[發明專利]曝光設備及曝光系統

有效

• 申請號: 201710200961.0
• 申請日: 2017-03-29
• 公開（公告）號: CN106909031B
• 公開（公告）日: 2018-04-06
• 發明（設計）人: 辛憲棟;曹旭東;秦培培;林斗亮;羅鵬;寇建龍;邢宏偉;沙俊
• 申請（專利權）人: 合肥京東方顯示技術有限公司;京東方科技集團股份有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G02B7/185
• 代理公司: 北京天昊聯合知識產權代理有限公司11112
• 代理人: 柴亮,張天舒

1.一種曝光設備，其特征在于，包括：

能發生形變的凹面反射鏡，用于反射曝光光線，并保證所述曝光光線最終射向曝光區域；

調整模組，用于改變所述凹面反射鏡的曲率；

所述調整模組包括：第一支撐連桿、第二支撐連桿和角度調整模塊；其中，

所述第一支撐連桿的第一端部和第二支撐連桿的第一端部分別與所述凹面反射鏡的兩個相對邊連接，所述第一支撐連桿的第二端部和第二支撐連桿的第二端部轉動連接；

所述角度調整模塊用于調整所述第一支撐連桿與第二支撐連桿間的夾角角度；

所述角度調整模塊包括連接部和調整單元；其中，

所述連接部連接在所述第一支撐連桿和第二支撐連桿之間；

所述調整單元用于使所述連接部發生運動以調整所述第一支撐連桿與第二支撐連桿間的夾角角度；

所述連接部包括第一連接桿和第二連接桿；其中，

所述第一連接桿的第一端部和與第一支撐連桿相連，所述第二連接桿的第一端部和第二支撐連桿連接；

所述第一連接桿的第二端部和第二連接桿的第二端部均與所述調整單元連接；

所述調整單元用于帶動所述第一連接桿的第二端部和第二連接桿的第二端部在遠離或靠近所述凹面反射鏡的方向上運動。

2.根據權利要求1所述的曝光設備，其特征在于，還包括：

反射模組，用于將來自所述凹面反射鏡的曝光光線反射向曝光區域。

3.根據權利要求1所述的曝光設備，其特征在于，

所述調整模組設置于所述凹面反射鏡的凸面側。

4.根據權利要求1所述的曝光設備，其特征在于，所述調整單元包括螺母和螺紋桿；其中，

所述螺母與所述第一連接桿的第二端部和第二連接桿的第二端部分別固定連接，并套設在所述螺紋桿上；

所述螺紋桿轉動時能帶動所述螺母在遠離或靠近所述凹面反射鏡的方向上運動。

5.根據權利要求4所述的曝光設備，其特征在于，所述調整單元還包括：

固定設置的驅動器，用于驅動所述螺紋桿轉動。

6.一種曝光系統，其特征在于，包括：

權利要求1至5中任意一項所述的曝光設備。

7.根據權利要求6所述的曝光系統，其特征在于，還包括：

用于放置待曝光基板的基臺；所述基臺上用于放置待曝光基板的區域的長度與寬度尺寸不同。