[發明專利]透鏡控制設備及控制方法有效
| 申請號: | 201710198018.0 | 申請日: | 2017-03-29 |
| 公開(公告)號: | CN107272139B | 公開(公告)日: | 2020-01-17 |
| 發明(設計)人: | 石川大介 | 申請(專利權)人: | 佳能株式會社 |
| 主分類號: | G02B7/08 | 分類號: | G02B7/08;G02B7/09;G03B13/36 |
| 代理公司: | 11293 北京怡豐知識產權代理有限公司 | 代理人: | 遲軍 |
| 地址: | 日本國東京都*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 透鏡 控制 設備 方法 | ||
1.一種透鏡控制設備,包括:
校正單元,其被配置為對散焦量進行校正并獲得校正散焦量;
目標變焦透鏡位置獲得單元,其被配置為獲得目標變焦透鏡位置;以及
目標調焦透鏡位置獲得單元,其被配置為基于表示針對各被攝體距離與變焦透鏡的位置相對應的調焦透鏡的位置的數據、所述校正散焦量和所述目標變焦透鏡位置,來獲得目標調焦透鏡位置,
其中,在變焦速度是第一速度的情況下,與變焦速度是比所述第一速度小的第二速度的情況相比,所述校正單元將所述校正散焦量校正為更大的值。
2.根據權利要求1所述的透鏡控制設備,其中,還包括:
變焦速度獲得單元,其被配置為獲得變焦速度。
3.根據權利要求1所述的透鏡控制設備,其中,所述第一速度大于或等于預定速度,以及所述第二速度小于所述預定速度。
4.根據權利要求3所述的透鏡控制設備,其中,所述校正單元以使得變焦速度為所述第一速度的情況下由所述校正單元所獲得的校正散焦量是與變焦速度為所述第二速度的情況相比更接近所述散焦量的值的方式,來對所述散焦量進行校正。
5.根據權利要求4所述的透鏡控制設備,其中,還包括:
系數設置單元,其被配置為根據變焦速度來設置所述校正單元對所述散焦量進行校正所使用的系數,
其中,變焦速度是所述第一速度的情況下由所述系數設置單元所設置的系數大于變焦速度是所述第二速度的情況下由所述系數設置單元所設置的系數。
6.根據權利要求5所述的透鏡控制設備,其中,變焦速度是所述第一速度的情況下由所述系數設置單元所設置的系數小于1。
7.根據權利要求5所述的透鏡控制設備,其中,與變焦速度是所述第二速度的情況下的系數相比,變焦速度是所述第一速度的情況下的系數更接近1。
8.根據權利要求5所述的透鏡控制設備,其中,還包括:
數據表,其表示所述變焦速度和所述系數之間的對應關系。
9.根據權利要求5所述的透鏡控制設備,其中,所述系數設置單元基于表示所述變焦速度和所述系數之間的對應關系的預定函數來設置所述系數。
10.根據權利要求1所述的透鏡控制設備,其中,還包括:
透鏡控制單元,其被配置為根據所述目標變焦透鏡位置和所述目標調焦透鏡位置來控制所述調焦透鏡和所述變焦透鏡的驅動。
11.一種透鏡控制設備,包括:
校正單元,其被配置為對散焦量進行校正并獲得校正散焦量;
目標變焦透鏡位置獲得單元,其被配置為獲得目標變焦透鏡位置;以及
目標調焦透鏡位置獲得單元,其被配置為基于表示針對各被攝體距離與變焦透鏡的位置相對應的調焦透鏡的位置的數據、所述校正散焦量和所述目標變焦透鏡位置,來獲得目標調焦透鏡位置,
其中,在幀頻是第一幀頻的情況下,與幀頻是比所述第一幀頻高的第二幀頻的情況相比,所述校正單元將所述校正散焦量校正為更大的值。
12.根據權利要求11所述的透鏡控制設備,其中,還包括:
幀頻確定單元,其被配置為確定幀頻。
13.根據權利要求11所述的透鏡控制設備,其中,所述第一幀頻小于預定幀頻,以及所述第二幀頻大于或等于所述預定幀頻。
14.根據權利要求13所述的透鏡控制設備,其中,所述校正單元以使得幀頻為所述第一幀頻的情況下的校正散焦量是與幀頻為所述第二幀頻的情況相比更接近所述散焦量的值的方式,來對所述散焦量進行校正。
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