[發(fā)明專利]一種多層陶瓷內(nèi)部界面的制備方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201710149646.X | 申請日: | 2017-03-14 |
| 公開(公告)號: | CN106927822A | 公開(公告)日: | 2017-07-07 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 王一平;鄭炳金;楊穎;姚靖懿;盛云 | 申請(專利權(quán))人: | 南京航空航天大學(xué) |
| 主分類號: | C04B35/493 | 分類號: | C04B35/493;C04B41/88;H02N2/00 |
| 代理公司: | 江蘇圣典律師事務(wù)所32237 | 代理人: | 賀翔 |
| 地址: | 210016 江*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 多層 陶瓷 內(nèi)部 界面 制備 方法 | ||
1.一種多層陶瓷內(nèi)部界面的制備方法,其特征在于,包括:
步驟(1),將原料按照預(yù)設(shè)的比例稱量,并放入行星式球磨機中進行一次球磨,從而混合原料,其中,所述原料包括氧化鉛(PbO)、氧化鋅(ZnO)、氧化銅(CuO)、二氧化鋯(ZrO2)、二氧化鈦(TiO2)、二氧化錳(MnO2)、三氧化二銻(Sb2O3)、五氧化二鈮(Nb2O5);所述預(yù)設(shè)的比例按照四元系PZT基壓電陶瓷的化學(xué)式配比,所述四元系PZT基壓電陶瓷的化學(xué)式為:
0.90Pb(Zr0.48Ti0.52)O3-0.05Pb(Mn1/3Sb2/3)O3-0.05Pb(Zn1/3Nb2/3)O3;
步驟(2),將經(jīng)過步驟(1)混合好的原料放入模具中壓制成柱狀,再將壓制后的原料放入馬弗爐中以100℃/h的速度升溫至850℃,并在850℃保溫4h;
步驟(3),向經(jīng)過步驟(2)處理的原料添加1wt%的助燒結(jié)劑CuO,并再放入行星式球磨機中進行二次球磨;
步驟(4),將經(jīng)過步驟(3)處理的原料放入振動篩中;
步驟(5),配制稀釋劑;
步驟(6),將經(jīng)過步驟(4)處理的原料和所述稀釋劑添加到ESL903-A內(nèi)電極銀漿中,制成內(nèi)電極銀漿,再利用200目的絲網(wǎng)將所述內(nèi)電極銀漿印刷在陶瓷生片上;
步驟(7),將經(jīng)過步驟(6)處理的陶瓷生片,按照插指型結(jié)構(gòu)堆疊,再進行熱壓,其中,進行熱壓時所使用的熱壓溫度為70℃,熱壓壓力為15Mpa;
步驟(8),將經(jīng)過步驟(7)處理的陶瓷生片放置在經(jīng)過步驟(3)處理的原料中,并進行埋燒,從而完成所述陶瓷生片中的多層陶瓷內(nèi)部界面的制備。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,所述稀釋劑由松油醇和乙基纖維素按照質(zhì)量比為94:6配制而成。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,所述步驟(4),包括:
將經(jīng)過步驟(3)處理的原料放入600目的振動篩中,將所述經(jīng)過步驟(3)處理的原料的粒徑控制在小于23μm的尺寸。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,在所述步驟(6)中:
所述經(jīng)過步驟(4)處理的原料在所述內(nèi)電極銀漿中的添加量,大于等于30%且小于等于40%。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其特征在于,在所述步驟(8)中,還包括:
在進行埋燒之前,在所述經(jīng)過步驟(7)處理的陶瓷生片上負重預(yù)設(shè)的重量,其中,在所述經(jīng)過步驟(7)處理的陶瓷生片的層數(shù)小于等于20層時,所述預(yù)設(shè)的重量為:每平方毫米負重0.1875克。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法,其特征在于,在所述步驟(6)中:
所述將經(jīng)過步驟(4)處理的原料和所述稀釋劑添加到ESL903-A內(nèi)電極銀漿中,制成內(nèi)電極銀漿,包括:
所述經(jīng)過步驟(4)處理的原料與內(nèi)電極銀漿ESL903-A按照指定的質(zhì)量比進行配比;
向配比后的混合物章添加所述稀釋劑。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法,其特征在于,所述指定的質(zhì)量比大于1:10且小于6:10。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法,其特征在于,所述指定的質(zhì)量比為1:10;
或者,所述指定的質(zhì)量比為6:10。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于南京航空航天大學(xué),未經(jīng)南京航空航天大學(xué)許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201710149646.X/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。





