[發明專利]一種玻璃基片真空鍍膜上下片的方法

在審

• 申請號: 201710150355.2
• 申請日: 2017-03-14
• 公開（公告）號: CN106835049A
• 公開（公告）日: 2017-06-13
• 發明（設計）人: 鮑兆臣;張少波;樊黎虎
• 申請（專利權）人: 凱盛科技股份有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35;C23C14/50
• 代理公司: 安徽省蚌埠博源專利商標事務所34113
• 代理人: 陳俊

技術領域

本發明涉及觸摸屏玻璃制造技術領域，具體是一種玻璃基片真空鍍膜上下片的方法。

背景技術

在觸摸屏玻璃制造領域，常常使用磁控濺射鍍膜機對玻璃基片真空鍍膜，而雙面磁控濺射鍍膜機由于同時能夠對兩片玻璃基片進行鍍膜，受到廣泛的應用。

在鍍膜時，一般由兩名操作工分別站在基片架的正反兩面，位于基片架正面的操作工負責正面基片的上下片，位于基片架反面的操作工負責反面基片的上下片，這樣無疑造成了人力資源的浪費；而如果只安排一名操作工，那在對正面玻璃基片上下片之后，需要繞行到基片架的反面，再對反面玻璃基片上下片，如此反復，一方面勞動強度大，另一方面上下片的速度跟不上鍍膜的節拍，影響生產效率。

發明內容

本發明的目的在于提供一種玻璃基片真空鍍膜上下片的方法，該方法能夠使一名操作工對兩面玻璃基片進行上下片操作，同時能夠保證上下片的速度，提高人員的利用率。

本發明解決其技術問題所采用的技術方案是：

一種玻璃基片真空鍍膜上下片的方法，包括以下步驟：

a、在基片架底部設置旋轉底座，使基片架能夠在旋轉底座上水平自由旋轉；

b、對基片架的正面進行正面玻璃基片的上片操作，然后將基片架在旋轉底座上旋轉180°，再對基片架的反面進行反面玻璃基片的上片操作；

c、將上片后的基片架送入雙面磁控濺射鍍膜機進行正反面鍍膜；

d、鍍完膜的基片架由雙面磁控濺射鍍膜機出口回轉運送到上下片區，對基片架正面的玻璃基片進行下片操作，然后將基片架在旋轉底座上旋轉180°，再對基片架反面的玻璃基片進行下片操作；

e、重復步驟b～d，實現在真空鍍膜工藝中對玻璃基片的上下片。

本發明的有益效果是，安排一名操作工位于上下片區，在對基片架的正面上下片后，將基片架在旋轉底座上旋轉180°即可對基片架反面進行上下片，無需再繞行到基片架反面，節省了人力的同時，能夠保證上下片的速度，降低勞動強度。

附圖說明

下面結合附圖和實施例對本發明進一步說明：

圖1是本發明的上片示意圖；

圖2是本發明的下片示意圖；

圖3是本發明中基片架的示意圖。

具體實施方式

結合圖1～圖3所示，本發明提供一種玻璃基片真空鍍膜上下片的方法，包括以下步驟：

a、在基片架1底部設置旋轉底座2，使基片架1能夠在旋轉底座2上水平自由旋轉，旋轉底座2采用常規帶轉軸的底座即可；

b、對基片架1的正面進行正面玻璃基片3的上片操作，然后將基片架1在旋轉底座2上旋轉180°，再對基片架1的反面進行反面玻璃基片4的上片操作；

c、將上片后的基片架1送入雙面磁控濺射鍍膜機5進行正反面鍍膜；

d、鍍完膜的基片架1由雙面磁控濺射鍍膜機5出口回轉運送到上下片區，對基片架1正面的玻璃基片進行下片操作，然后將基片架1在旋轉底座上旋轉180°，再對基片架1反面的玻璃基片進行下片操作；

e、重復步驟b～d，實現在真空鍍膜工藝中對玻璃基片的上下片。

以上所述，僅是本發明的較佳實施例而已，并非對本發明作任何形式上的限制；任何熟悉本領域的技術人員，在不脫離本發明技術方案范圍情況下，都可利用上述揭示的方法和技術內容對本發明技術方案做出許多可能的變動和修飾，或修改為等同變化的等效實施例。因此，凡是未脫離本發明技術方案的內容，依據本發明的技術實質對以上實施例所做的任何簡單修改、等同替換、等效變化及修飾，均仍屬于本發明技術方案保護的范圍內。