[發明專利]導電性支持體、電子照相感光體和圖像形成裝置

在審

• 申請號: 201710182531.0
• 申請日: 2017-03-24
• 公開（公告）號: CN107664931A
• 公開（公告）日: 2018-02-06
• 發明（設計）人: 奧田紫織;小川寬晃;中村章彥
• 申請（專利權）人: 富士施樂株式會社
• 主分類號: G03G5/10
• 分類號: G03G5/10
• 代理公司: 北京三友知識產權代理有限公司11127
• 代理人: 龐東成,龔澤亮

技術領域

本發明涉及一種電子照相感光體用導電性支持體、電子照相感光體和圖像形成裝置。

背景技術

在一種已知包括在電子照相圖像形成裝置中的電子照相感光體中，在導電性支持體上至少設置有感光層。已知導電性支持體的實例包括以下的導電性支持體。

日本專利文獻特開2016-4124號公報公開了一種電子照相感光體用導電性支持體。該導電性支持體包含鋁且由晶體組成，在X射線衍射下的晶體的吸收峰的半峰寬為5mm以上且30mm以下。

日本專利文獻特開2014-38136號公報中公開了一種電子照相感光體用導電性支持體。該導電性支持體包含鋁且楊氏模量為32000MPa至55000MPa。

發明內容

因此，本發明的目的在于提供一種電子照相感光體用導電性支持體，與即使設置感光層后仍暴露的裸露區域的整個部分的表面殘余應力為-10MPa以上的情況相比，可抑制重復圖像形成時發生圖像缺陷。

根據本發明的第一方面，提供了一種電子照相感光體用導電性支持體，所述導電性支持體包括金屬圓筒部件，其中，即使在所述導電性支持體上設置感光層后，所述導電性支持體仍具有暴露的裸露區域，并且所述裸露區域的至少一部分的外周面的表面殘余應力為約-10MPa以下。

本發明的第二方面提供了根據第一方面的電子照相感光體用導電性支持體，其中，所述外周面的所述表面殘余應力為約-30MPa以下。

本發明的第三方面提供了根據第一方面的電子照相感光體用導電性支持體，其中，所述外周面的所述表面殘余應力為約-70MPa以上。

本發明的第四方面提供了根據第一方面的電子照相感光體用導電性支持體，其中，所述導電性支持體由含鋁金屬制成。

本發明的第五方面提供了根據第一方面的電子照相感光體用導電性支持體，其中，即使設置所述感光層后仍暴露的所述裸露區域的所述至少一部分的所述外周面的所述表面殘余應力在所述外周面的整個周面仍為約-10MPa以下。

本發明的第六方面提供了根據第五方面的電子照相感光體用導電性支持體，其中，所述外周面的所述表面殘余應力為約-30MPa以下。

本發明的第七方面提供了根據第五方面的電子照相感光體用導電性支持體，其中，所述外周面的所述表面殘余應力為約-70MPa以上。

本發明的第八方面提供了根據第五方面的電子照相感光體用導電性支持體，其中，所述導電性支持體由含鋁金屬制成。

根據本發明的第九方面，提供了一種電子照相感光體，其包括：包括金屬圓筒部件的導電性支持體；以及設置在所述導電性支持體上的感光層，

其中，所述導電性支持體具有裸露區域，并且所述裸露區域的至少一部分的外周面的表面殘余應力為約-10MPa以下。

本發明的第十方面提供了根據第九方面的電子照相感光體，其中，所述外周面的所述表面殘余應力為約-30MPa以下。

本發明的第十一方面提供了根據第九方面的電子照相感光體，其中，所述外周面的所述表面殘余應力為約-70MPa以上。

本發明的第十二方面提供了根據第九方面的電子照相感光體，其中，所述導電性支持體由含鋁金屬制成。

本發明的第十三方面提供了根據第九方面的電子照相感光體，其中，所述裸露區域的所述至少一部分的所述外周面的所述表面殘余應力在所述外周面的整個周面為約-10MPa以下。

本發明的第十四方面提供了根據第十三方面的電子照相感光體，其中，所述外周面的所述表面殘余應力為約-30MPa以下。

本發明的第十五方面提供了根據第十三方面的電子照相感光體，其中，所述外周面的所述表面殘余應力為約-70MPa以上。

本發明的第十六方面提供了根據第十三方面的電子照相感光體，其中，所述導電性支持體由含鋁金屬制成。

根據本發明的第十七方面，提供了一種圖像形成裝置，其包括：

根據第九至第十六方面的任一方面所述的電子照相感光體；

接觸部件，其與所述電子照相感光體的所述導電性支持體的所述外周面的某個區域直接接觸，所述區域的表面殘余應力為約-10MPa以下；

充電單元，其對所述電子照相感光體的表面進行充電；

靜電潛像形成單元，其在已充電的所述電子照相感光體的表面上形成靜電潛像；

顯影單元，其利用含有色調劑的顯影劑使在所述電子照相感光體的所述表面上形成的所述靜電潛像顯影以形成色調劑圖像；以及

轉印單元，其將所述色調劑圖像轉印至記錄介質的表面。