[發(fā)明專利]光強均勻性自動調(diào)節(jié)裝置及調(diào)整方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201710154369.1
• 申請日: 2017-03-15
• 公開（公告）號: CN108628103B
• 公開（公告）日: 2021-05-07
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 楊鵬;陳昌利;何雄;張軻;姚宏忠
• 申請（專利權(quán)）人: 中芯國際集成電路制造（上海）有限公司;中芯國際集成電路制造（北京）有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 上海思微知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 31237
• 代理人: 屈蘅;李時云

本發(fā)明揭示了一種光強均勻性自動調(diào)節(jié)裝置及調(diào)整方法，包括光強實時檢測系統(tǒng)，光強分析系統(tǒng)以及光強自動調(diào)整系統(tǒng)；所述光強實時監(jiān)測系統(tǒng)檢測晶片工作臺上的光強，并將檢測結(jié)果傳遞至所述光強分析系統(tǒng)；所述光強分析系統(tǒng)結(jié)合一標(biāo)準(zhǔn)數(shù)據(jù)，產(chǎn)生調(diào)整信號并傳遞至所述光強自動調(diào)整系統(tǒng)；所述光強自動調(diào)整系統(tǒng)依據(jù)所述調(diào)整信號調(diào)整光源發(fā)出的光的光強。由此可以提前補償減小透鏡的損失，最終達到光強均勻的目的，從而能夠提高CD的均勻性，提高光刻質(zhì)量；并且，降低設(shè)備更換元件的頻率，有效節(jié)約成本。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及半導(dǎo)體技術(shù)領(lǐng)域，特別是涉及一種光強均勻性自動調(diào)節(jié)裝置及調(diào)整方法。

背景技術(shù)

光刻工藝是半導(dǎo)體生產(chǎn)中的重要一環(huán)，直接制約著產(chǎn)品的質(zhì)量。光刻工藝的影響因素主要包括兩方面，技術(shù)方面和設(shè)備方面。而光刻設(shè)備是執(zhí)行光刻工藝的根本，因此，是否能夠確保光刻設(shè)備的精度，尤為重要。

然而，設(shè)備損耗是不可避免的，通常情況下，設(shè)備出現(xiàn)損耗時，都是通過更換備用元件，改善設(shè)備狀況。但是光刻設(shè)備成本極高，一出現(xiàn)損耗就進行更換，不利于降低生產(chǎn)成本。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的在于提供一種光強均勻性自動調(diào)節(jié)裝置及調(diào)整方法，改善由于鏡頭損耗導(dǎo)致的光強不均勻的情況。

為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明提供一種光強均勻性自動調(diào)節(jié)裝置，包括：

光強實時檢測系統(tǒng)，光強分析系統(tǒng)以及光強自動調(diào)整系統(tǒng)；所述光強實時監(jiān)測系統(tǒng)檢測晶片工作臺上的光強，并將檢測結(jié)果傳遞至所述光強分析系統(tǒng)；所述光強分析系統(tǒng)結(jié)合一標(biāo)準(zhǔn)數(shù)據(jù)，產(chǎn)生調(diào)整信號并傳遞至所述光強自動調(diào)整系統(tǒng)；所述光強自動調(diào)整系統(tǒng)依據(jù)所述調(diào)整信號調(diào)整光源發(fā)出的光的光強。

可選的，對于所述的光強均勻性自動調(diào)節(jié)裝置，所述光強實時檢測系統(tǒng)設(shè)置在所述晶片工作臺中，所述光強實時檢測系統(tǒng)的上表面與所述晶片工作臺的上表面齊平。

可選的，對于所述的光強均勻性自動調(diào)節(jié)裝置，所述光強實時檢測系統(tǒng)包括傳感器，所述傳感器活動設(shè)置在所述晶片工作臺中，自所述晶片工作臺一角逐行完成對所述晶片工作臺的掃描。

可選的，對于所述的光強均勻性自動調(diào)節(jié)裝置，在所述傳感器掃描過程中，每經(jīng)過一個曝光單元所在位置，則記錄下該曝光單元所在位置的光強信息作為檢測結(jié)果并傳遞至所述光強分析系統(tǒng)。

可選的，對于所述的光強均勻性自動調(diào)節(jié)裝置，所述光強分析系統(tǒng)包括單片機和標(biāo)準(zhǔn)數(shù)據(jù)輸入模塊，所述單片機判斷所述檢測結(jié)果是否囊括所有曝光單元所在位置，判斷所述標(biāo)準(zhǔn)數(shù)據(jù)輸入模塊輸入的標(biāo)準(zhǔn)數(shù)據(jù)是否與所有曝光單元的數(shù)量相匹配，還對所述檢測結(jié)果和標(biāo)準(zhǔn)數(shù)據(jù)進行比較，產(chǎn)生調(diào)整信號。

可選的，對于所述的光強均勻性自動調(diào)節(jié)裝置，所述光強分析系統(tǒng)還包括：模數(shù)轉(zhuǎn)換器，所述傳感器傳遞的檢測結(jié)果為電信號，所述模數(shù)轉(zhuǎn)換器將所述電信號轉(zhuǎn)換為數(shù)字信號傳遞至所述單片機。

可選的，對于所述的光強均勻性自動調(diào)節(jié)裝置，所述光強分析系統(tǒng)還包括驅(qū)動器，所述驅(qū)動器將所述調(diào)整信號傳遞至所述光強自動調(diào)整系統(tǒng)。

可選的，對于所述的光強均勻性自動調(diào)節(jié)裝置，所述光強自動調(diào)整系統(tǒng)包括：電機、傳遞模塊、位置調(diào)整模塊和光學(xué)調(diào)整模塊，所述電機在所述調(diào)整信號的驅(qū)動下帶動傳遞模塊將動作傳遞至位置調(diào)整模塊，使得位置調(diào)整模塊進行位置調(diào)整，進而光學(xué)調(diào)整模塊改變光源發(fā)出的光的光強。

可選的，對于所述的光強均勻性自動調(diào)節(jié)裝置，所述傳遞模塊包括電機輸出軸、聯(lián)軸器及絲桿驅(qū)動軸，所述電機輸出軸將電機的動作傳遞至聯(lián)軸器，所述聯(lián)軸器帶動所述絲桿驅(qū)動軸使得位置調(diào)整模塊進行位置調(diào)整。

可選的，對于所述的光強均勻性自動調(diào)節(jié)裝置，所述位置調(diào)整模塊包括：絲桿和螺母，所述螺母套設(shè)于所述絲桿上，所述聯(lián)軸器帶動所述絲桿驅(qū)動軸使得絲桿旋轉(zhuǎn)，從而改變螺母的位置。