[發(fā)明專利]獲取高分辨率圖像的方法與裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201710162168.6
• 申請(qǐng)日: 2017-03-17
• 公開（公告）號(hào): CN108629733B
• 公開（公告）日: 2021-12-24
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 鄧詩弘;劉家瑛;李馬丁;楊文瀚;郭宗明
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 北京大學(xué);北大方正集團(tuán)有限公司;北京北大方正電子有限公司
• 主分類號(hào): G06T3/40
• 分類號(hào): G06T3/40
• 代理公司: 北京同立鈞成知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11205
• 代理人: 張蓮蓮;劉芳

本發(fā)明提供一種獲取高分辨率圖像的方法與裝置，方法包括：根據(jù)低分辨率圖像獲取參考圖像，參考圖像的分辨率大于低分辨率圖像的分辨率；在參考圖像中確定第一參考圖塊，第一參考圖塊中中心位置的像素點(diǎn)作為待調(diào)整像素點(diǎn)；在參考圖像中確定比較圖塊；根據(jù)比較圖塊和第一參考圖塊確定待調(diào)整像素點(diǎn)的像素值；在參考圖像中確定第二參考圖塊，第二參考圖塊中中心位置的像素點(diǎn)與待調(diào)整像素點(diǎn)不相同，第二參考圖塊與第一參考圖塊的形狀和面積相同，將第二參考圖塊更新為第一參考圖塊，返回執(zhí)行在參考圖像確定比較圖塊的操作，直至參考圖像中預(yù)設(shè)個(gè)數(shù)的像素點(diǎn)均作為待調(diào)整像素點(diǎn)，生成高分辨率圖像。根據(jù)本發(fā)明，能更好的獲取到高分辨率圖像。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及圖像技術(shù)，尤其涉及一種獲取高分辨率圖像的方法與裝置。

背景技術(shù)

隨著科技的發(fā)展，圖像已經(jīng)成為信息傳遞的重要載體，而對(duì)于高分辨率圖像的需求更是日益廣泛。例如，在遙感測繪、醫(yī)學(xué)診斷、軍事偵察等領(lǐng)域，均需要高分辨率的圖像來獲取更多的細(xì)節(jié)信息，從而做出更加準(zhǔn)確的判斷。然而，由于相機(jī)本身技術(shù)上的瓶頸，其難以進(jìn)一步提高圖像分辨率，因此通過設(shè)備進(jìn)行處理來獲取更高分辨率的圖像是解決該問題的有效途徑。

因此，如何根據(jù)低分辨率圖像獲取到高分辨率圖像成為亟需解決的問題。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明提供一種獲取高分辨率圖像的方法與裝置，以根據(jù)低分辨率圖像獲取到較好的高分辨率圖像。

本發(fā)明第一個(gè)方面提供一種獲取高分辨率圖像的方法，包括：

根據(jù)低分辨率圖像獲取參考圖像，所述參考圖像的分辨率大于所述低分辨率圖像的分辨率；

在所述參考圖像中確定第一參考圖塊，所述第一參考圖塊中中心位置的像素點(diǎn)作為待調(diào)整像素點(diǎn)；

在所述參考圖像中確定比較圖塊，所述比較圖塊的面積大于所述第一參考圖塊的面積且所述比較圖塊覆蓋所述參考圖塊；

根據(jù)所述比較圖塊和所述第一參考圖塊確定所述待調(diào)整像素點(diǎn)的像素值；

在所述參考圖像中確定第二參考圖塊，所述第二參考圖塊中中心位置的像素點(diǎn)與所述待調(diào)整像素點(diǎn)不相同，所述第二參考圖塊與所述第一參考圖塊的形狀和面積相同，將所述第二參考圖塊更新為所述第一參考圖塊，返回執(zhí)行在所述參考圖像確定比較圖塊的操作，直至所述參考圖像中預(yù)設(shè)個(gè)數(shù)的像素點(diǎn)均作為待調(diào)整像素點(diǎn)，生成所述高分辨率圖像。

根據(jù)如上所述的方法，可選地，所述根據(jù)低分辨率圖像獲取參考圖像包括：

采用雙三次插值方法，根據(jù)所述低分辨率圖像獲取所述參考圖像。

根據(jù)如上所述的方法，可選地，所述根據(jù)所述比較圖塊和所述第一參考圖塊確定所述待調(diào)整像素點(diǎn)的像素值之前，還包括：

判斷所述待調(diào)整像素點(diǎn)的是否為所述低分辨率圖像中的原始像素點(diǎn)，若判斷結(jié)果為否，則執(zhí)行根據(jù)所述比較圖塊和所述第一參考圖塊調(diào)整所述待調(diào)整像素點(diǎn)的像素值的操作；

若判斷結(jié)果為是，則保留所述原始像素點(diǎn)對(duì)應(yīng)的像素值。

根據(jù)如上所述的方法，可選地，所述根據(jù)所述比較圖塊和所述第一參考圖塊確定所述待調(diào)整像素點(diǎn)的像素值包括：

根據(jù)所述比較圖塊和所述第一參考圖塊確定第一自回歸模型和第二自回歸模型；

根據(jù)所述第一自回歸模型、第二自回歸模型和所述第一參考圖塊確定如下目標(biāo)函數(shù)：

其中，W是各第三參考圖塊與第一參考圖塊之間的多個(gè)相似性權(quán)重的值構(gòu)建的矩陣，A是根據(jù)第一自回歸模型構(gòu)建的矩陣，B是根據(jù)第二自回歸模型構(gòu)建的矩陣，D為下采樣矩陣，和均表示像素點(diǎn)的像素值，中的所有像素點(diǎn)均屬于比較圖塊，中至少有一個(gè)像素點(diǎn)不屬于所述比較圖塊，α為第一預(yù)設(shè)值，β為第二預(yù)設(shè)值；