[發明專利]浮空柵-漏復合場板垂直型電力電子器件有效
| 申請號: | 201710198912.8 | 申請日: | 2017-03-29 |
| 公開(公告)號: | CN107170799B | 公開(公告)日: | 2019-10-11 |
| 發明(設計)人: | 毛維;石朋毫;叢冠宇;郝躍 | 申請(專利權)人: | 西安電子科技大學 |
| 主分類號: | H01L29/06 | 分類號: | H01L29/06;H01L21/336;H01L29/772 |
| 代理公司: | 陜西電子工業專利中心 61205 | 代理人: | 王品華 |
| 地址: | 710071*** | 國省代碼: | 陜西;61 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 浮空柵 復合 垂直 電力 電子器件 | ||
1.一種浮空柵-漏復合場板垂直型電力電子器件,包括:襯底(1)、漂移層(2)、孔徑層(3)、兩個對稱的電流阻擋層(4)、溝道層(6)、勢壘層(7)和鈍化層(15),勢壘層(7)上的兩側淀積有兩個源極(12),兩個源極(12)下方通過離子注入形成兩個注入區(11),源極之間的勢壘層上外延有帽層(8),帽層(8)兩側刻有兩個臺階(9),帽層上面淀積有柵極(10),襯底(1)下面淀積有肖特基漏極(13),鈍化層(15)完全包裹在除肖特基漏極(13)底部以外的所有區域,兩個電流阻擋層(4)之間形成孔徑(5),其特征在于:
所述兩個電流阻擋層(4),采用由第一阻擋層(41)和第二阻擋層(42)構成的二級階梯結構,且第一阻擋層(41)位于第二阻擋層(42)的外側;
所述鈍化層(15),是由若干層絕緣介質材料自下而上堆疊而成,該鈍化層兩側制作有浮空柵-漏復合場板(14);
所述浮空柵-漏復合場板(14),每一側均由一個柵場板、一個漏場板、多個柵浮空場板和多個漏浮空場板構成;
該多個柵浮空場板,自下而上依次為第一柵浮空場板、第二柵浮空場板至第M柵浮空場板,第一柵浮空場板、第二柵浮空場板至第M柵浮空場板,均為浮空型場板,且相互之間相互獨立;柵場板與柵極(10)電氣連接,M根據器件實際使用要求確定,其值為大于等于1的整數;
該多個漏浮空場板,自下而上依次為第一漏浮空場板、第二漏浮空場板至第Q漏浮空場板,第一漏浮空場板至第Q漏浮空場板為浮空型場板,且相互之間相互獨立;漏場板與肖特基漏極(13)電氣連接,Q根據器件實際使用要求確定,其值為大于等于1的整數。
2.根據權利要求1所述的器件,其特征在于第一阻擋層(41)的厚度a為0.5~3μm,寬度c為0.2~1μm,第二阻擋層(42)的厚度b為0.3~1μm,寬度d為1.4~3.4μm,且滿足a>b。
3.根據權利要求1所述的器件,其特征在于,漏場板、第一漏浮空場板、第二漏浮空場板至第Q漏浮空場板的厚度相等,均表述為L1;寬度相同,均表述為D1,L1為0.5~3μm,D1為0.5~6μm。
4.根據權利要求1所述的器件,其特征在于同一側的漏場板及Q個漏浮空場板,均相互平行,且相鄰兩個場板之間絕緣介質材料的厚度,即相鄰兩個場板之間的間距Si不同,且自下而上依次增大,第一漏浮空場板與漏場板的垂直間距S1的范圍為0.1~1.5μm,i為整數,Q≥i≥1。
5.根據權利要求1所述的器件,其特征在于同一側的漏場板及各個漏浮空場板均相互平行,且距離漂移層(2)的水平距離T1均相等,T1為0.2~0.6μm,漏場板下邊緣與襯底(1)下邊緣水平對齊。
6.根據權利要求1所述的器件,其特征在于同一側的柵場板及各柵浮空場板均相互平行,且距離漂移層(2)的水平距離T2相等,T2滿足關系:d<3.5a,其中,a為第一阻擋層(41)的厚度,d為第二阻擋層(42)的寬度。
7.根據權利要求1所述的器件,其特征在于第一柵浮空場板、第二柵浮空場板至第M柵浮空場板的厚度相等,均表述為L2,寬度相同,均表述為D2,L2為0.5~3μm,D2為0.5~6μm;柵場板上邊緣所在高度高于第一阻擋層(41)下邊緣所在高度,柵場板與漂移層在垂直方向上的交疊長度等于L2。
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