[發(fā)明專利]像素界定層、有機電致發(fā)光器件及其制備方法和顯示裝置

有效

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• 申請日: 2017-03-24
• 公開（公告）號: CN108630728B
• 公開（公告）日: 2020-07-28
• 發(fā)明（設計）人: 侯文軍
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司
• 主分類號: H01L27/32
• 分類號: H01L27/32;H01L51/50;H01L51/56
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所 11105
• 代理人: 彭久云

本公開提供一種像素界定層，該像素界定層包括：具有多個界定像素區(qū)域的開口的基底界定層，以及設置在所述基底界定層的至少一個所述開口的側面上的第一界定層，其中，所述基底界定層和所述第一界定層的材料不相同。在本公開中，通過在像素界定層中基底界定層的至少一個開口的側面上設置第一界定層，且該基底界定層和第一界定層的材料不相同，從而使該像素界定層可以更廣泛地適應于不同材料形成的空穴注入層，使空穴注入層成膜更均勻，從而使有機電致發(fā)光器件的發(fā)光效率更高、器件的壽命更長。

技術領域

本發(fā)明的實施例涉及一種像素界定層及其制備方法、有機電致發(fā)光器件及其制備方法和顯示裝置。

背景技術

有機電致發(fā)光二極管(OLED，Organic Light Emitting Diode)是一種有機薄膜電致發(fā)光器件，其具有制備工藝簡單、成本低、發(fā)光效率高、易形成柔性結構等優(yōu)點。因此，利用有機電致發(fā)光二極管的顯示技術已成為一種重要的顯示技術。

有機薄膜電致發(fā)光器件中有機電致發(fā)光層形成方法包括真空蒸鍍方法和溶液法。真空蒸鍍方法適用于有機小分子，該有機電致發(fā)光層的形成不需要溶劑，形成的有機電致發(fā)光層薄膜的厚度均一，但是設備投資大、材料利用率低、該方法不適用于大尺寸產品的生產。溶液法包括旋涂、噴墨打印、噴嘴涂覆法等，該方法適用于聚合物材料和可溶性小分子，其特點是設備成本低，在大規(guī)模、大尺寸生產上優(yōu)勢突出。特別是噴墨打印技術，能將溶液精準的噴墨到像素區(qū)中，形成有機功能層，但是其最大的難點是有機功能層材料的溶液在像素區(qū)內難以形成厚度均一的有機功能層。

發(fā)明內容

本發(fā)明至少一實施例提供一種像素界定層，該像素界定層包括：具有多個界定像素區(qū)域的開口的基底界定層，以及設置在所述基底界定層的至少一個所述開口的側面上的第一界定層，其中，所述基底界定層和所述第一界定層的材料不相同。

例如，本發(fā)明至少一實施例提供的像素界定層，還包括：設置在所述基底界定層的至少一個所述開口的側面上的第二界定層，所述基底界定層、所述第一界定層和所述第二界定層的材料互不相同。

例如，在本發(fā)明至少一實施例提供的像素界定層中，所述基底界定層的材料包括親水性材料或者第一疏水性材料；所述第一界定層的材料包括第二疏水性材料；所述第二界定層的材料包括第三疏水性材料。

例如，在本發(fā)明至少一實施例提供的像素界定層中，所述第一疏水性材料、所述第二疏水性材料和所述第三疏水性材料均包括氟化聚酰亞胺、氟化聚甲基丙烯酸甲酯或者氟化有機硅中的至少之一。

例如，在本發(fā)明至少一實施例提供的像素界定層中，當所述第一疏水性材料和所述第二疏水性材料或者所述第三疏水性材料僅氟化程度不同時，所述第一疏水性材料中氟化基團與未氟化基團的比值小于所述第二疏水性材料和所述第三疏水性材料中氟化基團與未氟化基團的比值。

例如，在本發(fā)明至少一實施例提供的像素界定層中，所述親水性材料包括無機親水性材料或者有機親水性材料，所述無機親水性材料包括SiO₂、SiN_x或者SiON_x中的至少之一；所述有機親水性材料包括聚酰亞胺、聚甲基丙烯酸甲酯或者有機硅樹脂中的至少之一。

例如，在本發(fā)明至少一實施例提供的像素界定層中，去離子水在所述基底界定層上的接觸角小于去離子水在所述第一界定層或者所述第二界定層上的接觸角，且相差30°～90°。

例如，在本發(fā)明至少一實施例提供的像素界定層中，所述基底界定層的厚度為3～50μm，所述第一界定層和所述第二界定層的厚度為1～3μm。

本發(fā)明至少一實施例還提供一種有機電致發(fā)光器件，包括：襯底基板；設置在所述襯底基板上的如上所述的像素界定層；設置在所述基底界定層的開口中的有機功能層。

例如，在本發(fā)明至少一實施例提供的有機電致發(fā)光器件中，所述有機功能層包括層疊設置的空穴注入層和有機發(fā)光層。