[發明專利]定位光束發射系統、方法及室內定位系統有效
| 申請號: | 201710183599.0 | 申請日: | 2016-03-16 |
| 公開(公告)號: | CN107064873B | 公開(公告)日: | 2019-02-15 |
| 發明(設計)人: | 董榮省;郭成;謝祖永 | 申請(專利權)人: | 北京國承萬通信息科技有限公司 |
| 主分類號: | G01S5/16 | 分類號: | G01S5/16 |
| 代理公司: | 北京展翼知識產權代理事務所(特殊普通合伙) 11452 | 代理人: | 屠長存 |
| 地址: | 100080 北京市海淀區中關*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 定位 光束 發射 系統 方法 室內 | ||
1.一種定位光束發射系統,用于向定位空間發射定位光束,所述定位空間能夠被擴展,所述定位空間包括多個子定位空間,該系統包括:
多個定位光束發射裝置,分別設置在所述多個子定位空間內的預定位置,每個所述定位光束發射裝置用于以預定的掃射周期和預定的角速度向其所在的子定位空間掃射定位光束,所述定位光束具有線狀截面,并且繞掃射轉軸轉動,所述掃射轉軸與所述線狀截面的延伸方向不垂直;以及
控制器,分別與所述多個定位光束發射裝置連接,通過控制所述多個定位光束發射裝置所掃射的定位光束的頻率或幅度,或對所述多個定位光束發射裝置所掃射的定位光束進行編碼,使得不同定位光束發射裝置所掃射的定位光束不同。
2.根據權利要求1所述的定位光束發射系統,其中,在所述控制器的控制作用下,
同一時間發射定位光束的定位光束發射裝置所掃射的定位光束不同,或者
相鄰子定位空間內的定位光束發射裝置所掃射的定位光束不同。
3.根據權利要求1所述的定位光束發射系統,其中,
每個所述定位光束發射裝置在每個所述掃射周期內以兩種掃射模式向其所在的子定位空間掃射定位光束,
所述兩種掃射模式的工作時期不同,并且/或者兩種掃射模式下掃射的定位光束的頻率、幅度或編碼不同,
第二種掃射模式下的第二定位光束的掃射轉軸與第一種掃射模式下的第一定位光束的掃射轉軸具有預定夾角。
4.根據權利要求3所述的定位光束發射系統,其中,
所述第一定位光束的線狀截面的延伸方向和所述掃射轉軸垂直于水平面,并且所述第二定位光束的線狀截面的延伸方向和所述掃射轉軸平行于水平面;或者
所述第一定位光束的線狀截面的延伸方向和所述掃射轉軸平行于水平面,并且所述第二定位光束的線狀截面的延伸方向和所述掃射轉軸垂直于水平面。
5.根據權利要求4所述的定位光束發射系統,其中,
所述定位光束發射裝置所掃射的定位光束的有效范圍被設置為能夠覆蓋其所在的子定位空間而不超出與其所在的子定位空間相鄰的子定位空間。
6.根據權利要求5所述的定位光束發射系統,其中,
在每個所述子定位空間內彼此遠離的兩個位置處分別設置有所述定位光束發射裝置,
相鄰子定位空間內同時進行掃射的定位光束發射裝置的兩種掃射模式的啟動順序不同,同一子定位空間內的不同定位光束發射裝置掃射定位光束的時期不同;或者
相鄰子定位空間內的定位光束發射裝置掃射定位光束的時期不同,同一子定位空間內的不同定位光束發射裝置的兩種掃射模式的啟動順序不同。
7.根據權利要求5所述的定位光束發射系統,其中,所述定位光束發射裝置包括:
第一掃射光源,用于向其所在的子定位空間掃射所述第一定位光束;
第二掃射光源,用于向其所在的子定位空間掃射所述第二定位光束;以及
面光源,用于在每個所述掃射周期內向其所在的子定位空間發射平面光脈沖,
所述第一掃射光源和所述第二掃射光源在所述掃射周期內的不同時期向其所在的子定位空間掃射定位光束,
在每個所述掃射周期內,所述第一掃射光源開始掃射所述第一定位光束的時間與所述面光源發射所述平面光脈沖的時間之間具有第一固定時間間隔,所述第二掃射光源開始掃射所述第二定位光束的時間與所述面光源發射所述平面光脈沖的時間之間具有第二固定時間間隔。
8.根據權利要求7所述的定位光束發射系統,其中,
在每個所述掃射周期內,在所述面光源發射第一平面光脈沖后,所述第一掃射光源開始向其所在的子定位空間掃射定位光束,在所述面光源發射第二平面光脈沖后,所述第二掃射光源開始向其所在的子定位空間掃射定位光束,所述第一平面光脈沖和所述第二平面光脈沖之間具有固定時間間隔,
所述第一掃射光源開始掃射所述第一定位光束的時間與所述面光源發射所述第一平面光脈沖的時間之間具有第一固定時間間隔,所述第二掃射光源開始掃射所述第二定位光束的時間與所述面光源發射所述第二平面光脈沖的時間之間具有第二固定時間間隔。
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