[發明專利]電子封裝件及其制法有效
| 申請號: | 201710169092.X | 申請日: | 2017-03-21 |
| 公開(公告)號: | CN108538731B | 公開(公告)日: | 2020-08-14 |
| 發明(設計)人: | 賴杰隆;陳正逸;盧俊宏;葉懋華 | 申請(專利權)人: | 矽品精密工業股份有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/56 | 分類號: | H01L21/56;H01L23/31;H01L23/485 |
| 代理公司: | 北京戈程知識產權代理有限公司 11314 | 代理人: | 程偉;王錦陽 |
| 地址: | 中國臺灣臺中*** | 國省代碼: | 臺灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 電子 封裝 及其 制法 | ||
一種電子封裝件及其制法,以封裝層包覆電子元件,并形成線路結構于該封裝層的上表面上以電性連接該電子元件,且形成應力平衡層于該封裝層的部分下表面上,以通過該應力平衡層的設計,而平衡該封裝層上、下表面所受的應力,故能降低該電子封裝件的整體結構的翹曲,使后續制程能順利進行。
技術領域
本發明有關一種封裝制程,尤指一種電子封裝件及其制法。
背景技術
隨著電子產業的蓬勃發展,電子產品也逐漸邁向多功能、高性能的趨勢。為了滿足半導體封裝件微型化(miniaturization)的封裝需求,發展出芯片尺寸封裝件(Chip ScalePackage,簡稱CSP)的技術,其特征在于該芯片尺寸封裝件僅具有與芯片尺寸相等或略大的尺寸。
請參閱圖1A至圖1D,為現有芯片尺寸封裝件1的制法的剖面示意圖。
如圖1A所示,形成一熱化離型膠層(thermal release tape)11于一承載件10上。
接著,置放多個半導體元件12于該熱化離型膠層11上,該些半導體元件12具有相對的作用面12a與非作用面12b,各該作用面12a上具有多個電極墊120,且該半導體元件12以該作用面12a黏著于該熱化離型膠層11上。
如圖1B所示,形成一封裝膠體13于該熱化離型膠層11上,以包覆該半導體元件12。
如圖1C所示,進行烘烤制程以硬化該封裝膠體13,而同時該熱化離型膠層11因受熱后會失去黏性,故可一并移除該熱化離型膠層11與該承載件10,以外露該半導體元件12的作用面12a。
如圖1D所示,進行線路重布層(Redistribution layer,簡稱RDL)制程,形成一具有介電層140及線路層141的線路結構14于該封裝膠體13與該半導體元件12的作用面12a上,且令該線路結構14電性連接該半導體元件12的電極墊120。
接著,形成一絕緣保護層15于該線路結構14上,且令該絕緣保護層15外露該線路結構14的部分表面,以供結合如焊球的導電元件16。
然而,現有芯片尺寸封裝件1的制法中,由于該封裝膠體13的熱膨脹系數(Coefficient of thermal expansion,簡稱CTE)與該線路結構14的介電層140的CTE不同且差異甚大,導致兩者CTE不匹配(mismatch),而產生諸多問題。例如,該封裝膠體13的CTE約為30ppm/℃,該線路結構14的介電層140的CTE約為60ppm/℃,故于高溫制程時,由于CTE不匹配會使該半導體元件12大幅朝向該介電層140的方向彎曲(特別是隨著該介電層140的層數增加的情況下彎曲幅度更大),而使該芯片尺寸封裝件1發生翹曲(warpage),如圖1C所示的上凸情況(即該封裝膠體13’的虛線輪廓),導致該芯片尺寸封裝件1的平面度不佳。
此外,過大的翹曲也會使該半導體元件12與該線路結構14的線路層141之間的電性連接可靠度(reliability)下降,因而造成良率過低及產品可靠度不佳等問題。例如,該線路結構14與該半導體元件12的電極墊120之間的連接處受損,且當該承載件10的尺寸越大時,各該半導體元件12間的位置公差亦隨之加大,而當偏移公差過大時,將使該線路結構14的線路層141無法與該電極墊120連接。
又,翹曲的情況也會造成該半導體元件12發生碎裂,致使產品良率降低。
另外,過大的翹曲會使該芯片尺寸封裝件1于制程中發生停擺,甚至后續產品發生可靠度的問題。例如,無法將該芯片尺寸封裝件1放入機臺開口中,而造成機臺操控管理與產量受阻等問題。
因此,如何克服上述現有技術的種種問題,實已成目前亟欲解決的課題。
發明內容
鑒于上述現有技術的種種缺失,本發明提供一種電子封裝件及其制法,能降低該電子封裝件的整體結構的翹曲,使后續制程能順利進行。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
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H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





