[發明專利]一種覆地膜定穴移栽種植苦蕎麥的方法

在審

• 申請號: 201710163876.1
• 申請日: 2017-03-20
• 公開（公告）號: CN107046985A
• 公開（公告）日: 2017-08-18
• 發明（設計）人: 賈先根
• 申請（專利權）人: 岳西縣岳太苦蕎麥制品有限公司
• 主分類號: A01G1/00
• 分類號: A01G1/00;A01G13/00
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術領域

本發明涉及苦蕎麥種植技術領域，具體是一種覆地膜定穴移栽種植苦蕎麥的方法。

背景技術

苦蕎麥為一年生草本植物，莖直立，高30-70厘米，分枝，綠色或微逞紫色，有細縱棱，一側具乳頭狀突起，葉寬三角形，長2-7厘米，兩面沿葉脈具乳頭狀突起，下部葉具長葉柄，上部葉較小具短柄，生長在田邊、路旁、山坡、河谷等潮濕地帶，在中國東北、華北、西北等地都有分布，苦蕎麥性味苦、平、寒，有益氣力、續精神、利耳目、降氣寬腸健胃的作用；目前苦蕎麥的種植多為撒種播種，種出來的苦蕎麥長勢參差不齊，而且苦蕎麥中間雜生很多雜草，不僅影響苦蕎麥的生長，而且給苦蕎麥收割帶來了一定的麻煩。鑒于此，本發明提供了一種覆地膜定穴移栽種植苦蕎麥的方法。

發明內容

本發明所要解決的技術問題是提供一種覆地膜定穴移栽種植苦蕎麥的方法。本發明所要解決的技術問題采用以下技術方案來實現：

一種覆地膜定穴移栽種植苦蕎麥的方法，包括以下步驟：

(1)土地選擇：選擇土質疏松且土壤通風性較好的平坦土地作為種植地塊，且要求土壤養分充足和保水力強。

(2)土地處理：將種植地塊進行翻新，翻新以深耕為主，深耕深度為15～20厘米，曝曬3-4天，曝曬后對土塊進行敲碎平整處理，并對種植地塊進行分塊，種植地塊四周進行挖排水溝，排水溝用于雨水天氣情況下種植地塊的排水，防止種植地塊積水太多造成苦蕎麥生長過程中出現根部由于長期處于水土中造成腐爛的現象。

(3)覆膜挖穴：將塑料薄膜平整攤放到處理好的分塊種植地塊上，塑料薄膜四周采用木樁進行固定，在塑料薄膜上挖基穴，基穴孔徑為10-12厘米，且基穴之間的行距為45-55厘米，基穴底部施入農家肥，農家肥可選用雞糞、鴨糞、牛糞、豬糞和人尿糞，農家肥上添加草木灰，并澆灑少量清水。

(4)麥苗移栽：將生長高度達到10-15厘米的苦蕎麥幼苗移栽到步驟(3)的基穴中，并將基穴周圍的挖穴翻新土壤覆蓋到基穴內，對移栽后的苦蕎麥幼苗進行定苗處理。

(5)蟲害防治：幼苗期需定期揮灑熟石灰粉，并用60％退菌特和40％多菌靈的混合液澆灌根部，開花期噴灑用于防治花葉軟腐病的波爾多液，果實期噴灑千分之一濃度的托布津。

(6)施肥處理：當苦蕎麥生長到30-35厘米高度時，施氮肥8-10千克/畝，磷肥12-15千克/畝，鉀肥14-16千克/畝。

(7)苦蕎麥收割：當苦蕎麥成熟后，人工采用鐮刀進行收割。

與現有技術相比，本發明的有益效果：本發明采用覆地膜定穴移栽的方式種植苦蕎麥，一方面可以防止苦蕎麥生長過程中雜草叢生的現象，另一方面栽種出來的苦蕎麥都是一叢一叢的，便于成熟后的收割，為苦蕎麥種植提供了一種便捷式的種植方式，間接的提高了苦蕎麥種植的效率和產量。

具體實施方式

為了使本發明實現的技術手段、創作特征、達成目的與功效易于明白了解，下面對本發明進一步闡述。

一種覆地膜定穴移栽種植苦蕎麥的方法，包括以下步驟：(1)土地選擇：選擇土質疏松且土壤通風性較好的平坦土地作為種植地塊，且要求土壤養分充足和保水力強；(2)土地處理：將種植地塊進行翻新，翻新以深耕為主，深耕深度為15～20厘米，曝曬3-4天，曝曬后對土塊進行敲碎平整處理，并對種植地塊進行分塊，種植地塊四周進行挖排水溝，排水溝用于雨水天氣情況下種植地塊的排水，防止種植地塊積水太多造成苦蕎麥生長過程中出現根部由于長期處于水土中造成腐爛的現象；(3)覆膜挖穴：將塑料薄膜平整攤放到處理好的分塊種植地塊上，塑料薄膜四周采用木樁進行固定，在塑料薄膜上挖基穴，基穴孔徑為10-12厘米，且基穴之間的行距為45-55厘米，基穴底部施入農家肥，農家肥可選用雞糞、鴨糞、牛糞、豬糞和人尿糞，農家肥上添加草木灰，并澆灑少量清水；(4)麥苗移栽：將生長高度達到10-15厘米的苦蕎麥幼苗移栽到步驟(3)的基穴中，并將基穴周圍的挖穴翻新土壤覆蓋到基穴內，對移栽后的苦蕎麥幼苗進行定苗處理；(5)蟲害防治：幼苗期需定期揮灑熟石灰粉，并用60％退菌特和40％多菌靈的混合液澆灌根部，開花期噴灑用于防治花葉軟腐病的波爾多液，果實期噴灑千分之一濃度的托布津；(6)施肥處理：當苦蕎麥生長到30-35厘米高度時，施氮肥8-10千克/畝，磷肥12-15千克/畝，鉀肥14-16千克/畝；(7)苦蕎麥收割：當苦蕎麥成熟后，人工采用鐮刀進行收割。