[發明專利]電子射束光刻系統

有效

• 申請號: 201710159862.2
• 申請日: 2013-03-20
• 公開（公告）號: CN106933063B
• 公開（公告）日: 2019-01-18
• 發明（設計）人: P.克魯伊特;M.斯米茨
• 申請（專利權）人: 邁普爾平版印刷IP有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;H01J37/317;H01J37/32;B82Y10/00;B82Y40/00
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所 11105
• 代理人: 陳堯劍

1.一種電子射束光刻系統，包括：

子束發生器，用于生成多個電子子束；

子束操縱器，其包括孔徑陣列，用于操縱所述多個電子子束；

對準框架，其被布置成支撐所述子束操縱器；

框架，其被布置成支撐所述對準框架；

用于生成等離子體的等離子體發生器，其中所述等離子體發生器包括其中可形成等離子體的室，

其中所述系統被設置成朝向所述孔徑陣列引導在所述等離子體中形成的自由基，并且

其中所述等離子體發生器的所述室被集成到所述對準框架中。

2.如權利要求1所述的系統，其中被布置成支撐所述對準框架的所述框架被布置成通過振動衰減固定架來支撐所述對準框架。

3.如權利要求1所述的系統，其中所述等離子體發生器橫向地布置至所述子束操縱器。

4.如權利要求1所述的系統，其中所述等離子體發生器包括出口，并且其中所述出口橫向地布置至所述子束操縱器。

5.如權利要求4所述的系統，其中所述出口與所述子束操縱器水平地對準。

6.如權利要求1所述的系統，其中所述對準框架被布置成支撐一個或多個可滑動可拆除的子束操縱器模塊。

7.如權利要求1所述的系統，還包括真空室，所述真空室包括子束操縱器模塊。

8.如權利要求1所述的系統，其中所述等離子體發生器的所述室包括用于接收輸入氣體的等離子體室進口，和用于排除在其中產生的等離子體和自由基中的至少一者的一個或多個等離子體室出口，所述等離子體發生器還包括與所述一個或多個等離子體室出口流動連接的一個或多個等離子體發生器出口。

9.如權利要求8所述的系統，其中所述等離子體發生器出口通過漏斗連接至所述等離子體室出口，其中所述漏斗被集成到所述對準框架中。

10.如權利要求8所述的系統，還包括中空的導向體，用于朝向所述孔徑陣列引導在所述等離子體中形成的自由基。

11.如權利要求10所述的系統，其中所述中空的導向體在所述等離子體發生器出口和所述子束操縱器之間建立流動連接。

12.如權利要求10所述的系統，其中所述子束操縱器被安裝在可拆除的模塊板上，并且其中所述中空的導向體被安裝在所述可拆除的模塊板上。

13.如權利要求10所述的系統，還包括護罩，用于放置在所述中空的導向體與等離子體發生器出口的延伸部分之間的連接上，其中所述中空的導向體通過所述護罩能可拆除地連接到所述等離子體發生器出口的延伸部分。

14.如權利要求13所述的系統，其中所述護罩被可滑動地布置在所述連接的位置上。