[發(fā)明專利]一種等離子體產(chǎn)生腔室和等離子體處理裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201710202609.0
• 申請(qǐng)日: 2017-03-30
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN108668422B
• 公開(kāi)（公告）日: 2021-06-08
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 肖德志
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 北京北方華創(chuàng)微電子裝備有限公司
• 主分類號(hào): H05H1/10
• 分類號(hào): H05H1/10;H01J37/32
• 代理公司: 北京薈英捷創(chuàng)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11726
• 代理人: 陳亞英

1.一種等離子體產(chǎn)生腔室，包括介質(zhì)筒和繞制在所述介質(zhì)筒外壁的線圈，所述線圈用于將射頻功率耦合至所述介質(zhì)筒內(nèi)，以激發(fā)所述介質(zhì)筒內(nèi)的氣體產(chǎn)生等離子體，其特征在于，還包括磁性元件，所述磁性元件圍設(shè)在所述線圈的外側(cè)，所述磁性元件能在所述介質(zhì)筒內(nèi)產(chǎn)生磁場(chǎng)，所述磁場(chǎng)的方向與所述介質(zhì)筒的軸線夾角大于0°且小于180°，所述磁性元件包括多個(gè)，多個(gè)所述磁性元件彼此相互間隔地圍設(shè)在所述線圈的外側(cè)，且任意相鄰的兩個(gè)所述磁性元件的極性相反，以使所述磁場(chǎng)的方向在所述介質(zhì)筒圓周截面上呈多個(gè)方向。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的等離子體產(chǎn)生腔室，其特征在于，多個(gè)所述磁性元件圍繞所述線圈一圈或多圈，且多圈所述磁性元件沿所述線圈的軸向依次等間隔排布。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的等離子體產(chǎn)生腔室，其特征在于，每圈所述磁性元件中，任意相鄰的兩個(gè)所述磁性元件之間的間距相等。

4.根據(jù)權(quán)利要求1-3任意一項(xiàng)所述的等離子體產(chǎn)生腔室，其特征在于，所述磁性元件的形狀為條狀或塊狀。

5.根據(jù)權(quán)利要求1-3任意一項(xiàng)所述的等離子體產(chǎn)生腔室，其特征在于，所述介質(zhì)筒包括多個(gè)，每個(gè)所述介質(zhì)筒內(nèi)用于相應(yīng)通入不同氣體；每個(gè)所述介質(zhì)筒外壁均繞制有所述線圈，且每個(gè)所述介質(zhì)筒上的所述線圈的外側(cè)均圍設(shè)有所述磁性元件。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的等離子體產(chǎn)生腔室，其特征在于，多個(gè)所述介質(zhì)筒的出口連通。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的等離子體產(chǎn)生腔室，其特征在于，所述介質(zhì)筒的材質(zhì)為石英或陶瓷。

8.一種等離子體處理裝置，包括等離子體反應(yīng)腔室，其特征在于，還包括權(quán)利要求1-7任意一項(xiàng)所述的等離子體產(chǎn)生腔室；所述等離子體產(chǎn)生腔室設(shè)置于所述等離子體反應(yīng)腔室上方，且所述等離子體產(chǎn)生腔室與所述等離子體反應(yīng)腔室之間通過(guò)勻流板連通，所述等離子體產(chǎn)生腔室內(nèi)產(chǎn)生的等離子體能通過(guò)所述勻流板進(jìn)入所述等離子體反應(yīng)腔室，以對(duì)置于所述等離子體反應(yīng)腔室內(nèi)的晶圓表面進(jìn)行處理。