[發(fā)明專利]基于量子進(jìn)化算法的寬角度極紫外Mo/Si多層膜的設(shè)計(jì)方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201710168208.8 | 申請日: | 2017-03-21 |
| 公開(公告)號: | CN106951638A | 公開(公告)日: | 2017-07-14 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 匡尚奇;王一名;張超 | 申請(專利權(quán))人: | 長春理工大學(xué) |
| 主分類號: | G06F17/50 | 分類號: | G06F17/50 |
| 代理公司: | 長春菁華專利商標(biāo)代理事務(wù)所(普通合伙)22210 | 代理人: | 李青 |
| 地址: | 130033 吉林*** | 國省代碼: | 吉林;22 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 基于 量子 進(jìn)化 算法 角度 紫外 mo si 多層 設(shè)計(jì) 方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于極紫外多層膜研發(fā)領(lǐng)域,具體涉及一種基于量子進(jìn)化算法的寬角度高反射率極紫外Mo/Si多層膜的設(shè)計(jì)方法。
背景技術(shù)
在極紫外(Extreme Ultraviolet)波段,幾乎所有物質(zhì)的折射率均接近1且具有較強(qiáng)的吸收,所以不能采用傳統(tǒng)的透過式光學(xué)系統(tǒng),而采用基于極紫外多層膜的反射式光學(xué)系統(tǒng)。為實(shí)現(xiàn)高反射率,反射式光學(xué)元件表面必須鍍制膜厚達(dá)納米量級的多層膜,所以極紫外多層膜是光學(xué)系統(tǒng)中重要的光學(xué)元件,在極紫外天文學(xué)、極紫外光譜學(xué)、極紫外光刻技術(shù)、等離子體診斷和同步輻射等研究領(lǐng)域具有重要應(yīng)用價(jià)值,尤其極紫外多層膜是極紫外光刻技術(shù)的關(guān)鍵技術(shù)和核心反射光學(xué)元件。傳統(tǒng)的極紫外Mo/Si多層膜大多采用等周期膜系,但其干涉特性導(dǎo)致了反射角帶寬很窄,一般為[0°,9°]。而非等周期膜系結(jié)構(gòu)的寬角度極紫外多層膜能夠?qū)崿F(xiàn)寬角度入射,并且具有較高的反射率。特別值得一提的是,它可以滿足了極紫外光刻的照明系統(tǒng)中需用小反射鏡滿足大角度入射的條件,因此其研發(fā)具有重要的學(xué)術(shù)意義和實(shí)際應(yīng)用價(jià)值。
極紫外多層膜的膜系設(shè)計(jì)是極紫外多層膜研發(fā)的首要和關(guān)鍵問題。目前普遍算法有退火算法和非線性最小二乘算法和遺傳算法。退火算法雖對目標(biāo)函數(shù)要求不高,實(shí)現(xiàn)起來比較簡單,但其運(yùn)算速度較低且不易求得全局極優(yōu)值。遺傳算法(GA)因具有全局搜索能力強(qiáng)和適用性強(qiáng)的優(yōu)點(diǎn)而成為普遍采用算法,但由于遺傳算法是一種概率優(yōu)化算法,所以為獲得較高的優(yōu)化效率和求解精度,往往具有種群規(guī)模大和計(jì)算效率低的缺點(diǎn)。
發(fā)明內(nèi)容
為了解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的問題,本發(fā)明提供了一種基于量子進(jìn)化算法的寬角度EUV Mo/Si多層膜的設(shè)計(jì)方法,解決了現(xiàn)有算法中在寬角度極紫外多層膜設(shè)計(jì)中的種群規(guī)模大、收斂速度慢和計(jì)算過程復(fù)雜的問題。
本發(fā)明解決技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案如下:
基于量子進(jìn)化算法的寬角度EUV Mo/Si多層膜的設(shè)計(jì)方法,該方法包括如下步驟:
步驟一:輸入基于量子進(jìn)化算法的初始極紫外多層膜參數(shù)值,包括:種群中量子個(gè)體個(gè)數(shù)、量子編碼參數(shù)個(gè)數(shù)、迭代次數(shù)、求精次數(shù)、求泛次數(shù)、最優(yōu)個(gè)體個(gè)數(shù)和最優(yōu)個(gè)體連續(xù)交叉次數(shù);
步驟二:對多層膜膜系參數(shù)進(jìn)行量子編碼,生成量子染色體一代種群Q,種群Q表示為
Q=[q1 q2 q3 q4 q5 q6 q7 q8 q9 q10](1)
步驟三:計(jì)算多層膜膜系量子染色體一代種群Q中量子個(gè)體的適應(yīng)度,并選出最優(yōu)的量子個(gè)體;
步驟四:判斷量子染色體一代種群Q是否滿足優(yōu)化要求:如果滿足優(yōu)化要求,算法停止,輸出最優(yōu)多層膜膜系結(jié)構(gòu);如果不滿足優(yōu)化要求,進(jìn)行步驟五;
步驟五:通過互補(bǔ)變異和離散交叉更新量子染色體一代種群Q,形成量子染色體下一代種群Q’;返回步驟三,并增加進(jìn)化代數(shù)。
本發(fā)明的有益效果是:
(1)量子進(jìn)化算法用的基因編碼有實(shí)數(shù)基因位和量子概率基因位兩部分構(gòu)成,單個(gè)染色體可以表達(dá)出多個(gè)量子態(tài),具有一定的并行計(jì)算能力。故基于量子進(jìn)化算法的寬角度極紫外多層膜設(shè)計(jì)的方法可實(shí)現(xiàn)以較小的種群實(shí)現(xiàn)多參數(shù)的優(yōu)化搜索問題;
(2)將“求精”和“求泛”的搜索策略結(jié)合應(yīng)用于寬角度極紫外多層膜的設(shè)計(jì)算法中,兼具全局搜索和局部搜索能力,進(jìn)而具備較高的求解效率和高的求解精度;
(3)比較分析表明,基于量子進(jìn)化算法的寬角度極紫外多層膜的設(shè)計(jì)方法相比于基于實(shí)數(shù)編碼遺傳算法的膜系設(shè)計(jì)方法在優(yōu)化效率和求解精度等方面均具有一定的優(yōu)勢;
(4)在多層膜膜系設(shè)計(jì)過程中,考慮了多層膜中Mo膜和Si層膜層之間的擴(kuò)散作用,將其作為Mo/Si2擴(kuò)散層進(jìn)行模擬,使其設(shè)計(jì)模擬出的多層膜理論反射率更接近實(shí)驗(yàn)結(jié)果。
附圖說明
圖1本發(fā)明基于四層模型的具有49個(gè)周期的Mo/Si多層膜的膜系示意圖。
圖2本發(fā)明基于量子進(jìn)化算法的寬角度EUV Mo/Si多層膜的設(shè)計(jì)方法的流程圖。
圖3不同參數(shù)下基于實(shí)物編碼量子進(jìn)化算法(RQEA)的寬角度Mo/Si多層膜最優(yōu)膜系的評價(jià)系數(shù)MF與進(jìn)化代數(shù)的關(guān)系圖。
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