[發(fā)明專(zhuān)利]對(duì)靶面光強(qiáng)分布進(jìn)行勻滑的方法及其裝置

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201710175131.7
• 申請(qǐng)日: 2017-03-22
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN106908956A
• 公開(kāi)（公告）日: 2017-06-30
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 鄭天然;張穎;耿遠(yuǎn)超;黃晚晴;劉蘭琴;孫喜博;王文義;李平;張銳;粟敬欽
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 中國(guó)工程物理研究院激光聚變研究中心
• 主分類(lèi)號(hào): G02B27/09
• 分類(lèi)號(hào): G02B27/09
• 代理公司: 北京遠(yuǎn)大卓悅知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙)11369
• 代理人: 鄭健

1.一種對(duì)靶面光強(qiáng)分布進(jìn)行勻滑的方法，其特征在于，包括：

通過(guò)光強(qiáng)調(diào)制器及連續(xù)相位板對(duì)經(jīng)透鏡出射在靶面上的激光束，進(jìn)行光強(qiáng)分布勻滑調(diào)整，以在靶面上構(gòu)成整塊的勻滑焦斑分布。

2.如權(quán)利要求1所述的對(duì)靶面光強(qiáng)分布進(jìn)行勻滑的方法，其特征在于，所述光強(qiáng)調(diào)制器的調(diào)制參數(shù)獲取包括以下步驟:

預(yù)設(shè)靶面上勻滑調(diào)整后的光強(qiáng)分布I_target(x_f,y_f)，其中x_f、y_f分別為靶面的橫、縱坐標(biāo)；

經(jīng)激光器發(fā)射的激光束的光強(qiáng)分布為I₀(x,y)，其中x、y分別為激光束截面的橫、縱坐標(biāo)；

對(duì)靶面的位相分布進(jìn)行設(shè)計(jì)，以使得經(jīng)透鏡聚焦后的靶面光強(qiáng)分布輪廓等于激光束的輪廓，可得到靶面電場(chǎng)以及經(jīng)過(guò)聚焦透鏡后的電場(chǎng)E_obj(x,y)＝F[E_target(x_f,y_f)]，其中F為傅里葉變換；

通過(guò)公式計(jì)算電場(chǎng)E_obj(x,y)中的光強(qiáng)分布，其中*表示共軛；

設(shè)置激光束到靶面構(gòu)成的光路中光強(qiáng)調(diào)制器的調(diào)制參數(shù)為I_obj(x,y)，進(jìn)而使激光束的光強(qiáng)分布等于I_obj(x,y)。

3.如權(quán)利要求2所述的對(duì)靶面光強(qiáng)分布進(jìn)行勻滑的方法，其特征在于，所述相位板的面形獲得包括：

通過(guò)公式計(jì)算電場(chǎng)E_obj(x,y)中的位相分布，并基于計(jì)算結(jié)果制作對(duì)應(yīng)面形的連續(xù)相位板；

將所述連續(xù)相位板插入到光路中靠近光強(qiáng)調(diào)制器的一側(cè)，使激光束的位相分布等于此時(shí)激光束經(jīng)聚焦透鏡聚焦后在靶面光場(chǎng)分布恰好等于I_target(x_f,y_f)。

4.一種應(yīng)用如權(quán)利要求1所述方法的裝置，其特征在于，包括：

靶面；

用于產(chǎn)生出射至靶面激光束光路的激光器；

用于調(diào)整激光束出射后的光強(qiáng)分布的光強(qiáng)調(diào)制器；

對(duì)光強(qiáng)分布調(diào)整后的激光束進(jìn)行位相分布調(diào)整的連續(xù)相位板；

對(duì)位相分布調(diào)整后的激光束聚焦至靶面的透鏡。