[發明專利]對靶面光強分布進行勻滑的方法及其裝置在審
| 申請號： | 201710175131.7 | 申請日： | 2017-03-22 |
| 公開（公告）號： | CN106908956A | 公開（公告）日： | 2017-06-30 |
| 發明（設計）人： | 鄭天然;張穎;耿遠超;黃晚晴;劉蘭琴;孫喜博;王文義;李平;張銳;粟敬欽 | 申請（專利權）人： | 中國工程物理研究院激光聚變研究中心 |
| 主分類號： | G02B27/09 | 分類號： | G02B27/09 |
| 代理公司： | 北京遠大卓悅知識產權代理事務所(普通合伙)11369 | 代理人： | 鄭健 |
| 地址： | 621900 四*** | 國省代碼： | 四川;51 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 靶面光強 分布 進行 方法 及其 裝置 | ||
1.一種對靶面光強分布進行勻滑的方法，其特征在于，包括：
通過光強調制器及連續相位板對經透鏡出射在靶面上的激光束，進行光強分布勻滑調整，以在靶面上構成整塊的勻滑焦斑分布。
2.如權利要求1所述的對靶面光強分布進行勻滑的方法，其特征在于，所述光強調制器的調制參數獲取包括以下步驟:
預設靶面上勻滑調整后的光強分布Itarget(xf,yf)，其中xf、yf分別為靶面的橫、縱坐標；
經激光器發射的激光束的光強分布為I0(x,y)，其中x、y分別為激光束截面的橫、縱坐標；
對靶面的位相分布進行設計，以使得經透鏡聚焦后的靶面光強分布輪廓等于激光束的輪廓，可得到靶面電場以及經過聚焦透鏡后的電場Eobj(x,y)＝F[Etarget(xf,yf)]，其中F為傅里葉變換；
通過公式計算電場Eobj(x,y)中的光強分布，其中*表示共軛；
設置激光束到靶面構成的光路中光強調制器的調制參數為Iobj(x,y)，進而使激光束的光強分布等于Iobj(x,y)。
3.如權利要求2所述的對靶面光強分布進行勻滑的方法，其特征在于，所述相位板的面形獲得包括：
通過公式計算電場Eobj(x,y)中的位相分布，并基于計算結果制作對應面形的連續相位板；
將所述連續相位板插入到光路中靠近光強調制器的一側，使激光束的位相分布等于此時激光束經聚焦透鏡聚焦后在靶面光場分布恰好等于Itarget(xf,yf)。
4.一種應用如權利要求1所述方法的裝置，其特征在于，包括：
靶面；
用于產生出射至靶面激光束光路的激光器；
用于調整激光束出射后的光強分布的光強調制器；
對光強分布調整后的激光束進行位相分布調整的連續相位板；
對位相分布調整后的激光束聚焦至靶面的透鏡。
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