[發明專利]一種用于提高蒸發束流穩定性的坩堝和具有該坩堝的源爐

有效

• 申請號: 201710201152.1
• 申請日: 2017-03-30
• 公開（公告）號: CN106893981B
• 公開（公告）日: 2019-01-25
• 發明（設計）人: 聶越峰;毛張文
• 申請（專利權）人: 南京大學
• 主分類號: C23C14/24
• 分類號: C23C14/24;C30B23/02
• 代理公司: 江蘇瑞途律師事務所 32346
• 代理人: 蔣海軍

1.一種用于提高蒸發束流穩定性的坩堝，其特征在于：坩堝(100)設置為直筒形，且沒有頂部的外沿，且坩堝頂部(110)外壁與坩堝底部(120)外壁等徑，用于減少坩堝頂部(110)的熱輻射；坩堝頂部(110)設置有定位墊片(130)，定位墊片(130)用于固定坩堝頂部(110)，定位墊片(130)材料的黑度系數小于坩堝(100)材料的黑度系數。

2.根據權利要求1所述的一種用于提高蒸發束流穩定性的坩堝，其特征在于：定位墊片(130)的墊片內圈(131)的半徑大于坩堝頂部(110)的外徑，定位墊片(130)與坩堝頂部(110)之間設置有間隙，所述墊片內圈(131)上設置有定位凸塊(132)，該定位凸塊(132)與坩堝頂部(110)相接處，定位凸塊(132)用于固定坩堝頂部(110)。

3.一種提高蒸發束流穩定性的源爐，其特征在于：包括坩堝(100)、蒸發源(200)和加熱單元(300)，所述的坩堝(100)設置于蒸發源(200)內，坩堝(100)的外部設置有加熱單元(300)，該加熱單元(300)用于對坩堝(100)進行加熱，所述坩堝(100)為權利要求1或2所述的坩堝(100)。

4.根據權利要求3所述的一種提高蒸發束流穩定性的源爐，其特征在于：坩堝(100)還包括定位墊片(130)，該定位墊片(130)為圓環形；所述的定位墊片(130)套裝于坩堝頂部(110)，定位墊片(130)用于固定坩堝頂部(110)。

5.根據權利要求3所述的一種提高蒸發束流穩定性的源爐，其特征在于：坩堝(100)的開口方向上設置有束流擋板(400)。

6.根據權利要求3-5任一項所述的一種提高蒸發束流穩定性的源爐，其特征在于：所述蒸發源(200)包括保護外罩(210)和固定基座(220)，保護外罩(210)內設置有容納腔(211)，所述固定基座(220)設置于容納腔(211)的底部，該固定基座(220)用于固定坩堝底部(120)。

7.根據權利要求6所述的一種提高蒸發束流穩定性的源爐，其特征在于：所述的保護外罩(210)的頂部設置有與定位墊片(130)相配合的墊片槽(212)，該墊片槽(212)用于固定定位墊片(130)。

8.根據權利要求6所述的一種提高蒸發束流穩定性的源爐，其特征在于：所述的固定基座(220)上設置有測溫元件(221)，測溫元件(221)用于檢測坩堝(100)的溫度。

9.根據權利要求7所述的一種提高蒸發束流穩定性的源爐，其特征在于：所述的定位墊片(130)的厚度小于墊片槽(212)的深度。