括以下步驟：

步驟1、對信號進行相空間重構，將信號分為N個小區域，第i個小區域的線度大小為ε_i，則第i個小區域的密度分布函數P_i用不同的標度指數α_i描述為：

$P_i={\mathrm{\ϵ}}_t^{{\mathrm{\α}}_i},i=1,2,...,N$

步驟2、將得到密度分布函數P_i代入：

$D_q=\frac{1}{q-1}\underset{\mathrm{\ϵ}\→0}{\lim }\frac{\ln X_q\left(\mathrm{\ϵ}\right)}{ln\mathrm{\ϵ}}=\frac{1}{q-1}\underset{\mathrm{\ϵ}\→0}{\lim }\frac{\ln \left(\underset{i=1}{\overset{N}{\Σ}}{P}_i^q\right)}{ln\mathrm{\ϵ}}$

計算得到廣義分形維數D_q即可得到信號的多重分形維數特征，式中：

X_q(ε)為各個區域的概率加權求和，

q為參數，當q＞＞1時，中概率大的區域起主要作用，此時的D_q和X_q(ε)反應的是概率高區域的性質；當q→∞時，忽略小的概率，而只考慮概率較大的密度分布函數P_i，從而對廣義分形維數D_q的計算進行簡化；當q＜＜1時，D_q和X_q(ε)反應的是概率小區域的性質；當q＝0，1，2時，分別定義D₀為容量維數、D₁為信息維數，D₂為關聯維數。