[發(fā)明專利]一種機(jī)械攪拌型共聚氣浮耦合雙層平流沉淀池凈水系統(tǒng)及方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201710201670.3 | 申請(qǐng)日: | 2017-03-30 |
| 公開(公告)號(hào): | CN106865672A | 公開(公告)日: | 2017-06-20 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 王永磊;王文浩;王寧;王珊;張克峰;賈瑞寶;宋武昌;劉寶震;徐學(xué)信;薛舜;許斐 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 山東建筑大學(xué) |
| 主分類號(hào): | C02F1/24 | 分類號(hào): | C02F1/24;C02F1/78;B01D21/04;B01D21/08;B01D21/00;B01D21/28 |
| 代理公司: | 濟(jì)南泉城專利商標(biāo)事務(wù)所37218 | 代理人: | 李桂存 |
| 地址: | 251200 山東省濟(jì)*** | 國省代碼: | 山東;37 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 機(jī)械 攪拌 共聚 耦合 雙層 平流 沉淀 凈水 系統(tǒng) 方法 | ||
1.一種機(jī)械攪拌型共聚氣浮耦合雙層平流沉淀池凈水系統(tǒng),其特征在于:包括三級(jí)機(jī)械攪拌共聚絮凝池、氣浮接觸池、雙層平流式沉淀池、臭氧化溶氣氣浮裝置及釋放裝置;
(1)所述三級(jí)機(jī)械攪拌共聚絮凝池,包括三個(gè)混凝室,依次為混凝1室(4)、混凝2室(5)和混凝3室(6),每個(gè)混凝室內(nèi)設(shè)有1~2個(gè)機(jī)械轉(zhuǎn)軸(3),所述混凝1室(4)連接有進(jìn)水管(1);
(2)所述氣浮接觸池,包括氣浮接觸區(qū)(7)、刮渣設(shè)備(16)和依池壁而設(shè)的用于收集浮渣的浮渣去除槽(14);所述刮渣設(shè)備,包括鋪設(shè)于氣浮接觸區(qū)(7)池體上部的滑道以及沿滑道在水面上做往復(fù)運(yùn)動(dòng)的刮板;
(3)所述雙層平流式沉淀池,包括有進(jìn)水穿孔花墻(8)、排泥管(9)、污泥斗(10)、下層沉淀區(qū)(11)、擋板(12)、上層沉淀區(qū)(13)、浮渣去除槽(14)、流出渠(15)、刮渣設(shè)備(16)、刮泥行車(17),沿上層沉淀區(qū)(13)池體繞墻鋪設(shè)有出水管(24);所述上層沉淀區(qū)(13)和下層沉淀區(qū)(11)之間設(shè)置中間層隔墻,所述擋板(12)位于上層沉淀區(qū)(13)內(nèi),且設(shè)置在分隔上層沉淀區(qū)(13)和下層沉淀區(qū)(11)的中間層隔墻末端;所述浮渣去除槽(14)與流出渠(15)相鄰建設(shè);所述刮泥行車(17)依上層沉淀區(qū)(13)墻體設(shè)置滑道,刮泥行車(17)的刮板下端設(shè)置在中間層隔墻處并可沿滑道進(jìn)行往復(fù)運(yùn)動(dòng);所述刮渣設(shè)備(16),包括滑道和刮板,滑道鋪設(shè)于上層沉淀區(qū)(13)的池體上方,刮板可在水面上沿滑道做往復(fù)運(yùn)動(dòng);所述進(jìn)水穿孔花墻(8)設(shè)置在下層沉淀區(qū)(11)的前段,與氣浮接觸池相連接;所述污泥斗(10)設(shè)置在下層沉淀區(qū)(11)的底部,并連接有排泥管(9);
(4)所述臭氧化溶氣氣浮裝置,包括有回流水泵(18),所述回流水泵入口端與雙層平流式沉淀池的出水管(24)相連接,出口端連接有壓力容器罐(21);所述壓力容器罐(21)通過設(shè)有閥門的管道分別連接有空壓機(jī)(19)和臭氧發(fā)生器(20);
(5)所述釋放裝置,包括回流管(23)和溶氣釋放器(22),所述溶氣釋放器分別設(shè)置在混凝2室(5)、氣浮接觸池(7)和下層沉淀區(qū)(11)的底部,回流管(23)與溶氣釋放器(22)通過三通管件連接;所述回流管(23)初始端連接在壓力容器罐(21)上,并設(shè)有控制閥門。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的凈水系統(tǒng),其特征在于:所述混凝1室(4)為保證混凝效果,設(shè)有兩個(gè)機(jī)械轉(zhuǎn)軸(3);所述機(jī)械轉(zhuǎn)軸(3)的安裝應(yīng)遵循下述要求:最上層葉輪漿板頂端應(yīng)設(shè)于池子水面下0.5m處,最下層葉輪漿板底端,設(shè)于距池底0.5~1.0m處,漿板外緣與池壁間距不大于0.25m。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的凈水系統(tǒng),其特征在于:所述雙層平流沉淀池,長寬比為4:1,長度與水深比為10:1;所述中間層隔墻采用向上5‰的坡度設(shè)計(jì)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的凈水系統(tǒng),其特征在于:所述壓力容器罐(21)用于制備溶氣水,溶氣壓力為0.30~0.45Mpa;所述回流水泵(18)與壓力容器罐(21)之間的連接管路上設(shè)有閥門,壓力容器罐(21)與空壓機(jī)(19)、臭氧發(fā)生器(20)之間的連接管路上設(shè)有閥門。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的凈水系統(tǒng),其特征在于:所述溶氣釋放器(22)在混凝2室(5)、氣浮接觸池(7)和下層沉淀區(qū)(11),釋放溶氣水的比例為1:2:4。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的凈水系統(tǒng),其特征在于:所述三極機(jī)械攪拌共聚絮凝池、氣浮接觸池(7)、雙層平流式沉淀池依次連接;所述臭氧化溶氣氣浮裝置設(shè)于池體外,通過回流管輸送高壓溶氣水到釋放裝置,實(shí)現(xiàn)溶氣釋放;所述三極機(jī)械攪拌共聚絮凝池與氣浮接觸池(7)之間通過兩池間的墻體控制水流流向;所述雙層平流式沉淀池,通過沉淀池下層設(shè)置的進(jìn)水穿孔花墻(8)布水;所述進(jìn)水管(1)連接有加藥管(2),并于三級(jí)機(jī)械攪拌共聚絮凝池的前端下部接入。
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