[發明專利]一種TFT?LCD/AMOLED平面顯示器寬幅鉬靶材的軋制工藝在審

申請號：	201710183820.2	申請日：	2017-03-24
公開（公告）號：	CN106964650A	公開（公告）日：	2017-07-21
發明（設計）人：	孫虎民;崔冬樂;高建杰	申請（專利權）人：	洛陽高新四豐電子材料有限公司
主分類號：	B21B1/38	分類號：	B21B1/38;B21B27/10;C22F1/18;C21D1/74
代理公司：	鄭州知己知識產權代理有限公司41132	代理人：	季發軍
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摘要：
搜索關鍵詞：	一種 tft lcd amoled 平面顯示器寬幅鉬靶材軋制工藝
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【說明書】：

技術領域

本發明屬于濺射靶材制備技術領域，具體涉及一種TFT-LCD/AMOLED平面顯示器用寬幅鉬靶材的制備工藝。

背景技術

隨著顯示技術的迭代更新，AMOLED有望成為繼LCD后的“下一代顯示技術”。AMOLED具有的諸多優點包括高亮度、高對比度、高色域范圍和可視角度，低能耗、更輕薄以及柔性特點。隨著AMOLED技術的不斷從成熟，良率以及產能的提升，其應用場景將大大擴展，包括智能手機、智能硬件、VR、照明等領域都將是應用重點。AMOLED顯示與照明的市場空間廣闊，全產業鏈有望快速發展。作為TFT-LCD/AMOLED平面顯示器用鉬靶材用量逐步增大。

寬幅鉬靶材主要用于4.5-6代線TFT-LCD/AMOLED平面顯示器，一般厚度為12-18mm，寬度1000-1800mm，長度1200-2300mm，單重大于200kg，技術要求高，密度大于10.18g/cm³，顯微金相組織要求為均勻等軸晶粒，平均晶粒尺寸不超過100μm，鉬板內部無異常缺陷，板面平整度高。常規小尺寸鉬板軋制方法為氫氣爐保護加熱，直接軋制。大尺寸鉬板重量和成品尺寸大，常規軋機無法軋制，需要在定制大型氫氣爐里加熱，通過快速輥道輸送給寬幅軋機，軋制完成，回爐退火后利用余熱進入九輥校平機校平，得到鉬板平整度小于2mm，平均晶粒尺寸小于100μm，掃描探傷后內部組織無異常缺陷。

中國專利CN102534519A公開了一種LCD平板顯示器濺射靶材用大尺寸鉬板的制備方法，該方法為：1）在常規方法壓制和燒結的鉬板坯表面均勻涂刷抗氧化涂層；2）將涂刷有抗氧化涂層的鉬板坯用鋼包套包覆；3）對包覆有鋼包套的鉬板坯進行一火次的軋制，然后置于冷床上冷卻；4）將冷卻后的鉬板坯軋制至厚度為 19mm～24mm(含鋼包套) ；5）將軋制的鉬板坯進行校平處理，去除鋼包套，切割，得到半成品鉬板；6）將半成品鉬板進行真空熱處理，得到 LCD 平板顯示器濺射靶材用大尺寸鉬板。該方法的不足之處在于，刷涂層和包覆鋼套工序復雜，造成成本浪費，高溫加熱過程中引入其他雜質元素影響靶材純度。

中國專利CN104624642A公開了一種濺射靶材用大單重寬幅鉬板帶的軋制方法，該方法生產鉬板帶厚度4.5mm，屬于薄鉬板，密度只有10.01 g/cm³不能滿足現在TFT-LCD/AMOLED平面顯示器的密度大于10.18g/cm³，平均晶粒尺寸不超過100μm的使用要求。

發明內容

本發明提供了一種TFT-LCD/AMOLED平面顯示器用寬幅鉬靶材的制備工藝，解決了現有寬幅鉬靶材的制備方法中需要刷涂層和包覆鋼套工序復雜，造成成本浪費，高溫加熱過程中引入其他雜質元素影響靶材純度等問題。

為解決上述技術問題，本發明采用的技術方案：

一種TFT-LCD/AMOLED平面顯示器寬幅鉬靶材的軋制工藝，包括以下步驟：

（1）、選擇尺寸為70-120mm~500-800mm~900-1300mm鉬板坯為原料，鉬板坯的端口設有咬入角，保證鉬板坯能夠順利咬入寬幅軋機，順利完成軋制工序；

（2）、鉬燒結坯進行第一次加熱；

（3）、加熱完成后的鉬坯放入輥道，進行一火次軋制，軋制加工率為50%-60%；

（4）、一火軋制完成后，進行90度角換向，然后進行第二次加熱；

（5）、加熱完成后，進行二火軋制，軋制后的板坯厚度為12-18mm，所述軋制加工率為20%-30%；

（6）、將軋制成的半成品鉬板厚度為12-18mm，寬度1000-1800mm，長度1200-2300mm，利用軋制余熱送入進行預校平；

（7）、預校平后的所述半成品鉬板在氫氣爐中900-1100℃熱處理2-3h，然后最終校平處理，得到寬幅鉬靶材。