[發明專利]復合涂層骨鉆用鉆頭、其制備方法及骨鉆

在審

• 申請號: 201710198477.9
• 申請日: 2017-03-29
• 公開（公告）號: CN107049413A
• 公開（公告）日: 2017-08-18
• 發明（設計）人: 黃世偉;沈學忠;袁安素;朱國朝;溫振偉
• 申請（專利權）人: 納獅新材料股份有限公司;嘉興奧德納米技術有限公司
• 主分類號: A61B17/16
• 分類號: A61B17/16;C23C8/36;C23C14/06;C23C14/32;C23C28/00
• 代理公司: 北京律盟知識產權代理有限責任公司11287
• 代理人: 沈錦華

1.一種復合涂層骨鉆用鉆頭，其包括：骨鉆用鉆頭；所述骨鉆用鉆頭的表面依次附著滲氮層、物理氣相沉積PVD涂層和抗菌納米粒子改性的PVD涂層，其中所述PVD涂層為包括AlCrN、CrAlN、CrN、TiN、AlTiN、TiAlN、TiAlCrN、TiSiN、TiSiAlN、TiAlWN或其混合物的納米硬質涂層。

2.根據權利要求1所述的復合涂層骨鉆用鉆頭，其中所述抗菌納米粒子包括銀納米粒子、銅納米粒子或其混合物。

3.根據權利要求1或2所述的復合涂層骨鉆用鉆頭，其中所述抗菌納米粒子在所述抗菌納米粒子改性的PVD涂層中的原子百分比為0.1-25％。

4.根據權利要求1或2所述的復合涂層骨鉆用鉆頭，其中所述抗菌納米粒子的粒徑為1nm-100nm。

5.根據權利要求1或2所述的復合涂層骨鉆用鉆頭，其中所述PVD涂層的厚度為1μm-15μm，表面硬度為1500HV-5000HV。

6.根據權利要求1或2所述的復合涂層骨鉆用鉆頭，其中所述抗菌納米粒子改性的PVD涂層的厚度為1μm-15μm。

7.根據權利要求1或2所述的復合涂層骨鉆用鉆頭，其中所述滲氮層的厚度為0.01mm-0.5mm。

8.一種復合涂層骨鉆用鉆頭的制備方法，其包括如下步驟：

提供骨鉆用鉆頭；對所述骨鉆用鉆頭進行離子滲氮處理以在所述骨鉆用鉆頭的表面形成滲氮層；

采用物理氣相沉積PVD工藝在所述滲氮層的表面沉積包括AlCrN、CrAlN、CrN、TiN、AlTiN、TiAlN、TiAlCrN、TiSiN、TiSiAlN、TiAlWN或其混合物的納米硬質涂層以形成PVD涂層；

將抗菌納米粒子導入物理氣相沉積PVD工藝爐中，采用物理氣相沉積PVD工藝在所述PVD涂層的表面形成抗菌納米粒子改性的PVD涂層。

9.根據權利要求8所述的復合涂層骨鉆用鉆頭的制備方法，其中所述抗菌納米粒子包括銀納米粒子、銅納米粒子或其混合物。

10.根據權利要求8或9所述的復合涂層骨鉆用鉆頭的制備方法，其中所述抗菌納米粒子在所述抗菌納米粒子改性的PVD涂層中的原子百分比為0.1-25％。

11.根據權利要求8或9所述的復合涂層骨鉆用鉆頭的制備方法，其中所述抗菌納米粒子的粒徑為1nm-100nm。

12.根據權利要求8或9所述的復合涂層骨鉆用鉆頭的制備方法，其中采用PVD工藝形成所述PVD涂層的步驟包括：首先通入純度為99.999％的氬氣，在偏壓為800-1000V的條件下清潔所述滲氮層的表面；然后停止通入氬氣，通入純度為99.999％的氮氣，在偏壓為80-100V的條件下，打開包含用于組成所述PVD涂層的金屬的靶，弧電流為120A-200A，采用PVD工藝在清潔后的所述滲氮層的表面沉積形成所述PVD涂層。

13.根據權利要求8或9所述的復合涂層骨鉆用鉆頭的制備方法，其中采用PVD工藝形成所述抗菌納米粒子改性的PVD涂層的步驟包括：繼續通入純度為99.999％的氮氣，在偏壓為80-100V的條件下，保持包含用于組成所述PVD涂層的金屬的靶的開啟狀態，同時導入所述抗菌納米粒子，弧電流為120A-200A，采用PVD工藝在所述PVD涂層的表面沉積形成所述抗菌納米粒子改性的PVD涂層。

14.一種骨鉆，其包括權利要求1-7中任一項所述的復合涂層骨鉆用鉆頭。