[發明專利]雙層結構立體循環流一體化氧化溝在審
| 申請號: | 201710200444.3 | 申請日: | 2017-03-30 |
| 公開(公告)號: | CN106830329A | 公開(公告)日: | 2017-06-13 |
| 發明(設計)人: | 楊健;居文鐘;陳曦;尹彥勛;王琳;李續;張玉惠;李鵬飛 | 申請(專利權)人: | 居文鐘 |
| 主分類號: | C02F3/30 | 分類號: | C02F3/30 |
| 代理公司: | 天津市三利專利商標代理有限公司12107 | 代理人: | 王藴華 |
| 地址: | 300071 天津市南*** | 國省代碼: | 天津;12 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 雙層 結構 立體 循環 一體化 氧化 | ||
1.一種雙層結構立體循環流一體化氧化溝,包括由前、后端墻和兩側墻圍攏成的矩形池體,在所述池體內設有缺氧區、好氧區、固液分離區、原水進水管、出水管及排泥管,在所述池體中,兩側墻間固連一個由平板及其后沿固連的向后上方延伸且頂部為豎直端板的傾斜導流板構成的斜L形導流板;其特征在于在所述池體下部設置將池體分隔成相互獨立的上、下池體的雙層池結構的水平隔板;所述斜L形導流板設置在上池體中下部;在所述水平隔板上自與所述平板的前沿對應的部位至所述后端墻根部設置曝氣器組;在所述水平隔板上對應所述平板的前沿均布設置多個連通上、下池體的過液孔;所述好氧區分布在整個上池體內形成好氧池;所述固液分離區設置在所述平板上方;所述缺氧區分布在整個下池體內形成缺氧池;在池體四角分別設置頂沿與池體頂沿平齊且底口連通下池體的方形直筒,對應池體底部四角位置,在所述方形直筒內安裝可提升的水下推流器;在靠近所述斜L形導流板的傾斜導流板的兩個方形直筒上部的相對側壁上,設置帶有調節閘板的混合液回流孔;在所述兩個方形直筒上端位于所述混合液回流孔前側的相對側壁間固連橫跨池體的懸空阻流墻;所述原水進水管設置在下池體對應的后端墻上;所述排泥管設置在上池體底部的前端墻上;所述出水管設置在所述固液分離區對應的側墻上。
2.根據權利要求1所述的雙層結構立體循環流一體化氧化溝,其特征在于所述曝氣器組內的各曝氣頭的服務面積≤0.5M2。
3.根據權利要求1或2所述的雙層結構立體循環流一體化氧化溝,其特征在于在所述固液分離區采用條形漏斗式固液分離器。
4.根據權利要求1或2所述的雙層結構立體循環流一體化氧化溝,其特征在于在所述下池體底部沿其縱向中心線,設置固連在所述水平隔板與池體底部之間且兩端留有相同空間的導流墻。
5.根據權利要求1或2所述的雙層結構立體循環流一體化氧化溝,其特征在于所述水平隔板位于池體總高的1/3~2/5處;所述平板位于上池體高度的1/3~1/2處;所述傾斜導流板與平板間夾角為135°~145°;所述平板前沿下傾坡度為2~4%。
6.根據權利要求1或2所述的雙層結構立體循環流一體化氧化溝,其特征在于所述過液孔≥5個,所有過液孔面積總和≥進水管管孔面積的1.5倍。
7.根據權利要求1或2所述的雙層結構立體循環流一體化氧化溝,其特征在于在所述斜L形導流板的平板底面并列均布設置若干條平行于側墻的順向導流條,所述順向導流條與平板長度相同,其數量≥5條。
8.根據權利要求1或2所述的雙層結構立體循環流一體化氧化溝,其特征在于所述混合液回流孔的上沿高于液面、其下沿低于液面;所述懸空阻流墻上沿與池體上沿齊平,其下沿低于液面。
9.根據權利要求1或2所述的雙層結構立體循環流一體化氧化溝,其特征在于所述排泥管為一由兩端封閉的網孔集泥管段和與其垂直連接的伸至池外的出泥管段構成的T形管。
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