[發(fā)明專利]一種高耐磨光固化芳醚基環(huán)氧丙烯酸酯/納米二氧化硅復(fù)合材料及其制備方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201710154232.6 | 申請日: | 2017-03-15 |
| 公開(公告)號: | CN106928659A | 公開(公告)日: | 2017-07-07 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 喻桂朋;余文廣;潘春躍 | 申請(專利權(quán))人: | 中南大學(xué) |
| 主分類號: | C08L63/10 | 分類號: | C08L63/10;C08K9/06;C08K3/36;C08G18/58;C08G59/14;C08G59/17;C08G59/06;C09D163/10;C09D7/12 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 410083 湖南省長沙市*** | 國省代碼: | 湖南;43 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 耐磨 光固化 芳醚基環(huán)氧 丙烯酸酯 納米 二氧化硅 復(fù)合材料 及其 制備 方法 | ||
1.一種高耐磨光固化芳醚基環(huán)氧丙烯酸酯/納米二氧化硅復(fù)合材料,其特征在于,包含具有式I結(jié)構(gòu)的芳醚基環(huán)氧丙烯酸酯:
其中,-X-表示結(jié)構(gòu)單元:中任意一種;
其中,為結(jié)構(gòu)單元中的一種或幾種。
2.如權(quán)利要求1所述的一種高耐磨光固化芳醚基環(huán)氧丙烯酸酯/納米二氧化硅復(fù)合材料,其特征在于,還包含具有式II結(jié)構(gòu)的巰基改性二氧化硅納米粒子:
其中,-R-為結(jié)構(gòu)單元-CH2-、-CH2-CH2-、-CH2-CH2-CH2-、-CH2-CH2-CH2-CH2-中的一種;其中,表示二氧化硅納米粒子。
3.如權(quán)利要求2所述的高耐磨光固化芳醚基環(huán)氧丙烯酸酯/納米二氧化硅復(fù)合材料,其特征在于,所述的納米二氧化硅粒子尺寸為10~200納米。
4.一種如權(quán)利要求1~3任一所述的高耐磨光固化芳醚基環(huán)氧丙烯酸酯/納米二氧化硅復(fù)合材料的制備方法,其特征在于,包含如下步驟;
(1):將摩爾比為2:1的芳香雙酚單體、4,4-二氟二苯甲酮,加入催化劑混合均勻,并加入高沸點溶劑和共沸脫水劑,于150~200℃下進行溶液縮聚反應(yīng),聚合1~8小時后,將溶液沉降到水中,經(jīng)過濾、研磨、洗滌和干燥制得具有如下結(jié)構(gòu)的酚羥基封端的芳醚酮化合物:
所述芳香雙酚單體是對苯二酚、間苯二酚、1,4-萘二酚、1,5-萘二酚、2,6-萘二酚、3,3’-聯(lián)苯二酚、4,4’-聯(lián)苯二酚、3,3’-二羥基二苯醚、4,4’-二羥基二苯醚、3,3’-二羥基二苯硫醚、4,4’-二羥基二苯硫醚、3,3’-二羥基二苯酮、4,4’-二羥基二苯酮、3,3’-二羥基二苯甲烷、4,4’-二羥基二苯甲烷、2,2–雙(3-羥基苯基)丙烷、2,2-雙(4-羥基苯基)丙烷、3,3’-二羥基二苯砜、4,4’-二羥基二苯砜、2,2’-雙(3-羥基苯基)六氟丙烷和2,2’-雙(4-羥基苯基)六氟丙烷中的任意一種或幾種;
