[發明專利]一種多離子源濺射生產薄膜的裝置及方法

在審

• 申請號: 201710196778.8
• 申請日: 2017-03-28
• 公開（公告）號: CN106939409A
• 公開（公告）日: 2017-07-11
• 發明（設計）人: 劉偉基;冀鳴;陳蓓麗
• 申請（專利權）人: 中山市博頓光電科技有限公司
• 主分類號: C23C14/34
• 分類號: C23C14/34;C23C14/50;C23C14/54
• 代理公司: 廣州市紅荔專利代理有限公司44214
• 代理人: 吝秀梅,李彥孚

1.一種多離子源濺射生產薄膜的裝置，其特征在于，包括真空腔室(1)及置于真空腔室(1)內的靶材(3)、離子源(4)和產品平臺(2)；靶材(3)及離子源(4)均為多個且一一對應，靶材(3)及離子源(4)的類型能調整且兩者均位于產品平臺(2)的上方，產品平臺(2)能旋轉；每個離子源(4)用于向對應的靶材(3)濺射離子源束流，產品平臺(2)用于對從所有靶材(3)脫離的材料分子沉積成薄膜。

2.根據權利要求1所述的一種多離子源濺射生產薄膜的裝置，其特征在于，產品平臺(2)上還設有能自轉的若干小平臺，從所有靶材(3)脫離的材料分子在所有的小平臺上沉積成薄膜。

3.根據權利要求1所述的一種多離子源濺射生產薄膜的裝置，其特征在于，還包括用于擺動靶材(3)的擺動裝置。

4.根據權利要求1所述的一種多離子源濺射生產薄膜的裝置，其特征在于，還包括用于調節離子源(4)角度的角度調節裝置。

5.根據權利要求1所述的一種多離子源濺射生產薄膜的裝置，其特征在于，還包括用于調節各個離子源(4)功率的功率調節裝置。

6.根據權利要求1至5任一項所述的一種多離子源濺射生產薄膜的裝置，其特征在于，所有靶材(3)為相同類型的靶材，所有離子源(4)為相同類型的離子源。

7.根據權利要求1至5任一項所述的一種多離子源濺射生產薄膜的裝置，其特征在于，靶材(3)包括多種類型的靶材(3)，一種類型的靶材(3)對應一種類型的離子源(4)。

8.一種多離子源濺射生產薄膜的方法，使用權利要求6所述的裝置，其特征在于，包括如下步驟：

S1.將所有靶材(3)設置為相同類型的靶材(3)，將所有離子源(4)設置為與該種靶材(3)類型相對應的離子源(4)；

S2.所有離子源(4)同時向各自對應的靶材(3)濺射離子源束流，離子源束流轟擊到靶材(3)表面，使構成靶材(3)的材料分子脫離靶材(3)并沉積到產品平臺(2)形成單層薄膜。

9.一種多離子源濺射生產薄膜的方法，使用權利要求7所述的裝置，其特征在于，包括如下步驟：

S1.將所有靶材(3)設置為包括多種類型的靶材(3)，將每個離子源(4)設置為與需濺射靶材(3)類型相對應的離子源(4)；

S2.依次使各個類型的離子源(4)向對應類型的靶材(3)濺射離子源束流，離子源束流轟擊到靶材(3)表面，使構成靶材(3)的材料分子脫離靶材(3)并沉積到產品平臺(2)形成多層薄膜。

10.一種多離子源濺射生產薄膜的方法，使用權利要求7所述的裝置，其特征在于，包括如下步驟：

S1.將所有靶材(3)設置為包括多種類型的靶材(3)，將每個離子源(4)設置為與需濺射靶材(3)類型相對應的離子源(4)；

S2.同時使各個類型的離子源(4)向對應類型的靶材(3)濺射離子源束流，離子源束流轟擊到靶材(3)表面，使構成靶材(3)的材料分子脫離靶材(3)并沉積到產品平臺(2)形成單層混合薄膜。