[發明專利]常壓等離子鍍膜裝置有效
| 申請號： | 201710161397.6 | 申請日： | 2017-03-17 |
| 公開（公告）號： | CN108342713B | 公開（公告）日： | 2020-06-26 |
| 發明（設計）人： | 王齊中;徐逸明 | 申請（專利權）人： | 馗鼎奈米科技股份有限公司 |
| 主分類號： | C23C16/455 | 分類號： | C23C16/455;C23C16/54;C23C16/50;H05H1/34 |
| 代理公司： | 北京律誠同業知識產權代理有限公司 11006 | 代理人： | 徐金國 |
| 地址： | 中國臺灣臺南市永康區亞*** | 國省代碼： | 臺灣;71 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 常壓 等離子 鍍膜 裝置 | ||
1.一種常壓等離子鍍膜裝置，其特征在于，包含：
一常壓等離子產生器，包含：一管狀電極；以及一噴嘴，設于該管狀電極下，且配置以噴射一等離子，其中該噴嘴具有一噴口以及一平滑輪廓，該噴口位于該噴嘴的底部，且該平滑輪廓的一外徑由該管狀電極往該噴口漸縮；以及
至少一前驅物進料治具，鄰設于該管狀電極與該噴嘴，且配置以朝該噴嘴的該平滑輪廓噴射一鍍膜前驅物，以使該鍍膜前驅物沿著該平滑輪廓流至該噴口前，其中該至少一前驅物進料治具具有至少一開口，該至少一開口位于該噴嘴的頂部的外側的上方。
2.根據權利要求1所述的常壓等離子鍍膜裝置，其特征在于，該常壓等離子產生器還包含一棒狀電極設于該管狀電極內。
3.根據權利要求1所述的常壓等離子鍍膜裝置，其特征在于，該平滑輪廓為一流線形輪廓。
4.根據權利要求1所述的常壓等離子鍍膜裝置，其特征在于，該至少一前驅物進料治具包含多個前驅物進料治具，所述多個前驅物進料治具圍設于該噴嘴及/或該管狀電極外。
5.根據權利要求1所述的常壓等離子鍍膜裝置，其特征在于，所述多個前驅物進料治具之間具有相同間距。
6.根據權利要求1所述的常壓等離子鍍膜裝置，其特征在于，該至少一前驅物進料治具是一環狀前驅物進料治具，該環狀前驅物進料治具環設于該噴嘴及/或該管狀電極外。
7.根據權利要求6所述的常壓等離子鍍膜裝置，其特征在于，該環狀前驅物進料治具具有一環狀流道。
8.根據權利要求7所述的常壓等離子鍍膜裝置，其特征在于，該環狀流道具有一環狀開口，且該環狀開口與該噴嘴及/或該管狀電極相對。
9.根據權利要求7所述的常壓等離子鍍膜裝置，其特征在于，該環狀流道具有多個開口，所述多個開口與該噴嘴及/或該管狀電極相對。
10.根據權利要求9所述的常壓等離子鍍膜裝置，其特征在于，所述多個開口之間具有相同間距。
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C23C 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面擴散法，化學轉化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆，例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上，例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的
