[發(fā)明專利]低剖面天線有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201710161131.1 | 申請日: | 2017-03-17 |
| 公開(公告)號: | CN107093788B | 公開(公告)日: | 2020-07-14 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 漆一宏;于偉;賀小平 | 申請(專利權(quán))人: | 江蘇省東方世紀網(wǎng)絡(luò)信息有限公司;領(lǐng)翌技術(shù)(橫琴)有限公司 |
| 主分類號: | H01Q1/36 | 分類號: | H01Q1/36;H01Q21/00 |
| 代理公司: | 北京清亦華知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11201 | 代理人: | 黃德海 |
| 地址: | 210029 江蘇省南京市*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 剖面 天線 | ||
1.一種低剖面天線,其特征在于,包括:
第一天線,所述第一天線為三個;
第二天線,所述第二天線為兩個,兩個所述第二天線中的其中一個連接在三個所述第一天線中的其中一個和另外兩個中的其中一個之間,兩個所述第二天線中的另一個連接在三個所述第一天線中的所述其中一個和所述另外兩個中的另一個之間,三個所述第一天線和兩個所述第二天線中的至少兩個為結(jié)構(gòu)不同的延遲線,
其中,所述低剖面天線形成為開口環(huán)形,使得三個所述第一天線中的所述另外兩個的自由端無連接,或者,
三個所述第一天線中的所述另外兩個的自由端均與饋電系統(tǒng)的一端相連,以使所述低剖面天線形成為閉合環(huán)形。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的低剖面天線,其特征在于,所述低剖面天線為平面結(jié)構(gòu)或三維結(jié)構(gòu)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的低剖面天線,其特征在于,還包括:
連接線,所述第一天線和所述第二天線之間通過所述連接線相連。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的低剖面天線,其特征在于,三個所述第一天線中的所述另外兩個位于三個所述第一天線中的所述其中一個的同一側(cè)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的低剖面天線,其特征在于,三個所述第一天線中至少所述其中一個為平面結(jié)構(gòu),
三個所述第一天線位于同一平面內(nèi);或
三個所述第一天線中的所述另外兩個位于同一平面內(nèi),且三個所述第一天線中的所述其中一個與三個所述第一天線中的所述另外兩個所在的平面垂直;或
三個所述第一天線中的所述另外兩個中的所述其中一個為平面結(jié)構(gòu),三個所述第一天線中的所述另外兩個中的所述另一個為三維結(jié)構(gòu),且三個所述第一天線中的所述其中一個與三個所述第一天線中的所述另外兩個中的所述其中一個所在的平面垂直。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的低剖面天線,其特征在于,三個所述第一天線均為三維結(jié)構(gòu)。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的低剖面天線,其特征在于,兩個所述第二天線位于同一平面內(nèi)或在空間內(nèi)交錯布置。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的低剖面天線,其特征在于,所述低剖面天線形成為開口環(huán)形,三個所述第一天線中的所述另外兩個的自由端中的其中一端與所述饋電系統(tǒng)的一端相連。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的低剖面天線,其特征在于,所述第一天線和所述第二天線分別為直線型延遲線、曲線型延遲線、平面型延遲線和曲面型延遲線中的至少一個。
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