[發(fā)明專利]一種防沖蝕耐摩擦鍍膜金屬基材及其制備方法

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• 申請日: 2017-03-16
• 公開（公告）號: CN106756854A
• 公開（公告）日: 2017-05-31
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 黃現(xiàn)虎
• 申請（專利權(quán)）人: 江蘇海德曼新材料股份有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35;C23C14/16;C23C14/08;C23C14/10;C23C14/06;C23C14/18
• 代理公司: 北京方圓嘉禾知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司11385
• 代理人: 董芙蓉

1.一種防沖蝕耐摩擦鍍膜金屬基材，其特征在于：所述防沖蝕耐摩擦鍍膜金屬基材包括金屬基材基底(0)，所述金屬基材基底(0)由內(nèi)向外依次為金屬鈦層(1)、氧化銦錫層(2)、氮化鈦層(3)、第一氧化硅層(4)、鎳基合金層(5)、氮化鋯鈦層(6)、第二氧化硅層(7)、氮化鉻鋯鈦層(8)和氮化鉻鋯鋁鈦層(9)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的防沖蝕耐摩擦鍍膜金屬基材，其特征在于：所述金屬鈦層(1)的厚度為18～30nm，所述氧化銦錫層(2)的厚度為0.6～1.5μm，所述氮化鈦層(3)的厚度為0.3～1.2μm，所述第一氧化硅層(4)的厚度為0.2～0.8μm。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的防沖蝕耐摩擦鍍膜金屬基材，其特征在于：所述鎳基合金層(5)的厚度為1.0～1.6μm，所述氮化鋯鈦層(6)的厚度為0.2～0.8μm，所述第二氧化硅層(7)的厚度為0.6～1.2μm，所述氮化鉻鋯鈦層(8)的厚度為1.2～1.6μm，所述氮化鉻鋯鋁鈦層(9)的厚度為1～1.4μm。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的防沖蝕耐摩擦鍍膜金屬基材，其特征在于：所述金屬基材基底(0)的材質(zhì)為不銹鋼、鐵或銅。

5.權(quán)利要求1至4任一項所述的防沖蝕耐摩擦鍍膜金屬基材的制備方法，其特征在于包括如下步驟：

(1)采用平衡或非平衡磁控濺射方式，鍍膜設(shè)備置于潔凈度十萬級以內(nèi)、濕度小于60％的潔凈室內(nèi)，設(shè)備冷卻水溫度在15～25℃；鍍膜時本底真空要求：鍍膜室真空度＜2.3×10^-3Pa、真空室真空度＜1Pa；

(2)金屬基材基底經(jīng)清洗機(jī)清洗后，依次通過進(jìn)入室和隔離室，到達(dá)鍍膜室，進(jìn)入鍍膜室后，關(guān)閉隔離室與鍍膜室間的隔離閥，抽真空至本地真空，之后通入氬氣和工藝氣體維持真空度在0.2～0.8Pa；

(3)待鍍膜室腔體內(nèi)總氣壓穩(wěn)定后，將金屬基材基底正對濺射靶面，金屬基材基底與靶面之間的距離保持在5～18cm，連續(xù)開啟中頻電源、直流電源和射頻電源，依次在金屬基材基底膜層；

(4)鍍膜過程中基底傳輸速度保持平穩(wěn)均勻，速度范圍為0.6～2.8m/min，制得防沖蝕耐摩擦鍍膜金屬基材。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的防沖蝕耐摩擦鍍膜金屬基材的制備方法，其特征在于：在步驟(2)和(3)中，鍍制時工藝氣體為氧氣或氮氣。

7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的防沖蝕耐摩擦鍍膜金屬基材的制備方法，其特征在于：在步驟(3)中，電源采用恒功率的范圍為3～40kw或恒電流的范圍為3～30A。