[發明專利]射頻參數的校準方法及裝置、電子設備有效
| 申請號： | 201710193750.9 | 申請日： | 2017-03-28 |
| 公開（公告）號： | CN108667533B | 公開（公告）日： | 2021-04-06 |
| 發明（設計）人： | 潘明爭 | 申請（專利權）人： | 北京小米移動軟件有限公司 |
| 主分類號： | H04B17/11 | 分類號： | H04B17/11;H04B17/21 |
| 代理公司： | 北京博思佳知識產權代理有限公司 11415 | 代理人： | 林祥;李威 |
| 地址： | 100085 北京市海淀區清河*** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 射頻 參數 校準 方法 裝置 電子設備 | ||
本公開是關于一種射頻參數的校準方法及裝置、電子設備，該方法可以包括：針對預設數量的多臺待校準設備，獲取相應的射頻參數的校準結果；當所述校準結果處于預設合理范圍內，且所述校準結果服從以所述合理范圍的中間值為數學期望的正態分布時，判定所述多臺待校準設備的射頻參數校準通過。通過本公開的技術方案，可以提高校準的準確率。同時，根據校準結果提供相應的影響因素以供研發人員參考，可以提升對射頻參數的校準效率。
技術領域
本公開涉及通訊技術領域，尤其涉及一種射頻參數的校準方法及裝置、電子設備。
背景技術
在手機等設備的研發過程中，射頻校準是非常重要的過程。由于元器件存在誤差，針對校準參數的值，往往會設置一個較大的范圍。在相關技術中，根據校準的參數是否在設置的范圍內來判斷是否通過校準。然而當所校準參數的值接近設置范圍的邊界時，雖然通過了校準，但是在大規模生產中容易出現校準參數超出設置范圍的情況。
發明內容
本公開提供一種射頻參數的校準方法及裝置、電子設備，以解決相關技術中的不足。
根據本公開實施例的第一方面，提供一種射頻參數的校準方法，包括：
針對預設數量的多臺待校準設備，獲取相應的射頻參數的校準結果；
當所述校準結果處于預設合理范圍內，且所述校準結果服從以所述合理范圍的中間值為數學期望的正態分布時，判定所述多臺待校準設備的射頻參數校準通過。
可選的，還包括：
當所述校準結果超出所述合理范圍時，根據預定義的超出所述合理范圍的校準結果與影響因素之間的第一映射關系，確定對應于所述校準結果的特定影響因素。
可選的，所述第一映射關系包含以下至少之一：
當進行FBRX反饋接收校準時，若Measured TxPwr實測發射功率超過第一合理范圍，則對應的影響因素包括功率放大器的靜態工作電流設置不合理，或者電源電壓設置不合理，或者電路條件配置錯誤；
當進行PRX主集接收校準時，若AGC Offset自動增益控制偏移量超過第二合理范圍，則對應的影響因素包括電路條件配置錯誤，通路選擇不合理；
當進行Tx發射校準時，若RGI Delta Power射頻增益指數超過第三合理范圍，則對應的影響因素包括功率放大器的靜態工作電流設置不合理，或者電源電壓設置不合理。
可選的，還包括：
當所述校準結果不服從所述正態分布時，根據預定義的不服從所述正態分布的校準結果與影響因素之間的第二映射關系，確定對應于所述校準結果的特定影響因素。
可選的，所述第二映射關系包含以下至少之一：
當進行FBRX反饋接收校準時，若所述校準結果不服從所述正態分布，則對應的影響因素包括RGI射頻增益指數設置不合理；
當進行PRX主集接收校準時，若所述校準結果不服從所述正態分布，則對應的影響因素包括通路選擇不合理；
當進行Tx發射校準時，若所述校準結果不服從所述正態分布，則對應的影響因素包括功率放大器的靜態工作電流設置不合理，或者電源電壓設置不合理。
根據本公開實施例的第二方面，提供一種射頻參數的校準裝置，包括：
獲取單元，針對預設數量的多臺待校準設備，獲取相應的射頻參數的校準結果；
判定單元，當所述校準結果處于預設合理范圍內，且所述校準結果服從以所述合理范圍的中間值為數學期望的正態分布時，判定所述多臺待校準設備的射頻參數校準通過。
可選的，還包括：
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