[發(fā)明專利]具有射頻供電的法拉第屏蔽件的包括線圈的襯底處理系統(tǒng)在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201710193556.0 | 申請日： | 2017-03-28 |
| 公開（公告）號： | CN107240542A | 公開（公告）日： | 2017-10-10 |
| 發(fā)明（設計）人： | 沈彭;塔馬拉卡·潘達姆所樸恩;安東尼·紐倫;丹·瑪羅爾 | 申請（專利權(quán)）人： | 朗姆研究公司 |
| 主分類號： | H01J37/32 | 分類號： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 上海勝康律師事務所31263 | 代理人： | 李獻忠,邱曉敏 |
| 地址： | 美國加利*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 具有 射頻 供電 法拉第 屏蔽 包括 線圈 襯底 處理 系統(tǒng) | ||
1.一種襯底處理系統(tǒng)，其包括：
處理室，其包括電介質(zhì)窗和布置在其中以支撐襯底的襯底支撐件；
線圈，其布置在所述處理室的外部與所述電介質(zhì)窗相鄰；
法拉第屏蔽件，其布置在所述線圈和所述電介質(zhì)窗之間；以及
RF發(fā)生器，其被配置為向所述線圈提供RF功率。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的襯底處理系統(tǒng)，其還包括連接到所述線圈和所述法拉第屏蔽件中的一個以改變沿著所述線圈的電壓駐波的位置的電容器。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的襯底處理系統(tǒng)，其還包括布置在所述RF發(fā)生器和所述線圈之間的調(diào)諧電路。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的襯底處理系統(tǒng)，其中所述調(diào)諧電路包括：
第一可變電容器，其包括第一端和第二端，該第一端連接到所述RF發(fā)生器；
第二可變電容器，其包括連接到所述第一可變電容器的所述第二端的第一端；以及
第三可變電容器，其包括第一端和第二端，其中所述第三可變電容器的所述第一端連接到所述第一可變電容器的所述第二端和所述第二可變電容器的所述第一端，并且所述第三可變電容器的所述第二端連接到線圈。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的襯底處理系統(tǒng)，其中：
所述線圈包括第一端和第二端；
所述調(diào)諧電路連接到所述第一端；以及
所述第二端連接到所述法拉第屏蔽件。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的襯底處理系統(tǒng)，其中所述第二端對應于所述線圈的中心抽頭。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的襯底處理系統(tǒng)，其還包括電容器，所述電容器包括連接到所述第二端的一端和連接到固定參考電位的相對端。
8.根據(jù)權(quán)利要求3所述的襯底處理系統(tǒng)，其中：
所述線圈包括第一端和第二端；
所述調(diào)諧電路連接到所述線圈的所述第一端；以及
所述線圈通過雜散電容耦合到所述法拉第屏蔽件。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的襯底處理系統(tǒng)，其還包括第一電容器，所述第一電容器包括連接到所述法拉第屏蔽件的第一端和連接到固定參考電位的第二端。
10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的襯底處理系統(tǒng)，其還包括第一電容器，所述第一電容器包括連接到所述線圈的第一端和連接到固定參考電位的第二端。
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