所述催化劑為無水的堿金屬碳酸鹽或堿土金屬碳酸鹽;所述高沸點溶劑為N,N-二甲基甲酰胺(DMF)、N,N-二甲基乙酰胺(DMAc)、二甲基亞砜(DMSO)、N-甲基吡咯烷酮(NMP)或環(huán)丁砜非質(zhì)子型極性有機溶劑;所述共沸脫水劑為鹵代苯或烷基苯與水不互溶的有機溶劑;
(2):將(1)制備的羥基封端的芳醚酮化合物溶解于極性溶劑,加入等摩爾量NaBH4在攪拌下加熱升溫至100~150℃,反應(yīng)2~12h;反應(yīng)液經(jīng)萃取、洗滌,旋蒸除去溶劑、干燥制得具有如下結(jié)構(gòu)的酚羥基封端的芳醚醇化合物:
其中,為結(jié)構(gòu)單元中一種或幾種;
(3):將(2)制備的酚羥基封端的芳醚醇化合物和計量比的環(huán)氧氯丙烷混合均勻,滴入1~2倍摩爾量質(zhì)量分?jǐn)?shù)為40%的氫氧化鈉溶液,40~60℃下反應(yīng)2~20h;反應(yīng)液經(jīng)萃取、洗滌、旋蒸除去溶劑、干燥制得具有如下結(jié)構(gòu)的環(huán)氧基封端的芳醚醇化合物:
其中,為結(jié)構(gòu)單元、中一種或幾種;
(4):將(3)制備的環(huán)氧基封端的芳醚醇化合物,芳香二異氰酸酯NCO-X-CNO,按摩爾比2:1混合均勻,升溫至60~120℃,反應(yīng)5-12h,制備得具有如下結(jié)構(gòu)的四官能度的芳醚基環(huán)氧化合物:
其中,-X-表示結(jié)構(gòu)單元:中任意一種;其中的芳香二異氰酸酯NCO-X-CNO單體選自對苯二異氰酸酯、2,6-萘二異氰酸酯、4,4’-聯(lián)苯二異氰酸酯、4,4’-二異氰酸酯二苯醚、4,4’-二異氰酸酯二苯硫醚、4,4’-二異氰酸酯二苯酮、4,4’-二異氰酸酯二苯甲烷和2,2’-雙(4-異氰酸酯苯基)丙烷中的任意一種或幾種;
(5):將(4)制備的四官能度的芳醚基環(huán)氧低聚物,混入極性溶劑中,滴加丙烯酸,催化劑和阻聚劑,升溫至60~80℃,反應(yīng)2-12h,制得具有如下結(jié)構(gòu)的四官能度芳醚基環(huán)氧丙烯酸酯化合物:
(6):將納米二氧化硅粒子與巰烷基三甲氧基硅烷混合均勻,加入極性溶劑和帶水劑,加熱到80~120℃反應(yīng)2~20h,產(chǎn)物經(jīng)過濾、洗滌、干燥后制得具有如下結(jié)構(gòu)的巰基改性二氧化硅納米粒子:
其中,-R-為結(jié)構(gòu)單元-CH2-、-CH2-CH2-、-CH2-CH2-CH2-、-CH2-CH2-CH2-CH2-中的一種;其中,表示二氧化硅納米粒子;
所述的巰烷基三甲氧基硅烷選自巰甲基三甲氧基硅烷、巰乙基三甲氧基硅烷、巰丙基三甲氧基硅烷和巰丁基三甲氧基硅烷中的任意一種;所述的極性溶劑為N,N-二甲基甲酰胺(DMF)、N,N-二甲基乙酰胺(DMAc)或二甲基亞砜(DMSO)中任意一種;所述的帶水劑為鹵代苯或烷基苯等與水不互溶的有機溶劑;
(7):將(5)制備的四官能度芳醚基環(huán)氧丙烯酸酯低聚物、和(6)制備的巰基改性二氧化硅納米粒子和紫外光引發(fā)劑用磁攪混合均勻,至紫外光引發(fā)劑溶解,再在超聲振蕩器中超聲2~8h至二氧化硅納米粒子分散均勻,經(jīng)紫外光固化制得高耐磨光固化芳醚基環(huán)氧丙烯酸酯/納米二氧化硅復(fù)合材料。
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