[發明專利]銦氧化膜及鉬膜用蝕刻組合物有效
| 申請號： | 201710157742.9 | 申請日： | 2017-03-16 |
| 公開（公告）號： | CN107227461B | 公開（公告）日： | 2019-10-29 |
| 發明（設計）人： | 鄭敬燮;樸鏞云 | 申請（專利權）人： | 東友精細化工有限公司 |
| 主分類號： | C23F1/30 | 分類號： | C23F1/30 |
| 代理公司： | 北京銀龍知識產權代理有限公司 11243 | 代理人： | 金鮮英;宋海花 |
| 地址： | 韓國全*** | 國省代碼： | 韓國;KR |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 氧化 鉬膜用 蝕刻 組合 | ||
【權利要求書】：
1.一種蝕刻組合物，其作為銦氧化膜與鉬膜的多層膜用蝕刻組合物，
相對于組合物總重量，包含硝酸3～30重量％、環狀胺化合物0.1～10重量％、含氟化合物0.01～5.0重量％及酒石酸0.1～5.0重量％，并且包含余量的水以使組合物的總重量為100重量％。
2.根據權利要求1所述的蝕刻組合物，所述銦氧化膜由銦鋅氧化物(IZO)、銦錫氧化物(ITO)或他們的混合物形成，所述鉬膜由鉬、或鉬與選自由鈦(Ti)、鉭(Ta)、鉻(Cr)、鎳(Ni)及釹(Nd)組成的組中的一種以上金屬的合金形成。
3.一種像素電極，其利用權利要求1或2所述的蝕刻組合物來形成。
4.一種液晶顯示裝置用陣列基板，其包含權利要求3所述的像素電極。
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