[發(fā)明專利]減緩晶圓邊緣散焦的光刻方法

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201710188876.7
• 申請(qǐng)日: 2017-03-27
• 公開（公告）號(hào): CN107045268A
• 公開（公告）日: 2017-08-15
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 劉方群;朱治國;鄭海昌
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 上海華力微電子有限公司
• 主分類號(hào): G03F7/20
• 分類號(hào): G03F7/20;G03F9/00
• 代理公司: 上海思微知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙)31237
• 代理人: 智云

1.一種減緩晶圓邊緣散焦的光刻方法，其特征在于，包括以下步驟：

步驟一：提供一設(shè)置有自動(dòng)聚焦傳感器的光刻機(jī)，光刻機(jī)光刻時(shí)的掃描方向定義為掃描向，在水平面上垂直于掃描向的方向定義為非掃描向，所述自動(dòng)聚焦傳感器沿著非掃描向排列定義為排成行，沿著掃描向排列定義為排成列，增加自動(dòng)聚焦傳感器的列數(shù)到至少十一列；其中，所述光刻機(jī)中設(shè)置有至少七行自動(dòng)聚焦傳感器；

步驟二：晶圓被放置在所述光刻機(jī)的工件臺(tái)上，并被劃分為若干個(gè)曝光區(qū)域，增加的自動(dòng)聚焦傳感器位于所述曝光區(qū)域的外圍并靠近所述晶圓，在光刻時(shí)，分別對(duì)每個(gè)曝光區(qū)域進(jìn)行曝光，在對(duì)位于晶圓邊緣的曝光區(qū)域曝光時(shí)，使用自動(dòng)聚焦傳感器測(cè)量該曝光區(qū)域的非掃描向水平值；

步驟三：將步驟二得到的該曝光區(qū)域的非掃描向水平值補(bǔ)償至該曝光區(qū)域的邊緣平坦度中。

2.如權(quán)利要求1所述的減緩晶圓邊緣散焦的光刻方法，其特征在于，步驟二中在對(duì)位于晶圓邊緣的曝光區(qū)域曝光時(shí)，最多使用三列自動(dòng)聚焦傳感器測(cè)量該曝光區(qū)域的非掃描向水平值。

3.如權(quán)利要求2所述的減緩晶圓邊緣散焦的光刻方法，其特征在于，步驟二中當(dāng)晶圓邊緣的曝光區(qū)域不完整時(shí)，根據(jù)被曝光的曝光區(qū)域的尺寸選擇最多三列自動(dòng)聚焦傳感器測(cè)量該曝光區(qū)域的非掃描向水平值。

4.如權(quán)利要求2所述的減緩晶圓邊緣散焦的光刻方法，其特征在于，步驟二中當(dāng)晶圓邊緣的曝光區(qū)域不完整時(shí)，僅使用位于該曝光區(qū)域內(nèi)自動(dòng)聚焦傳感器以及相鄰列的自動(dòng)聚焦傳感器進(jìn)行測(cè)量，所述相鄰列的自動(dòng)聚焦傳感器位于該曝光區(qū)域靠近所述晶圓的一側(cè)。

5.如權(quán)利要求1所述的減緩晶圓邊緣散焦的光刻方法，其特征在于，步驟二中當(dāng)晶圓邊緣的曝光區(qū)域完整時(shí)，使用該曝光區(qū)域內(nèi)所有的自動(dòng)聚焦傳感器進(jìn)行測(cè)量。

6.權(quán)利要求1所述的減緩晶圓邊緣散焦的光刻方法，其特征在于，還包括步驟四：在曝光晶圓邊緣的曝光區(qū)域時(shí)，根據(jù)步驟三補(bǔ)償后得到的該曝光區(qū)域的邊緣平坦度調(diào)整所述工件臺(tái)。