[發(fā)明專利]處理粗乙炔氣的系統(tǒng)和方法

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201710183990.0
• 申請日: 2017-03-24
• 公開（公告）號: CN106831298A
• 公開（公告）日: 2017-06-13
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 史雪君;余海鵬;蘇二強;劉周恩;吳黎陽;史東軍;黃偉;吳道洪
• 申請（專利權(quán)）人: 北京華福工程有限公司
• 主分類號: C07C7/00
• 分類號: C07C7/00;C07C7/11;C07C7/148;C07C11/24;C01B17/74
• 代理公司: 北京清亦華知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙)11201
• 代理人: 趙天月

1.一種處理粗乙炔氣的系統(tǒng)，其特征在于，包括：

洗滌塔，所述洗滌塔具有粗乙炔氣入口、稀硫酸入口、洗滌后氣出口和廢硫酸出口；

清凈塔，所述清凈塔具有洗滌后氣入口、第一濃硫酸入口、清凈后氣出口和稀硫酸出口，所述稀硫酸出口與所述稀硫酸入口相連；

脫硫塔，所述脫硫塔具有清凈后氣入口和脫硫后氣出口，所述清凈后氣入口與所述清凈后氣出口相連；

脫磷砷塔，所述脫磷砷塔具有脫硫后氣入口和凈化乙炔氣出口，所述脫硫后氣入口與所述脫硫后氣出口相連；

澄清池，所述澄清池具有廢硫酸入口、澄清劑入口和澄清后液出口，所述廢硫酸入口與所述廢硫酸出口相連；

過濾器，所述過濾器具有澄清后液入口、固體雜質(zhì)出口和過濾后液出口，所述澄清后液入口與所述澄清后液出口相連；

裂解爐，所述裂解爐具有過濾后液入口和裂解氣出口，所述過濾后液入口與所述過濾后液出口相連；

轉(zhuǎn)化器，所述轉(zhuǎn)化器具有裂解氣入口和三氧化硫出口，所述裂解氣入口與所述裂解氣出口相連；

吸收塔，所述吸收塔具有三氧化硫入口、第二濃硫酸入口和硫酸產(chǎn)品出口，所述三氧化硫入口與所述三氧化硫出口相連。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其特征在于，進一步包括：

水洗塔，所述水洗塔具有粗乙炔氣進口、冷卻水入口、水洗后液出口和水洗后氣出口；

冷卻塔，所述冷卻塔具有水洗后氣入口和冷卻后氣出口，所述水洗后氣入口與所述水洗后氣出口相連；所述冷卻后氣出口與所述粗乙炔氣入口相連。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的系統(tǒng)，其特征在于，進一步包括：

酸霧捕集器，所述酸霧捕集器具有清凈后氣進口和捕集后氣出口，所述清凈后氣進口與所述清凈后氣出口相連，所述捕集后氣出口與所述清凈后氣入口相連。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述裂解爐為蓄熱式熱裂解爐，并且所述蓄熱式熱裂解爐的蓄熱室內(nèi)填充有蜂窩陶瓷蓄熱體。

5.一種利用權(quán)利要求1-4中所述的系統(tǒng)處理粗乙炔氣的方法，其特征在于，包括：

(1)將所述粗乙炔氣供給至所述洗滌塔中利用稀硫酸進行洗滌處理，以便得到洗滌后氣和廢硫酸；

(2)將所述洗滌后氣供給至所述清凈塔中利用第一濃硫酸進行處理，以便得到清凈后氣和稀硫酸，并將所述稀硫酸返回至步驟(1)中作為所述稀硫酸使用；

(3)將所述清凈后氣供給至所述脫硫塔中進行脫硫處理，以便得到脫硫后氣；

(4)將所述脫硫后氣供給至所述脫磷砷塔中進行脫磷砷處理，以便得到凈化乙炔氣；

(5)將步驟(1)得到的所述廢硫酸供給至所述澄清池中利用澄清劑進行澄清處理，以便得到澄清后液；

(6)將所述澄清后液供給至所述過濾器中進行過濾處理，以便得到固體雜質(zhì)和過濾后液；

(7)將所述過濾后液供給至所述裂解爐中進行裂解處理，以便得到裂解氣；

(8)將所述裂解氣供給所述轉(zhuǎn)化器中進行轉(zhuǎn)化處理，以便得到三氧化硫；

(9)將所述三氧化硫供給至所述吸收塔中利用第二濃硫酸進行吸收，以便得到硫酸產(chǎn)品。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的方法，其特征在于，在將所述粗乙炔氣供給至所述洗滌塔中利用稀硫酸進行洗滌處理之前，預(yù)先包括：

(10)將所述粗乙炔氣供給至所述水洗塔中利用冷卻水進行水洗除塵處理，以便得到水洗后液和水洗后氣；

(11)將所述水洗后氣供給至所述冷卻塔中進行冷卻處理，以便得到冷卻后氣，并將所述冷卻后氣供給至步驟(1)中作為所述粗乙炔氣使用。

7.根據(jù)權(quán)利要求5或6所述的方法，其特征在于，在將所述清凈后氣供給至所述脫硫塔中進行脫硫處理之前，預(yù)先包括：

(12)將步驟(2)得到的所述清凈后氣供給至所述酸霧捕集器中進行處理，以便得到捕集后氣，并將所述捕集后氣供給至步驟(3)中作為所述清凈后氣使用。

8.根據(jù)權(quán)利要求5所述的方法，其特征在于，在步驟(1)中，所述稀硫酸的濃度為78-85wt％。

9.根據(jù)權(quán)利要求5所述的方法，其特征在于，在步驟(7)中，所述裂解處理的溫度為900～1200攝氏度。