[發明專利]用于處理納米粒子或氣態物質的腔體單元在審
| 申請號: | 201710193316.0 | 申請日: | 2017-03-28 |
| 公開(公告)號: | CN107308758A | 公開(公告)日: | 2017-11-03 |
| 發明(設計)人: | 洪銀杓;樸永玉;金光得;羅壬·河乺里;全星玟;李江山;李在朗 | 申請(專利權)人: | 西恩基株式會社 |
| 主分類號: | B01D50/00 | 分類號: | B01D50/00;B01D46/52;B01D46/00;B01D53/86;B01D53/56;B01D53/50 |
| 代理公司: | 北京冠和權律師事務所11399 | 代理人: | 朱健 |
| 地址: | 韓國蔚*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用于 處理 納米 粒子 氣態 物質 單元 | ||
1.一種用于處理納米粒子或氣態物質的腔體單元,其包括,
漏斗部,其設置有流入部,并且去除通過所述流入部流入的納米粒子或氣態物質中的粗顆粒,納米粒子或氣態物質引入于流入部;
過濾集塵部,其設置于所述漏斗部上,并且設置有過濾器單元,所述過濾器單元對所述粗顆粒得到去除的納米粒子或氣態物質進行過濾;以及
混合部,其設置于所述過濾集塵部上,并且設置有脈沖部,所述脈沖部向所述過濾器單元施加脈沖。
2.根據權利要求1所述的用于處理納米粒子或氣態物質的腔體單元,其特征在于,所述漏斗部還包括:
閥門部,其設置于下部并控制所述漏斗部的操作,并且以旋風集塵方式將所述粗顆粒去除至下部。
3.根據權利要求1或2所述的用于處理納米粒子或氣態物質的腔體單元,其特征在于,所述過濾器單元包括:
上部蓋,其朝向所述脈沖部開放;
下部蓋,其位于所述上部蓋的另一端;以及
過濾器,其通過所述上部蓋及所述下部蓋進行固定,并且在外周面連續形成凹部和凸部,從而具有褶皺的形態。
4.根據權利要求3所述的用于處理納米粒子或氣態物質的腔體單元,其特征在于:
所述過濾器是陶瓷過濾器。
5.根據權利要求3或4所示的用于處理納米粒子或氣態物質的腔體單元,其特征在于,所述脈沖部包括:
脈沖生成部,其生成脈沖;
引入線,其與所述脈沖生成部相連接,并且引入至所述混合部的內部;以及
供給線,其與所述脈沖生成部相連接,并且向所述過濾器單元的上部蓋方向供給脈沖。
6.權利要求1至5中任意一項所述的用于處理納米粒子或氣態物質的腔體單元,其特征在于,
在引入至所述流入部的納米粒子或氣態物質中注入硫氧化物反應劑,從而對硫氧化物進行一次去除,
所述納米粒子或氣態物質中未被去除的殘留硫氧化物在所述過濾器單元中被捕集。
7.根據權利要求1至6中任意一項所述的用于處理納米粒子或氣態物質的腔體單元,其特征在于,還包括:
還原部,其在通過所述混合部的納米粒子或氣態物質中選擇性地還原并去除氮氧化物,
所述還原部包括多個催化模塊,所述多個催化模塊沿著所述納米粒子或氣態物質的進行方向連續排列。
8.根據權利要求7所述的用于處理納米粒子或氣態物質的腔體單元,其特征在于,所述混合部包括:
噴射部,其將還原劑注入于所述納米粒子或氣態物質;以及
第一混合單元,其使得所述還原劑混合于所述納米粒子或氣態物質;
所述還原部包括第二混合單元,所述第二混合單元使得所述還原劑和所述納米粒子或氣態物質追加混合。
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