[發明專利]基體材料處理裝置和基體材料處理方法有效
| 申請號: | 201710181468.9 | 申請日: | 2017-03-24 |
| 公開(公告)號: | CN107230775B | 公開(公告)日: | 2020-09-18 |
| 發明(設計)人: | 陸井秀晃 | 申請(專利權)人: | 株式會社斯庫林集團 |
| 主分類號: | H01M4/139 | 分類號: | H01M4/139;H01M4/04;H01M10/058 |
| 代理公司: | 隆天知識產權代理有限公司 72003 | 代理人: | 向勇;崔炳哲 |
| 地址: | 日本京都*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 基體 材料 處理 裝置 方法 | ||
1.一種基體材料處理裝置,其中,
具有:
搬運部,將主面供給有涂敷液的基體材料,沿著搬運路徑搬運,以及,
干燥部,通過對被上述搬運部搬運的上述基體材料實施包括加熱處理的處理,對供給至上述主面的上述涂敷液進行干燥;
上述搬運部具有:
第一搬運構件,沿著上述搬運路徑設置于上述干燥部的上游側,且用于搬運上述基體材料,以及,
第二搬運構件,沿著上述搬運路徑設置于上述干燥部的下游側,且用于隔著氣體層搬運上述基體材料,
上述搬運部對位于上述干燥部中的上述基體材料的搬運方向與上述搬運部對位于上述干燥部的下游側的上述基體材料的搬運方向不同,
上述第二搬運構件一邊具有相對于上述基體材料的夾角一邊搬運上述基體材料。
2.根據權利要求1所述的基體材料處理裝置,其中,
上述搬運部還具有第三搬運構件,該第三搬運構件沿著上述搬運路徑設置于上述干燥部的下游側,且上述第三搬運構件與上述基體材料之間的接觸面積大于上述第二搬運構件與上述基體材料之間的接觸面積,
上述第三搬運構件沿著上述搬運路徑位于上述第二搬運構件的下游側。
3.根據權利要求1所述的基體材料處理裝置,其中,
上述第二搬運構件包括能夠以軸為中心旋轉的輥,該軸與上述主面平行,且沿著與上述基體材料的搬運方向交叉的交叉方向延伸,
還包括驅動部,該驅動部以使上述輥的周速大于被上述搬運部搬運的上述基體材料的搬運速度的方式,使上述輥旋轉。
4.根據權利要求1所述的基體材料處理裝置,其中,
上述搬運部包括多個輥,該多個輥能夠在上述干燥部的下游側,分別以與上述主面平行且沿著與上述基體材料的搬運方向交叉的交叉方向延伸的軸為中心進行旋轉來搬運上述基體材料,且在上述搬運路徑的一區間內排列設置,
上述一區間的前后的上述搬運路徑的延伸方向的角度差為,將上述多個輥相對于上述基體材料的夾角相加而得到的合計值。
5.根據權利要求1所述的基體材料處理裝置,其中,
上述第二搬運構件包括供氣輥,上述供氣輥能夠以軸為中心進行旋轉,該軸與上述主面平行,且沿著與上述基體材料的搬運方向交叉的交叉方向延伸,該供氣輥具有設置有供氣口的外周部和與該供氣口連接的供氣路徑,
還具有氣體供給部,該氣體供給部用于向上述供氣路徑供給氣體。
6.根據權利要求5所述的基體材料處理裝置,其中,
上述氣體的溫度比上述基體材料中的被上述供氣輥搬運的部分的溫度低。
7.根據權利要求1至6中任一項所述的基體材料處理裝置,其中,
上述干燥部在對被上述搬運部搬運的上述基體材料實施上述加熱處理之后實施冷卻處理,從而對供給至上述主面的涂敷液進行干燥,該冷卻處理是對通過上述加熱處理加熱的上述基體材料進行冷卻的處理。
8.一種基體材料處理方法,其中,
包括:
干燥工序,通過對主面供給有涂敷液的基體材料實施包括加熱處理的處理,對供給至上述主面的上述涂敷液進行干燥;以及,
搬運工序,利用搬運構件隔著氣體層搬運實施了上述干燥工序的處理的上述基體材料,
在上述干燥工序中的上述基體材料的搬運方向與在上述干燥工序之后的工序中的上述基體材料的搬運方向不同,
上述搬運構件一邊具有相對于上述基體材料的夾角一邊搬運上述基體材料。
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