[發(fā)明專利]干式粉碎裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201710195975.8
• 申請日: 2017-03-28
• 公開（公告）號: CN107233983B
• 公開（公告）日: 2021-01-08
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 山道大介
• 申請（專利權(quán)）人: 日立金屬株式會社
• 主分類號: B02C19/06
• 分類號: B02C19/06;B02C23/08;B02C23/18;B02C23/22
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 雒運樸

1.一種干式粉碎裝置，具備：

噴嘴，其朝上噴射壓縮氣體；

加速管，其對粉體與從所述噴嘴噴射出的所述壓縮氣體一并進行加速；

粉碎室，其與所述加速管連通；

碰撞板，其設(shè)置在所述粉碎室內(nèi)，與加速后的所述粉體碰撞并使其粉碎；

分級機構(gòu)，其對由所述碰撞板粉碎后的粉體進行分級，且將規(guī)定的尺寸以下的粉體排出；

漏斗狀的粉體接受部，其設(shè)置為包圍所述加速管的下端部，且用于通過其內(nèi)表面接受比規(guī)定的尺寸大的粉體，并使該粉體堆積于所述噴嘴的周圍；

輔助氣體流路，其設(shè)置于所述噴嘴的外周，用于使輔助氣體沿著所述噴嘴的外周面流動，以便將堆積于所述粉體接受部的粉體向所述加速管的內(nèi)部導入；以及

輔助氣體室，其包圍所述粉體接受部的外周面，且與所述輔助氣體流路連通，并且具備輔助氣體供給口，

其特征在于，

所述輔助氣體供給口配置為與所述粉體接受部的外周面對置，

在所述輔助氣體室內(nèi)，以包圍所述粉體接受部的外周面的方式設(shè)置有圓筒狀罩，所述圓筒狀罩不具有不存在罩的部分，從而不使從所述輔助氣體供給口供給的所述輔助氣體與所述粉體接受部的外周面直接碰撞。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的干式粉碎裝置，其特征在于，

所述圓筒狀罩呈在軸向上從上方朝向下方縮徑的圓錐臺形。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的干式粉碎裝置，其特征在于，

所述粉體接受部在其下端部具有凸緣部，

所述圓筒狀罩設(shè)置為具有比所述凸緣部的直徑大的最小內(nèi)徑，由此能夠從所述輔助氣體室拆下。