[發(fā)明專利]復(fù)合涂層骨針及其制備方法

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• 申請?zhí)枺?/td>: 201710198445.9
• 申請日: 2017-03-29
• 公開（公告）號: CN106947972A
• 公開（公告）日: 2017-07-14
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 黃世偉;沈?qū)W忠;袁安素;朱國朝;溫振偉
• 申請（專利權(quán)）人: 納獅新材料股份有限公司;嘉興奧德納米技術(shù)有限公司
• 主分類號: C23C28/04
• 分類號: C23C28/04;C23C8/36;C23C14/34;C23C14/06
• 代理公司: 北京律盟知識產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司11287
• 代理人: 沈錦華

1.一種復(fù)合涂層骨針，其包括：骨針；所述骨針的表面依次附著滲氮層、物理氣相沉積PVD涂層和抗菌納米粒子改性的PVD涂層，其中所述PVD涂層為包括AlCrN、CrAlN、CrN、TiN、AlTiN、TiAlN、TiAlCrN、TiSiN、TiSiAlN、TiAlWN或其混合物的納米硬質(zhì)涂層。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的復(fù)合涂層骨針，其中所述抗菌納米粒子包括銀納米粒子、銅納米粒子或其混合物。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的復(fù)合涂層骨針，其中所述抗菌納米粒子在所述抗菌納米粒子改性的PVD涂層中的原子百分比為0.1-25％。

4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的復(fù)合涂層骨針，其中所述抗菌納米粒子的粒徑為1nm-100nm。

5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的復(fù)合涂層骨針，其中所述PVD涂層的厚度為1μm-15μm，表面硬度為1500HV-5000HV。

6.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的復(fù)合涂層骨針，其中所述抗菌納米粒子改性的PVD涂層的厚度為1μm-15μm。

7.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的復(fù)合涂層骨針，其中所述滲氮層的厚度為0.01mm-0.5mm。

8.一種復(fù)合涂層骨針的制備方法，其包括如下步驟：

提供骨針；對所述骨針進(jìn)行離子滲氮處理以在所述骨針的表面形成滲氮層；

采用物理氣相沉積PVD工藝在所述滲氮層的表面沉積包括AlCrN、CrAlN、CrN、TiN、AlTiN、TiAlN、TiAlCrN、TiSiN、TiSiAlN、TiAlWN或其混合物的納米硬質(zhì)涂層以形成PVD涂層；

將抗菌納米粒子導(dǎo)入物理氣相沉積PVD工藝爐中，采用物理氣相沉積PVD工藝在所述PVD涂層的表面形成抗菌納米粒子改性的PVD涂層。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的復(fù)合涂層骨針的制備方法，其中所述抗菌納米粒子包括銀納米粒子、銅納米粒子或其混合物。

10.根據(jù)權(quán)利要求8或9所述的復(fù)合涂層骨針的制備方法，其中所述抗菌納米粒子在所述抗菌納米粒子改性的PVD涂層中的原子百分比為0.1-25％。

11.根據(jù)權(quán)利要求8或9所述的復(fù)合涂層骨針的制備方法，其中所述抗菌納米粒子的粒徑為1nm-100nm。

12.根據(jù)權(quán)利要求8或9所述的復(fù)合涂層骨針的制備方法，其中采用PVD工藝形成所述PVD涂層的步驟包括：首先通入純度為99.999％的氬氣，在偏壓為800-1000V的條件下清潔所述滲氮層的表面；然后停止通入氬氣，通入純度為99.999％的氮氣，在偏壓為80-100V的條件下，打開包含用于組成所述PVD涂層的金屬的靶，弧電流為120A-200A，采用PVD工藝在清潔后的所述滲氮層的表面沉積形成所述PVD涂層。

13.根據(jù)權(quán)利要求8或9所述的復(fù)合涂層骨針的制備方法，其中采用PVD工藝形成所述抗菌納米粒子改性的PVD涂層的步驟包括：繼續(xù)通入純度為99.999％的氮氣，在偏壓為80-100V的條件下，保持包含用于組成所述PVD涂層的金屬的靶的開啟狀態(tài)，同時導(dǎo)入所述抗菌納米粒子，弧電流為120A-200A，采用PVD工藝在所述PVD涂層的表面沉積形成所述抗菌納米粒子改性的PVD涂層。