[發明專利]靶坯的加工方法有效
| 申請號: | 201710183783.5 | 申請日: | 2017-03-24 |
| 公開(公告)號: | CN108620816B | 公開(公告)日: | 2020-04-21 |
| 發明(設計)人: | 姚力軍;潘杰;相原俊夫;王學澤;張良進 | 申請(專利權)人: | 寧波江豐電子材料股份有限公司 |
| 主分類號: | B23P15/00 | 分類號: | B23P15/00 |
| 代理公司: | 北京集佳知識產權代理有限公司 11227 | 代理人: | 吳敏 |
| 地址: | 315400 浙江省寧波*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 加工 方法 | ||
本發明提供一種靶坯的加工方法,包括:提供含鎢初始靶坯,所述初始靶坯包括第一焊接面、與所述第一焊接面相對的濺射面、以及位于所述第一焊接面與所述濺射面之間的第一側面;對所述濺射面進行第一車削加工,在所述濺射面中心處形成中心孔;沿所述中心孔指向所述第一側面的方向,對所述濺射面進行第二車削加工,使所述濺射面為向所述第一焊接面凹陷的弧面,第二車削加工后的所述初始靶坯作為靶坯。本發明通過所述中心孔,使所述車削加工所采用的刀具從所述中心孔處開始加工,從而避免所述刀具的刀尖直接與所述濺射面接觸,進而可以避免所述刀具發生崩刃或破損的問題,且還有利于提高所述靶坯的外觀質量和性能。
技術領域
本發明涉及半導體制造領域,尤其涉及一種靶坯的加工方法。
背景技術
濺射技術是半導體制造領域的常用工藝之一,隨著濺射技術的日益發展,濺射靶材在濺射技術中起到了越來越重要的作用,濺射靶材的質量直接影響到了濺射后的成膜質量。
在濺射靶材制造領域中,靶材組件是由符合濺射性能的靶坯、與靶坯通過焊接相結合的背板構成,且根據客戶需求,對所述靶坯的濺射面進行車削加工,將所述濺射面加工成目標形貌。
但是,現有技術靶坯的加工質量較差。
發明內容
本發明解決的問題是提供一種靶坯的加工方法,提高靶坯的加工質量。
為解決上述問題,本發明提供一種靶坯的加工方法,包括:提供含鎢初始靶坯,所述初始靶坯包括第一焊接面、與所述第一焊接面相對的濺射面、以及位于所述第一焊接面與所述濺射面之間的第一側面;對所述濺射面進行第一車削加工,在所述濺射面中心處形成中心孔;沿所述中心孔指向所述第一側面的方向,對所述濺射面進行第二車削加工,使所述濺射面為向所述第一焊接面凹陷的弧面,第二車削加工后的所述初始靶坯作為靶坯。
可選的,所述初始靶坯的材料為鎢或鎢鈦。
可選的,所述初始靶坯的形狀為圓柱體;在所述第二車削加工后,所述濺射面為向所述第一焊接面凹陷的圓弧面。
可選的,在所述第二車削加工后,所述濺射面的弧半徑是2301毫米至2303毫米。
可選的,在所述第二車削加工后,所述濺射面的弧面深度為4.64毫米至4.84毫米。
可選的,采用10毫米鉆頭對所述濺射面進行第一車削加工;所述第一車削加工的參數包括:切削速度為9.9毫米/分鐘至10.1毫米/每分鐘,吃刀量為0.05毫米至0.2毫米,所述初始靶坯的轉速為100轉/分鐘至200轉/分鐘。
可選的,所述中心孔的深度為4毫米至4.5毫米。
可選的,對所述濺射面進行第二車削加工的步驟包括:對所述濺射面進行濺射面粗車加工;在所述濺射面粗車加工后,對所述濺射面進行濺射面精車加工。
可選的,采用80度內圓開粗刀,對所述濺射面進行濺射面粗車加工;所述濺射面粗車加工的參數包括:切削速度為19.9毫米/分鐘至20.1毫米/每分鐘,吃刀量為0.05毫米至0.2毫米,所述初始靶坯的轉速為200轉/分鐘至300轉/分鐘。
可選的,采用80度內圓開粗刀,對所述濺射面進行濺射面精車加工;所述濺射面精車加工的參數包括:切削速度為19.9毫米/分鐘至20.1毫米/每分鐘,吃刀量為0.05毫米至0.2毫米,所述初始靶坯的轉速為200轉/分鐘至300轉/分鐘。
可選的,對所述濺射面進行第一車削加工之前,所述加工方法還包括:提供背板,所述背板包括第二焊接面、與所述第二焊接面相對的背面、以及位于所述第二焊接面和背面之間的第二側面;將所述第一焊接面和第二焊接面相對設置并貼合,通過焊接工藝將所述初始靶坯焊接于所述背板上;對所述濺射面進行第二車削加工后,所述靶坯與所述背板構成靶材組件。
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