[發明專利]溶液制膜裝置及方法有效
| 申請號: | 201710177206.5 | 申請日: | 2017-03-23 |
| 公開(公告)號: | CN107225717B | 公開(公告)日: | 2020-12-15 |
| 發明(設計)人: | 金村一秀 | 申請(專利權)人: | 富士膠片株式會社 |
| 主分類號: | B29C41/28 | 分類號: | B29C41/28;B29C41/52;B29L7/00 |
| 代理公司: | 永新專利商標代理有限公司 72002 | 代理人: | 周欣;陳建全 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 溶液 裝置 方法 | ||
1.一種溶液制膜裝置,其是通過將聚合物溶解于溶劑中而得到的聚合物溶液流延到移動的支撐體上而形成流延膜的溶液制膜裝置,具備:
一對遮風板,其沿著所述流延膜的側緣設置,并將所述支撐體的上方的空間分隔成所述流延膜所流延的內側區域、和所述流延膜的外側的外側區域;
溶劑氣體抽吸機構,其從配置在所述內側區域內的吸氣口進行吸氣,對包含從所述流延膜揮發的溶劑的溶劑氣體進行抽吸;和
溶劑氣體供給機構,其將包含使所述聚合物溶解的溶劑的溶劑氣體供給至所述支撐體與所述遮風板之間的間隙,
在將所述溶劑氣體抽吸機構所抽吸的溶劑氣體即抽吸氣體的濃度設為A、將所述溶劑氣體供給機構所供給的溶劑氣體即供給氣體的濃度設為B時,滿足
A/5≤B。
2.根據權利要求1所述的溶液制膜裝置,其中,在將所述流延膜中的溶劑的質量設為MS,將所述流延膜的質量設為MF時,
在以{MS/(MF-MS)}×100表示的溶劑含有率為200%以上的區域中,進行利用所述溶劑氣體抽吸機構的抽吸、和利用所述溶劑氣體供給機構的供給。
3.根據權利要求1或2所述的溶液制膜裝置,其中,設置有將一個所述遮風板的上端部與另一個所述遮風板的上端部連接的蓋部件,
通過所述蓋部件將所述內側區域從上方覆蓋。
4.根據權利要求1或2所述的溶液制膜裝置,其中,在所述內側區域中,設置有通過對所述流延膜照射紅外線而促進所述流延膜中包含的溶劑的揮發的紅外線照射機。
5.根據權利要求1或2所述的溶液制膜裝置,其中,所述溶劑氣體供給機構從設置在所述遮風板的下端部的側面的供給口進行所述供給。
6.根據權利要求5所述的溶液制膜裝置,其中,所述溶劑氣體供給機構從所述供給口朝向下方的所述支撐體垂直地供給包含使所述聚合物溶解的溶劑的溶劑氣體。
7.根據權利要求1或2所述的溶液制膜裝置,其中,在將所述溶劑氣體抽吸機構所抽吸的溶劑氣體即抽吸氣體的濃度設為A、將所述溶劑氣體供給機構所供給的溶劑氣體即供給氣體的濃度設為B時,滿足
B≤A。
8.根據權利要求1或2所述的溶液制膜裝置,其中,具備:
測定所述溶劑氣體抽吸機構所抽吸的溶劑氣體的濃度的傳感器;和
基于所述傳感器的測定結果而控制從所述溶劑氣體供給機構供給的溶劑氣體的濃度的供給氣體濃度控制機構。
9.根據權利要求1或2所述的溶液制膜裝置,其中,從所述溶劑氣體供給機構供給所述溶劑氣體抽吸機構所抽吸的溶劑氣體。
10.根據權利要求1或2所述的溶液制膜裝置,其中,通過將所述流延膜從所述支撐體上剝取而制造的膜的厚度為40μm以下。
11.一種溶液制膜方法,其具有以下步驟:通過將聚合物溶解于溶劑中而得到的聚合物溶液流延到移動的支撐體上而形成流延膜的流延膜形成步驟;將所述流延膜移送至從所述支撐體上剝取的剝取位置的移送步驟;和在所述剝取位置處將所述流延膜從所述支撐體上剝取的剝取步驟,
在所述移送步驟中,
通過沿著所述流延膜的側緣而設置的一對遮風板,將所述支撐體的上方的空間分隔成所述流延膜所流延的內側區域、和所述流延膜的外側的外側區域,
從配置在所述內側區域內的吸氣口進行吸氣,對包含從所述流延膜揮發的溶劑的溶劑氣體進行抽吸,
從所述支撐體與所述遮風板之間的間隙供給包含使所述聚合物溶解的溶劑的溶劑氣體,
在將所抽吸的溶劑氣體即抽吸氣體的濃度設為A、將所供給的溶劑氣體即供給氣體的濃度設為B時,滿足
A/5≤B。
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