[發明專利]基于缺電子雜環主鏈的N?型共軛聚電解質的合成方法在審
| 申請號： | 201710158845.7 | 申請日： | 2017-03-17 |
| 公開（公告）號： | CN106883389A | 公開（公告）日： | 2017-06-23 |
| 發明（設計）人： | 史月琴;季振國;劉照星;孔亞廣;陸瀟曉;卿振軍 | 申請（專利權）人： | 杭州電子科技大學 |
| 主分類號： | C08G61/12 | 分類號： | C08G61/12 |
| 代理公司： | 杭州君度專利代理事務所(特殊普通合伙)33240 | 代理人： | 杜軍 |
| 地址： | 310018 浙*** | 國省代碼： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 基于 缺電 子雜環主鏈 共軛 電解質 合成 方法 | ||
1.基于缺電子雜環主鏈的N-型共軛聚電解質的合成方法，其特征在于該方法具體是：
步驟(1)、Suzuki偶聯聚合反應方法：
將含離子末端側鏈的單體、催化劑加入到四氫呋喃與去離子水的混合液中，置于70～90℃下攪拌24h～36h，然后冷卻至常溫，得到所需的混合液；
所述的含離子末端側鏈的單體是主鏈為缺電子雜環主鏈，側鏈末端為離子；
所述的催化劑為四(三苯基膦)鈀；
步驟(2)、將步驟(1)得到的混合液加入到氯仿溶劑中，沉淀過濾后產物經索氏萃取，然后溶解在去離子水中，再在透析袋中進行透析反應，冷凍干燥即可。
2.如權利要求1所述的基于缺電子雜環主鏈的N-型共軛聚電解質的合成方法，其特征在于含離子末端側鏈的單體與催化劑的摩爾比為1：0.02～0.05。
3.如權利要求1所述的基于缺電子雜環主鏈的N-型共軛聚電解質的合成方法，其特征在于步驟(1)反應溫度為80℃。
4.基于缺電子雜環主鏈的N-型共軛聚電解質的合成方法，其特征在于該方法具體是：
步驟(1)、Yamamoto聚合方法：
在惰性氣體氛圍下，含離子末端側鏈的單體加入到雙(1,5-環辛二烯)鎳、2,2-聯吡啶、1,5-環辛二烯三者混合液中，60～90℃下攪拌24h～48h，然后冷卻至常溫，得到所需的混合液；
所述的含離子末端側鏈的單體是主鏈為缺電子雜環主鏈，側鏈末端為離子；
步驟(2)、將步驟(1)得到的混合液加入到氯仿溶劑中，沉淀過濾后產物經索氏萃取，然后溶解在去離子水中，再在透析袋中進行透析反應，冷凍干燥即可。
5.如權利要求4所述的基于缺電子雜環主鏈的N-型共軛聚電解質的合成方法，其特征在于含離子末端側鏈的單體與雙(1,5-環辛二烯)鎳的摩爾比為1mol：1mol。
6.如權利要求4所述的基于缺電子雜環主鏈的N-型共軛聚電解質的合成方法，其特征在于雙(1,5-環辛二烯)鎳、2,2-聯吡啶、1,5-環辛二烯三者的摩爾比為1mol：1mol：1mol。
7.如權利要求4所述的基于缺電子雜環主鏈的N-型共軛聚電解質的合成方法，其特征在于步驟(1)反應溫度為65℃。
8.如權利要求1或4所述的基于缺電子雜環主鏈的N-型共軛聚電解質的合成方法，其特征在于所述的含離子末端側鏈的單體是主鏈為苯并噻二唑或苯并三唑等缺電子雜環主鏈，側鏈末端為離子。
9.如權利要求1或4所述的基于缺電子雜環主鏈的N-型共軛聚電解質的合成方法，其特征在于所述的含離子末端側鏈的單體是主鏈為缺電子雜環主鏈，側鏈末端為磺酸鹽離子、季銨鹽離子或吡啶鹽離子。
10.如權利要求1或4所述的基于缺電子雜環主鏈的N-型共軛聚電解質的合成方法，其特征在于所述的含離子末端側鏈的單體是主鏈為苯并噻二唑或苯并三唑等缺電子雜環主鏈，側鏈末端為磺酸鹽離子、季銨鹽離子或吡啶鹽離子。
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