[發明專利]超大板直寫式光刻機掃描曝光方法

有效

• 申請號: 201710156795.9
• 申請日: 2017-03-16
• 公開（公告）號: CN106802538B
• 公開（公告）日: 2019-01-29
• 發明（設計）人: 陳海巍
• 申請（專利權）人: 無錫影速半導體科技有限公司
• 主分類號: G03F7/22
• 分類號: G03F7/22;G03F7/20
• 代理公司: 哈爾濱市陽光惠遠知識產權代理有限公司 23211
• 代理人: 張勇

本發明公開了超大板直寫式光刻機掃描曝光方法，屬于直寫曝光技術領域。本發明采用光路覆蓋半個整板面積的方式和基板大小自動判斷的方法來完成超大板和普通板的兼顧生產，使其在生產超大板時能夠有與現有超大板LDI同等的生產產能和效果，生產普通板時能與普通板LDI擁有同等的生產產能和效果，提高設備的利用率和適用性。

技術領域

本發明涉及超大板直寫式光刻機掃描曝光方法，屬于直寫曝光技術領域。

背景技術

直寫式光刻機設備又稱影像直接轉移設備(LDI)，在半導體及PCB生產領域是一個關鍵設備。隨著PCB市場發展的需求，對于PCB基板的尺寸要求越來越大。這就需要有一種能夠生產超大板能力的直寫曝光設備。同時由于一些PCB板生產商的發展受限，以及超大基板的需求量有時不能滿足PCB生產商的產能能力，因此在PCB直寫曝光市場領域，急需一款能夠兼顧普通板與超大板同時生產的設備，并且在生產普通板時能有與普通LDI同樣的產能表現。

目前在LDI市場上，還沒有能夠兼顧普通板與超大板生產產能的設備。現有采用DMD方式進行曝光的LDI超大板設備中，都為多光路、多條帶的掃描曝光方式。傳統的設計方案為多光路覆蓋整板的方式，往復掃描多個條帶后曝光完成一塊超大板。但無論基板多大，基本都要掃描固定的條帶數量，這樣就不利于產能的動態分配。當現有超大板LDI設備直接用于生產普通板時，也需要整板的掃描曝光，也要花費同等的時間進行曝光生產，達不到普通板LDI的生產產能，增加了設備使用成本與人力，設備的利用率和適用性大打折扣。

發明內容

為了解決上述問題，本發明提出一種新的掃描曝光結構和方法。即多光路只覆蓋1/n個(n大于1)整板(比如半個整板)的結構方式。當曝光基板寬度大于1/n個整板寬度的超大板時，設備在掃描完1/n個(比如半個)整板后，進行一次大的步進，再繼續掃描另外1/n個或者剩余的(比如半個)整板，重復步進與掃描，直至完成整個基板的掃描。當曝光基板寬度小于等于1/n個(比如半個)整板的小基板時，則不需要大的步進，只需掃描完此1/n個(比如半個)整板面積即可；與現有的利用超大板生產普通板的設備或者方法相比，掃描曝光時間節省1/n(比如一半)，增加了設備曝光產能，提高了設備的利用率和適用性。

本發明的第一個目的是提供一種直寫式光刻機設備，包括吸盤和多個光路組件；所述光路組件單個與單個之間相對位置固定；所述多個光路組件是覆蓋1/n個吸盤的光路組件，且n大于1。

在一種實施方式中，所述n為整數。

在一種實施方式中，所述n可以是2、3、4等。

在一種實施方式中，所述多個光路組件是指含有2個以上的光路組件。

在一種實施方式中，所述多個光路組件是指3、4、5、6、7或8個光路組件。

所述覆蓋1/n個吸盤的光路組件，是指與多光路覆蓋整板的光路組件相對應的僅能覆蓋1/n個板的光路組件。其能夠在掃描曝光時經往復掃描多個條帶后覆蓋1/n個基板。

其中，多光路覆蓋整板的含義，是指基板放置在吸盤上(吸盤寬度與基板寬度一致)，在掃描曝光時，經往復掃描多個條帶后正好能完成整個板的曝光。

本發明中，整板寬度，就是指常規超大板生產設備所能生產的最大的整板的寬度，基板是放在吸盤上覆蓋吸盤，且本發明中的“吸盤寬度”是指最大的整板所覆蓋的吸盤的寬度(一般吸盤本體會大于等于基板寬度，本發明中略大的部分忽略)。

在一種實施方式中，所述光路組件為DMD組件。

在一種實施方式中，所述直寫式光刻機設備還包括對準裝置。

在一種實施方式中，所述直寫式光刻機設備包括支撐結構、DMD結構、DMD結構步進軸、一個以上運動組件、吸盤；每個運動組件包括步進X軸、掃描Y軸、升降Z軸中的一個或多個；吸盤位于運動組件上方。