[發明專利]一種處理濾膜得到校準塵膜的方法以及一種由校準塵膜進行場外校準的方法

有效

• 申請號: 201710165073.X
• 申請日: 2017-03-20
• 公開（公告）號: CN107014725B
• 公開（公告）日: 2019-07-16
• 發明（設計）人: 楊文;白志鵬;王歆華;耿春梅;王靜;殷寶輝;韓斌;朱修軍;任麗紅;趙雪艷;王婉;王曉麗;盛文剛;郭俊峰
• 申請（專利權）人: 中國環境科學研究院
• 主分類號: G01N15/06
• 分類號: G01N15/06;G01N23/06;G01N5/02
• 代理公司: 北京高沃律師事務所 11569
• 代理人: 王加貴

1.一種處理濾膜得到校準塵膜的方法，包含以下步驟：

(1)對基體濾膜進行基礎篩選，得到待測空白基體濾膜；

所述基礎篩選的標準為：

①孔徑和厚度：孔徑≤2μm，厚度為0.2～0.25mm；

②截留效率：作為PM10采樣濾膜時，對0.3μm顆粒物的截留效率≥99％；作為PM2.5采樣濾膜時，對0.3μm顆粒物的截留效率≥99.7％；

③最大壓降：在0.45m/s的潔凈空氣流速時，壓降≤3KPa；

④最大吸濕性：暴露在濕度為40％RH的空氣中24h后與暴露在濕度為35％RH的空氣中24h后的質量增加值≤10μg；

⑤重量穩定性：墜落測試平均質量變化≤20μg，溫度測試平均質量變化≤20μg；

(2)以β射線法顆粒物分析儀外部膜片測量功能，測量不放置濾膜狀態下的初始β射線強度，記為I；將所述待測空白基體濾膜放置在膜托上，將所述膜托按照一定角度等分為多個點位；對不同點位的β射線強度值進行測量，記為Iⁿ，得到不同點位的ln(I/Iⁿ)值；所述n為不同點位的標號；

依據得到的待測空白基體濾膜的ln(I/Iⁿ)值進行穩定性篩選：同一張待測空白基體濾膜不同點位ln(I/Iⁿ)值的變異系數CV≤0.20％的濾膜為一級穩定基體濾膜；

分別將每張一級穩定基體濾膜中不同點位的ln(I/Iⁿ)值取均值，得到每張一級穩定基本濾膜的ln(I/Iⁿ)均值，根據所述ln(I/Iⁿ)均值篩選出至少10張ln(I/Iⁿ)均值的變異系數CV≤0.25％的二級穩定基體濾膜；

(3)對所述步驟(2)篩選到的二級穩定基體濾膜進行稱重；

(4)保留至少1張二級穩定基體濾膜作為空白對照濾膜；將剩余二級穩定基體濾膜至少分成三組，每組至少包含3張濾膜作為實驗濾膜用于采集校準塵；

將得到的附著有校準塵的二級穩定基體濾膜進行稱重，得到濾膜采樣前后的質量差，計算得到PM質量濃度；

(5)以β射線法顆粒物分析儀外部膜片測量功能，測量不放置濾膜狀態下的初始β射線強度，記為I′；將所述附著有校準塵的二級穩定基體濾膜放置在膜托上，根據所述步驟(2)中的點位設置對不同點位的β射線強度值進行測量，記為I′ⁿ，得到不同點位的ln(I′/I′ⁿ)值；所述n為不同點位的標號；

篩選同一張附著有校準塵的二級穩定基體濾膜的不同點位ln(I′/I′ⁿ)值的變異系數CV≤0.20％的濾膜為校準塵膜。

2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述基體濾膜為纖維素濾膜、玻璃纖維濾膜、石英纖維濾膜、聚四氟乙烯濾膜或聚碳酸酯濾膜。

3.根據權利要求2所述的方法，其特征在于，所述基體濾膜為石英纖維濾膜時，對所述石英纖維濾膜進行烘焙處理。

4.根據權利要求3所述的方法，其特征在于，所述烘焙的溫度為800～900℃；

所述烘焙的時間為30～90分鐘。

5.根據權利要求1～4任意一項所述的方法，其特征在于，所述重量穩定性的測試方法為：

取不少于各批次濾膜總數的0.1％的濾膜，在平衡穩定后稱量，記錄濾膜質量；

將平衡稱重后的濾膜放入濾膜夾，將該濾膜夾從25cm高處自由墜落到平整的硬表面，重復上述操作2次；從濾膜夾中取出測試濾膜，對其稱量并記錄質量值，墜落測試前后的平均質量變化≤20μg；

將平衡稱重后的濾膜在40±2℃下干燥48h后重新進行平衡稱量，測試前后的平均質量變化≤20μg。

6.根據權利要求5所述的方法，其特征在于，所述平衡穩定的溫度為15～30℃；

所述平衡穩定時的相對濕度為45～55％；

所述平衡穩定的時間為20～30小時。

7.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述一定角度為90°、60°、45°、30°或20°。